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水體中的氟大多以離子態(tài)的形式存在,由于F的高電負性,容易獲得電子并與許多金屬元素配位,尤其是具有空軌道的過渡金屬,如Al3+、Fe3+、Zr4+、Ti4+等,這些離子容易得到F-提供的共用電子對而生成穩(wěn)定的絡合離子,也可與其他某些離子形成共價鍵或沉淀物,如Ca[SiF6]、Ca5(PO4)3F、CaF2等。
無機工業(yè)中氟的去處通常采用化學沉淀法(加入鈣劑,但此法不能進行深度除氟)、吸附法(常用樹脂進行動態(tài)吸附,用于低濃度氟的深度脫除)等[1]。
氫氧化鋯是一種新型氟離子吸附劑,其交換容量較大,不溶于水,使用簡單,本文主要對氫氧化鋯用于不同氟濃度的硫酸鎳結(jié)晶母液的深度除氟效果進行研究。
氫氧化鋯是一種不溶于水、堿性稍強的兩性氫氧化物,無需預處理,且相對吸附容量大,可重復使用[2]。其除氟機理主要為氫氧化鋯的羥基和溶液中的氟離子發(fā)生離子交換,生成的絡合物H2[ZrF6]不溶于水,固液分離后可將氟離子去除,氟的吸附與解吸化學反應分別如下。
實驗原料和設備。實驗原料為不同氟濃度的硫酸鎳結(jié)晶母液(1#、2#為向0#中加入一定量的分析純氟化鈉,再加入少量硫酸回調(diào)pH而得)、氫氧化鋯、98%濃硫酸、50%液堿,主要原料成分如表1、表2。
表1 結(jié)晶母液(g/L)
表2 氫氧化鋯(%)
說明:表1中結(jié)晶母液0~2#的Co、Mn、Fe濃度均低于1mg/L,氫氧化鋯中Ni、Co、Mn、Fe含量低于5ppm。
主要設備為:燒杯、攪拌、恒溫水浴鍋、抽濾真空泵、布式漏斗。
為研究氫氧化鋯的除氟效果和極限,向200ml結(jié)晶母液0#中加入不同量的氫氧化鋯,攪拌轉(zhuǎn)速350r/min,常溫下攪拌反應2h,固液分離,取除氟后液分析,實驗條件及除氟效果如表3。
表3 不同用量的除氟效果
由表3可知,隨著氫氧化鋯用量的增加,氟的去除率逐漸增大,當用量為20g/L~40g/L時,氟由0.17g/L降至41mg/L~1.7mg/L,繼續(xù)增加用量至59.7g/L,氟去除率高達99.71%,氟濃度降低至0.5mg/L,同時鎳離子濃度基本不變,由此可知,氫氧化鋯可用于結(jié)晶母液0#的深度除氟,同時不引入雜質(zhì)離子且不對主金屬離子濃度產(chǎn)生影響[3]。
向1L結(jié)晶母液0#中加入25g氫氧化鋯,常溫反應0.5h~2h,分別在不同時間段取等體積漿體,固液分離,分析除氟后液成分,考察不同時間下的除氟效果,實驗條件及除氟效果如表4。
表4 不同反應時間下的除氟效果
由表4可知,隨著反應時間的延長,體系終點pH逐漸增大,當反應0.5h時,除氟率達84.71%,繼續(xù)延長反應時間,除氟率緩慢增大至90%,反應1h~2h時氟去除率保持穩(wěn)定,故最佳反應時間為1h。
在不同溫度下(借助恒溫水浴鍋),分別向200ml結(jié)晶母液0#中加入5g氫氧化鋯,反應1h,固液分離,取除氟后液分析成分,實驗條件及除氟效果如表5。
表5 不同溫度的除氟效果
由表5可知,在25℃~80℃內(nèi),隨著溫度的升高,氫氧化鋯對氟的去除率無明顯影響,均保持在90%左右,故常溫即可。
綜上所述,結(jié)晶母液0#的最佳除氟條件為:氫氧化鋯用量25g/L,常溫,時間為1h。
為檢驗氫氧化鋯對高濃度含氟硫酸鎳是否具有深度除氟效果,基于上述最佳條件,分別向200ml結(jié)晶母液1#、2#中加入100g/L、120g/L氫氧化鋯,在常溫下反應1h后固液分離,除氟效果如表6。
表6 高濃度氟的單級除氟效果
由表6可知,隨著氫氧化鋯用量的增加,氟的去除率緩慢增大。對于1#結(jié)晶母液,當氫氧化鋯用量為120g/L時,氟的去除率可達99.91%,氟濃度降低至0.9mg/L;對于2#結(jié)晶母液,在同等條件下,氟的去除率達95.20%,氟濃度降低至0.24g/L。
由于氫氧化鋯用量較大,故考慮分級除氟。常溫下,以100g/L的氫氧化鋯用量均分成3份分別加入到1L結(jié)晶母液1#、2#中,考察氫氧化鋯的三級除氟效果,除氟效果如表7。
表7 高濃度氟的多級除氟效果
由表7可知,隨著級數(shù)增加,氟的去除率逐漸增大,對比表6,在氫氧化鋯用量同為100g/L條件下,三級除氟效果明顯優(yōu)于單級除氟,甚至兩級除氟(67g/L)就可達到比100g/L單次除氟更優(yōu)的效果,且分級有利于深度除氟,由此說明氫氧化鋯對不同氟濃度均可深度脫除。
向5L結(jié)晶母液0#中加入125g氫氧化鋯,在最優(yōu)條件下反應,固液分離,以水洗滌夾帶離子,加入1倍濕基量的水,以50%的液堿調(diào)節(jié)pH,控制pH為10.5~11.5,常溫下以350r/min的轉(zhuǎn)速攪拌反應1h,再以水進行3級洗鈉,每次洗鈉的水量為濕基的3倍,洗鈉后的氫氧化鋯不經(jīng)干燥直接用于結(jié)晶母液0#進行第二次除氟,二次除氟完成后繼續(xù)洗滌、解吸、洗鈉等,重復上述步驟至第4次除氟,除氟條件及除氟效果如表8。
表8 再生后氫氧化鋯除氟條件及除氟效果
由表8可知,再生后的氫氧化鋯對結(jié)晶母液0#仍有較好的除氟性能,經(jīng)三次再生后,氫氧化鋯的除氟性能基本保持穩(wěn)定,在相同條件下,對于0.17g/LF-的結(jié)晶母液0#,氟的去除率保持在82%以上。
綜上所述,氫氧化鋯可對硫酸鎳體系深度除氟,且可再生與多次使用。
(1)一定條件下,氫氧化鋯對不同氟濃度的硫酸鎳體系均可深度除氟,氟去除率高于99.9%,同時幾乎不引入雜質(zhì)離子。
(2)氫氧化鋯的除氟性能與前液中的氟濃度不成線性關(guān)系。
(3)氫氧化鋯經(jīng)除氟后可再生,且經(jīng)多次再生后除氟性能仍可保持在第一次除氟能力的90%左右。鑒于氫氧化鋯優(yōu)良的除氟及再生后性能,或?qū)⒂糜谄渌I(lǐng)域或高濃度氟的脫除。