劉鑫妍，孫冠偉，劉 喆，孟凡源，蘇仕健

(華南理工大學(xué) 材料科學(xué)與工程學(xué)院，廣東 廣州 510640)

1 引 言

1992年，Hong等人制備了第一個(gè)準(zhǔn)二維鈣鈦礦LED，但因?yàn)殁}鈦礦內(nèi)部很強(qiáng)的激子-聲子耦合作用，所以該器件只能在低溫下制備和點(diǎn)亮[9]，鈣鈦礦LED的發(fā)展因此低迷了很久。2014年，Ten等人制備了第一個(gè)可以在室溫下點(diǎn)亮的有機(jī)鹵化物鈣鈦礦LED，但也因?yàn)槠漭^差的成膜性以及高比例的缺陷態(tài)非輻射復(fù)合效應(yīng)導(dǎo)致其EQE只有0.76%[10]。此后，大量方法應(yīng)用于提高鈣鈦礦LED效率，比如制備具有量子限域效應(yīng)和能級(jí)漏斗效用的準(zhǔn)二維鈣鈦礦結(jié)構(gòu)，使用有機(jī)物鈍化鈣鈦礦晶體以提高激子束縛能，或在旋涂成膜時(shí)利用反溶劑改善薄膜質(zhì)量等[11-13]。基于此，鈣鈦礦LED取得巨大進(jìn)步，在綠光、紅光及近紅外方面，EQE均取得超過20%的成績(jī)，對(duì)于藍(lán)光LED，EQE也已經(jīng)超過10%[14]。

雖然鈣鈦礦LED已經(jīng)取得了優(yōu)異的成果，但是，三維鈣鈦礦在旋涂成膜過程中，由于溶劑揮發(fā)和晶體生長(zhǎng)同時(shí)進(jìn)行，導(dǎo)致鈣鈦礦晶粒較大且薄膜質(zhì)量較差這一問題仍舊存在[13]。為了克服這一缺點(diǎn)，大部分研究者使用不良溶劑加速原溶劑揮發(fā)獲得小晶粒的鈣鈦礦薄膜。但是，反溶劑工程需要嚴(yán)格掌控滴落時(shí)間，且器件重復(fù)性較差[15-16]。因此，本文提出利用有機(jī)添加劑EAI在旋涂成膜的過程中鈍化鈣鈦礦，減小晶粒尺寸，從而獲得高質(zhì)量高覆蓋率的鈣鈦礦薄膜。在研究了不同EAI摻雜比例的鈣鈦礦薄膜形貌和光學(xué)性質(zhì)的基礎(chǔ)上，制備出相應(yīng)的深紅光鈣鈦礦LED，最大EQE為7%。

2 實(shí) 驗(yàn)

2.1 實(shí)驗(yàn)材料

本文所用的碘化銫(CsI，99.5%)、溴化鉛(PbBr2，99.5%)、碘化鉛(PbI2，99.5%)和乙胺碘(EAI，99.5%)購(gòu)買于西安寶萊特光電科技有限公司。N’N-二甲基甲酰胺(DMF，99.8%)和氯苯(CB，99.9%)購(gòu)買于Aldrich。聚(9-乙烯咔唑)(PVK，M.W.)購(gòu)買于梯希愛(上海)化成工業(yè)發(fā)展有限公司(TCI)。1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯(TPBI)購(gòu)買于機(jī)光科技股份有限公司。所有的材料在購(gòu)買后無需進(jìn)行純化，可直接使用。蒸鍍?cè)O(shè)備(FS300-S12)購(gòu)買于蘇州方昇光電科技有限公司。

2.2 制備鈣鈦礦前驅(qū)體溶液

首先在1 mL 的DMF中加入1 mmol的CsI、0.25 mmol的PbBr2和0.75 mmol的PbI2，在60 ℃下加熱攪拌12 h，得到透明的黃色溶液。把EAI用DMF溶解，其濃度為1 mol/L。按照摩爾比例EAI∶Pb2+=x∶1(x=0，0.2，0.4，0.5，0.6，0.8)分別將EAI摻雜進(jìn)鈣鈦礦前驅(qū)體溶液中，隨后用DMF稀釋保證所有溶液中Pb2+的濃度為0.13 mol/L。將得到的前驅(qū)體溶液加熱至60 ℃并攪拌12 h。

2.3 制備鈣鈦礦LED

ITO玻璃基板(厚度95 nm，方阻15～20 Ω/□)的清洗方法與已報(bào)道的文獻(xiàn)類似[17-18]，用丙酮、異丙醇、洗液、去離子水、異丙醇依次超聲清洗，每次20 min，結(jié)束后放入烘箱烘干。在使用ITO基板前，需做氧氣等離子表面處理以去除雜質(zhì)且提高ITO功函數(shù)。把處理干凈的ITO送入氮?dú)夥諊氖痔紫鋬?nèi)(水<0.1×10-6，氧<0.1×10-6)，旋涂溶劑為CB的PVK溶液(8 mg/mL)作為空穴傳輸層，在150 ℃下退火20 min。待其冷卻到室溫，旋涂不同EAI摻雜比例的鈣鈦礦前驅(qū)體溶液，在80 ℃下退火40 s。溶液加工制備的薄膜厚度均使用Tencor Alfa-Step 500臺(tái)階儀測(cè)量。

將上述ITO基板轉(zhuǎn)移到真空蒸鍍?cè)O(shè)備中，待真空值小于3×10-4Pa，選用合適的掩膜板，依次沉積55 nm的電子傳輸層TPBI，1.2 nm的電子注入層氟化銫(CsF)和120 nm的陰極鋁。蒸鍍的速度分別為0.15 nm/s、0.008 nm/s和0.4 nm/s。真空鍍膜所測(cè)量的厚度由石英晶振膜厚儀檢測(cè)(SQC-310，INFICON)。蒸鍍結(jié)束取出器件后，用環(huán)氧樹脂密封膠和載玻片封裝器件有效工作區(qū)域，并用紫外(UV)固化機(jī)進(jìn)行固化包封，防止器件氧化變質(zhì)。器件的有效發(fā)光面積為10 mm2。

2.4 器件表征

對(duì)于鈣鈦礦發(fā)光層的表征方法如下：X射線衍射(XRD)使用德國(guó)布魯克公司的D8 ADVANCE，用來表征鈣鈦礦發(fā)光層的晶體結(jié)構(gòu)(掃描范圍為3～30°)；紫外-可見光(UV-Vis)吸收光譜使用HP-8453分光光度計(jì)采集；光致發(fā)光(PL)光譜使用Jobin-Yvon熒光光譜儀；鈣鈦礦薄膜的粗糙程度使用原子力顯微鏡(AFM)觀測(cè)(本原有限公司，BY3000)；掃描電子顯微鏡(SEM)圖譜使用JEOL JSM-7500F系統(tǒng)，觀察鈣鈦礦薄膜表面形貌與質(zhì)量；時(shí)間分辨PL(TRPL)光譜使用Edinburgh FL980熒光光譜儀(光源：371.6 nm激光，型號(hào)：EPL-375；脈沖寬度：68.8 ps)。光致發(fā)光效率(PLQY)使用商業(yè)化的集成海洋光學(xué)光纖光譜儀，利用365 nm LED作為激發(fā)光源。

對(duì)于鈣鈦礦LED的表征方法如下：電流密度-電壓-亮度(J-V-L)特征曲線、電致發(fā)光(EL)光譜、CIE色度坐標(biāo)和EQE均由Keithley 2450源表和Photo Research PR-745采集。

3 結(jié)果與討論

3.1 鈣鈦礦晶體結(jié)構(gòu)

鈣鈦礦結(jié)構(gòu)通式為ABX3，如圖1所示，A(紅色)位于晶胞的8個(gè)頂點(diǎn)，B(黃色)位于晶胞的體心，X(藍(lán)色)位于晶胞的6個(gè)面心，BX6形成了一個(gè)正八面體。在保證鈣鈦礦穩(wěn)定性前提下，它的結(jié)構(gòu)可調(diào)性使得其具有很多優(yōu)異的性能。通常，我們使用容忍因子t和八面體因數(shù)μ來描述其晶體結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性，如式(1)和式(2)所示。

圖1 鈣鈦礦的結(jié)構(gòu)Fig.1 Schematic diagram of perovskite structure

(1)

(2)

式中，RA、RB、RX分別為粒子的半徑。通常認(rèn)為，對(duì)于一個(gè)穩(wěn)定優(yōu)良的三維(3D)鈣鈦礦晶體來說，t和μ要滿足的條件為：0.81 ≤t≤ 1.0且0.44 ≤μ ≤ 0.90。本文所選用的鈣鈦礦主體材料CsPbBr0.5I2.5中各粒子半徑為：Cs+：0.167 nm、Pb2+：0.119 nm、Br-：0.196 nm和I-：0.220 nm，經(jīng)計(jì)算得到相應(yīng)的t= 0.81和μ= 0.55，均符合穩(wěn)定的3D鈣鈦礦。利用XRD對(duì)鈣鈦礦的晶體結(jié)構(gòu)進(jìn)行測(cè)試，將鈣鈦礦薄膜直接旋涂在干凈的硅片上面，測(cè)試結(jié)果如圖2所示。

圖2 摻雜不同EAI摩爾比例的鈣鈦礦薄膜的XRD圖譜Fig.2 XRD spectra of the perovskite films doped with different EAI molar ratios

從XRD圖中可以看出，隨著EAI摻雜濃度的提高，衍射峰逐漸增強(qiáng)，且當(dāng)EAI∶Pb2+摩爾比例為0.5∶1時(shí)，衍射峰峰值最大，說明EAI在鈍化鈣鈦礦的同時(shí)可以極大地提高其結(jié)晶度，這有利于鈣鈦礦晶粒生長(zhǎng)，從而得到性能優(yōu)良的器件。而當(dāng)EAI摻雜比例提高(如x=0.8時(shí))，XRD的衍射峰強(qiáng)度下降，這是由于過多的有機(jī)添加劑EAI包裹在鈣鈦礦晶體表面，掩蓋掉部分衍射峰強(qiáng)度所導(dǎo)致的現(xiàn)象。利用EAI鈍化的CsPbBr0.5I2.5鈣鈦礦從屬于CsPbI3(PDF#18-0376) Pmnb(62)晶型，從左到右的2θ衍射峰角度依次為：10.03°、13.16°、17.29°、21.09°、21.90°、22.82°、25.88°、26.66°和27.28°，分別歸屬的晶面為：(011)、(012)、(013)、(111)、(014)、(112)、(121)、(015)和(122)，因此鈍化后的鈣鈦礦保留了原有的三維結(jié)構(gòu)，此外可以發(fā)現(xiàn)在XRD圖譜中，衍射峰與標(biāo)準(zhǔn)PDF卡片相比稍向右移動(dòng)，這是因?yàn)楸疚牡拟}鈦礦中摻入少量粒子半徑小于碘的溴元素，以實(shí)現(xiàn)深紅光發(fā)射，導(dǎo)致鈣鈦礦晶格變小[19]。

3.2 鈣鈦礦薄膜的光學(xué)性質(zhì)

UV光譜和PL光譜被用來研究不同EAI摻雜比例的鈣鈦礦薄膜的光學(xué)性質(zhì)，如圖3所示。該測(cè)試是把鈣鈦礦薄膜旋涂在干凈的石英片上進(jìn)行的，可以看到，所有鈣鈦礦薄膜的吸收邊均在680 nm左右，為標(biāo)準(zhǔn)的三維結(jié)構(gòu)鈣鈦礦的吸收波長(zhǎng)[20]。對(duì)PL圖譜和365 nm光致激發(fā)的薄膜照片研究發(fā)現(xiàn)，不摻EAI的本體鈣鈦礦發(fā)光非常弱，發(fā)光峰為674 nm，在摻雜比例為0.5時(shí)，PL發(fā)光峰紅移到684 nm，我們推測(cè)這是由于EAI摻雜比例提高，增加的碘離子彌補(bǔ)了之前的鈣鈦礦鹵素空位。而繼續(xù)增加EAI的比例，PL發(fā)光峰反而藍(lán)移，這是由于有機(jī)添加劑可能作為大尺寸陽(yáng)離子基團(tuán)包裹在晶粒表面，提高鈣鈦礦的量子限域效應(yīng)，這在后續(xù)的SEM圖也可以得到驗(yàn)證。當(dāng)摻雜比例為0.5時(shí)，得到最大的光致發(fā)光效率為28%，較高的PLQY也有助于實(shí)現(xiàn)性能優(yōu)良的鈣鈦礦LED。

圖3 摻雜不同EAI摩爾比例的鈣鈦礦薄膜的(a)UV光譜；(b)PL光譜；(c)365 nm激發(fā)光源下的發(fā)光照片和(d)PLQY與摻雜比例的關(guān)系圖。Fig.3 (a) UV-Vis absorption spectra；(b) PL spectra；(c) luminescence photograph under 365 nm excitation light source and (d) PLQY versus EAI doping ratio characteristics of the perovskite films doped with different EAI molar ratios.

為了進(jìn)一步探究EAI鈍化鈣鈦礦晶?？梢蕴岣弑∧す庵掳l(fā)光效率的原因，通過使用TRPL光譜對(duì)其中的激子復(fù)合動(dòng)力學(xué)進(jìn)行研究，對(duì)實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)使用三指數(shù)衰減模型進(jìn)行擬合，公式如下：

I=A1e-t/τ1+A2e-t/τ2+A3e-t/τ3，

(3)

式中,Ai、t和τi分別是分布系數(shù)、測(cè)量時(shí)間和激發(fā)態(tài)的壽命，然后利用Ai和τi對(duì)激子的平均壽命(τavg)進(jìn)行計(jì)算，公式如下：

(5)

激發(fā)態(tài)的壽命比例ri計(jì)算為：

(5)

式中，PL壽命被分為短壽命τ1、τ2和長(zhǎng)壽命τ3，分別對(duì)應(yīng)快速延遲和慢延遲成分，快速延遲成分歸屬于缺陷態(tài)輔助復(fù)合過程，慢延遲成分的τ3則歸屬于鈣鈦礦內(nèi)部自由載流子的輻射復(fù)合過程。因?yàn)楸倔w鈣鈦礦發(fā)光非常弱，儀器無法測(cè)得其對(duì)應(yīng)光譜。測(cè)試得到的圖譜如圖4所示，擬合得到的壽命參數(shù)見表1。

圖4 摻雜不同EAI摩爾比例的鈣鈦礦薄膜的TRPL光譜Fig.4 Time-resolved PL decay curves of the perovskite films doped with different EAI molar ratios

可以看出，EAI的摻雜對(duì)載流子復(fù)合動(dòng)力學(xué)有明顯影響，經(jīng)過EAI鈍化后的鈣鈦礦材料τave明顯提高，由最初的26.2 ns增大為69 ns，這表明EAI的鈍化作用可以降低鈣鈦礦晶粒內(nèi)部的非輻射復(fù)合概率。再繼續(xù)增加EAI的摻雜濃度，過量的EAI會(huì)導(dǎo)致有機(jī)配體的聚集現(xiàn)象，在SEM圖中能看到摻雜濃度為0.8的鈣鈦礦晶粒明顯增大，薄膜形貌變差，缺陷態(tài)增多，所以相應(yīng)的激子壽命和光致發(fā)光量子效率都會(huì)降低。

表1 摻雜不同EAI摩爾比例的鈣鈦礦薄膜的短壽命(τ1)(τ2)、長(zhǎng)壽命(τ3)和平均壽命(τavg)Tab.1 Summary of the short lifetime (τ1),(τ2),long lifetime (τ3) and average lifetime (τavg) of the perovskite films doped with different EAI molar ratios.

3.3 鈣鈦礦薄膜的形貌

AFM和SEM測(cè)試被用來觀測(cè)EAI摻雜對(duì)鈣鈦礦薄膜形貌和晶粒尺寸的影響，把鈣鈦礦薄膜制備成ITO/ PVK/ perovskite這樣的結(jié)構(gòu)進(jìn)行測(cè)試，如圖5(a)和5(b)所示，從AFM圖中可以看出，沒有摻雜EAI的鈣鈦礦薄膜表面粗糙度較大約為5 nm，而當(dāng)摻雜比例增加到0.5時(shí)，粗糙度明顯減小為0.85 nm，此時(shí)鈣鈦礦薄膜表面光滑平整且無針孔。利用SEM觀察鈣鈦礦晶粒，可以從圖5(b)中明顯發(fā)現(xiàn)，在摻雜濃度為0～0.2時(shí)，鈣鈦礦晶粒非常大并且薄膜覆蓋率低，因此其光學(xué)性能較差。當(dāng)摻雜比例為0.4～0.6時(shí)，鈣鈦礦晶粒尺寸顯著減小，鈣鈦礦薄膜的表面覆蓋率得到有效改善。持續(xù)增加EAI的摻雜比例可以看到，AFM圖譜中的粗糙度增加，并且SEM圖譜中的鈣鈦礦晶粒尺寸變大，這是因?yàn)檫^量的EAI會(huì)產(chǎn)生有機(jī)配體聚集現(xiàn)象，無法與鈣鈦礦形成配位，所以晶粒尺寸增加，薄膜的形貌變差。

圖5 摻雜不同EAI摩爾比例的鈣鈦礦薄膜(a) AFM、(b)SEM圖和(c)晶粒尺寸分布直方圖Fig.5 (a) AFM images,(b)SEM images and (c) grain size distribution histogram of the perovskite films doped with different EAI molar ratios.

為了準(zhǔn)確得到鈍化后的鈣鈦礦晶粒尺寸，在SEM圖中得到了尺寸統(tǒng)計(jì)直方圖[21]，如圖5(c)所示。值得注意的是，該圖沒有摻雜比例為0和0.2的數(shù)據(jù)，因?yàn)樵诘蛽綍r(shí)，晶粒尺寸非常大，約為幾百納米，用直方圖表示沒有太大意義。從圖5(c)可以看出，在摻雜比為0.5時(shí)，有機(jī)添加劑EAI能顯著限制3D鈣鈦礦晶粒增長(zhǎng)，其尺寸約為40 nm，這種小晶粒的鈣鈦礦能有效地限制激子遷移。從以上鈣鈦礦薄膜表征可以得到，利用有機(jī)添加劑EAI可以改善薄膜質(zhì)量、減少激子分離和激子在晶粒邊界上的淬滅現(xiàn)象，同時(shí)提高激子輻射復(fù)合比例[22]。

3.4 鈣鈦礦LED

利用基于EAI摻雜得到的具有優(yōu)異性能的鈣鈦礦薄膜進(jìn)行了鈣鈦礦LED的制備，并通過各種表征以探究?jī)?nèi)部機(jī)理。制備的鈣鈦礦電致發(fā)光器件結(jié)構(gòu)為(圖6(a))：ITO (90 nm)/ PVK (30 nm)/ perovskite (40 nm)/ TPBi (55 nm)/ CsF (1.2 nm)/ Al (120 nm)，ITO為陽(yáng)極，CsF /Al為陰極，PVK和TPBi為空穴傳輸層和電子傳輸層。深紅光鈣鈦礦電致發(fā)光器件的性能如圖6和表2所示。需要指出的是，本文對(duì)本體和摻雜比例為0.2的鈣鈦礦發(fā)光層器件也進(jìn)行了研究，但是并沒有得到數(shù)據(jù)，這可能是因?yàn)槠浔∧じ采w率極低導(dǎo)致的。

圖6 (a)鈣鈦礦LED的結(jié)構(gòu)圖；摻雜不同EAI摩爾比例的鈣鈦礦LED的(b)電流密度(J)-電壓(V)-亮度(L)特性；(c)外量子效率(EQE)-電流密度(J)特性；(d)電致發(fā)光(EL)光譜圖。Fig.6 (a) Device structure of perovskite LED；(b) Current density (J) and luminance (L) versus voltage (V)；(c) external quantum efficiency (EQE) versus current density (J) characteristics and (d) electroluminescence (EL) spectra of the perovskite LEDs doped with different EAI molar ratios.

表2 摻雜不同EAI摩爾比例的鈣鈦礦LEDs性能Tab.2 Summary of the device performance with different EAI molar ratios of the perovskite LEDs

從EL圖譜看到，所有鈣鈦礦LED的發(fā)光峰均在680 nm左右，半峰寬為40 nm，且CIE坐標(biāo)為(0.71，0.28)，從EL照片中也可以看到這些鈣鈦礦器件發(fā)射的是高色純度的深紅光。從電流密度-電壓-亮度曲線可以看到，鈣鈦礦LED的漏電流很小，說明EAI的摻雜可有效改善薄膜質(zhì)量。當(dāng)摻雜比例為0.4～0.5時(shí)，從曲線得知有明顯的電流注入，因而其性能較好。在圖6(c)的外量子效率-電流密度圖譜中得到本文的深紅光LED最大外量子效率為7%，相對(duì)較低摻雜比例的器件其性能有非常大的提升，說明通過EAI的鈍化作用而減小晶粒尺寸，激子被很好地限制在鈣鈦礦中。此外，EAI的添加改善了鈣鈦礦薄膜質(zhì)量，這些措施都有助于提高鈣鈦礦LED的電致發(fā)光效率。同時(shí)我們發(fā)現(xiàn)，摻雜比例為0.5的器件亮度小于摻雜比例為0.4的器件亮度，這是由于有機(jī)添加劑EAI會(huì)導(dǎo)致鈣鈦礦薄膜的介電常數(shù)增大，從而影響激子復(fù)合過程，降低了器件的亮度。

為了驗(yàn)證本實(shí)驗(yàn)的重復(fù)性，對(duì)50個(gè)EAI摻雜比例為0.5的器件進(jìn)行外量子效率-電流密度的測(cè)試，得到其最大EQE，整理成直方圖分布如圖7所示。該效率成正態(tài)分布，平均EQE為5.6%，相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差(RSD)為7.9%，說明本實(shí)驗(yàn)制備的深紅光鈣鈦礦LED的重復(fù)性較高。

圖7 EAI摻雜比例為0.5∶1的50個(gè)鈣鈦礦LED的EQE分布直方圖Fig.7 EQE distribution histogram of 50 perovskite LEDs with the EAI doping ratio of 0.5∶1.

4 結(jié) 論

本文利用有機(jī)添加劑EAI鈍化本體鈣鈦礦材料CsPbBr0.5I2.5，通過調(diào)控不同摻雜比例來研究鈣鈦礦薄膜的晶體結(jié)構(gòu)、光學(xué)性質(zhì)和表面形貌，發(fā)現(xiàn)有機(jī)添加劑EAI可以在一步旋涂成膜時(shí)阻止鈣鈦礦生長(zhǎng)，因而減小鈣鈦礦晶粒尺寸，由最初的幾百納米減小到40 nm，使激子束縛在小晶粒鈣鈦礦內(nèi)，減少非輻射復(fù)合。并且EAI還可以提高鈣鈦礦結(jié)晶度和薄膜覆蓋程度。因此采用這種方法制備的深紅光鈣鈦礦LED性能大幅提升，最大外量子效率為7%，同時(shí)具有較好的重復(fù)性。本文探索了一種有效控制鈣鈦礦晶粒尺寸的辦法，并制備出工藝簡(jiǎn)單、重復(fù)性較好和效率較高的深紅光鈣鈦礦LED，在鈣鈦礦電致發(fā)光領(lǐng)域進(jìn)行了有意義的探索。