姜東旭,孫寶玉,李迎春,林潔瓊,王冬雪,王文攀
(1.長(zhǎng)春工業(yè)大學(xué),吉林 長(zhǎng)春 130012;2.中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所,吉林 長(zhǎng)春 130033)
隨著光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)技術(shù)的發(fā)展,純球面系統(tǒng)已經(jīng)不能滿足使用需求,因此采用非球面光學(xué)系統(tǒng)已經(jīng)成為光學(xué)設(shè)計(jì)發(fā)展的主要趨勢(shì)[1-3]。機(jī)載相機(jī)是現(xiàn)代化空間數(shù)據(jù)獲取的重要手段之一,因?yàn)槠渑臄z視野廣,拍攝距離遠(yuǎn),適應(yīng)性強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)被廣泛應(yīng)用于工農(nóng)業(yè)和軍事領(lǐng)域。機(jī)載相機(jī)與非球面光學(xué)系統(tǒng)的結(jié)合不僅可以增強(qiáng)相機(jī)適用性,同時(shí)在一定程度上還可以降低光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)的復(fù)雜程度。機(jī)載相機(jī)工作過程中,實(shí)際環(huán)境的溫度以及相機(jī)的機(jī)械結(jié)構(gòu)都會(huì)對(duì)光學(xué)系統(tǒng)產(chǎn)生不可忽略的影響。因此,對(duì)于實(shí)際工作環(huán)境下的光學(xué)系統(tǒng),分析其溫度場(chǎng)以及機(jī)械結(jié)構(gòu)應(yīng)力分布規(guī)律對(duì)成像質(zhì)量的影響,可以更加有效地提高光學(xué)系統(tǒng)的成像性能。
光學(xué)系統(tǒng)實(shí)際工作環(huán)境對(duì)成像質(zhì)量的影響因素主要包括相機(jī)機(jī)械結(jié)構(gòu)變形導(dǎo)致光學(xué)元件相對(duì)位置和鏡面面型的變化,溫度熱環(huán)境所產(chǎn)生的熱應(yīng)力引起的光學(xué)元件面型的變化,工作環(huán)境溫度變化對(duì)于鏡片材料光學(xué)特性的影響。本文運(yùn)用熱光學(xué)特性分析方法,利用有限元軟件對(duì)光學(xué)系統(tǒng)機(jī)械結(jié)構(gòu)進(jìn)行分析,得到不同溫度場(chǎng)下的變形量,以求得溫度場(chǎng)下的應(yīng)力和系統(tǒng)整體形變量。將有限元軟件所輸出的數(shù)據(jù)進(jìn)行數(shù)據(jù)處理,最終生成光學(xué)軟件可以讀取識(shí)別的參數(shù),通過光學(xué)設(shè)計(jì)軟件可以評(píng)價(jià)不同溫度場(chǎng)光學(xué)系統(tǒng)的成像性能[4-6]。
對(duì)于溫度場(chǎng)的光機(jī)系統(tǒng),機(jī)械結(jié)構(gòu)和光學(xué)元件都會(huì)產(chǎn)生一定的變形,由于光學(xué)元件受到機(jī)械結(jié)構(gòu)的影響,光學(xué)元件產(chǎn)生整體位移[7-9],即稱之為光學(xué)元件的剛體位移,包括偏移,偏心和傾斜,光學(xué)元件變形形式如圖1所示。
圖1 剛體位移示意圖Fig.1 Schematic diagram of rigid body displacement
在空間變換理論中,利用齊次坐標(biāo)變換對(duì)光學(xué)元件鏡面的剛體位移進(jìn)行求解。在笛卡爾坐標(biāo)系中,光學(xué)元件可以用6 個(gè)方向的自由度進(jìn)行表示,e、f、g分別表示x、y、z軸平移量,θx、θy、θz分別表示x、y、z軸偏轉(zhuǎn)量,(xi,yi,zi)(i=1,2,···,n)表示光學(xué)元件未發(fā)生變形之前的原始坐標(biāo),n為節(jié)點(diǎn)坐標(biāo)的節(jié)點(diǎn)號(hào),表示光學(xué)元件變形之后的節(jié)點(diǎn)坐標(biāo),Δxi,Δyi,Δzi分別表示鏡面變形前后節(jié)點(diǎn)位移變化量。由文獻(xiàn)[7]可得目標(biāo)函數(shù):
通過求解Q的極值即可求得剛體位移,令:
通過溫度場(chǎng)下光學(xué)元件的鏡面熱變形前后的節(jié)點(diǎn)坐標(biāo),即可求得該透鏡的表面剛體位移。
Zernike 多項(xiàng)式[10-13]在單位圓域內(nèi)具有正交性、線性無(wú)關(guān)性,且是能夠歸一化地、唯一地描述系統(tǒng)圓形孔徑波前畸變的函數(shù),可以將其分為標(biāo)準(zhǔn)Zernike(ZRN)多項(xiàng)式和Fringe Zernike(ZFR)多項(xiàng)式兩類,前者包含后者。一般Zernike 多項(xiàng)式通常采用極坐標(biāo)形式,可以用下式表示:
式中:Ai為多項(xiàng)式系數(shù);ρ為歸一化半徑;θ為角度;n為多項(xiàng)式階數(shù)。
通過Zernike 多項(xiàng)式的線性組合可以表達(dá)各種類型的鏡面面形。面型數(shù)據(jù)去除剛體位移之后,對(duì)鏡面面型進(jìn)行擬合,光學(xué)設(shè)計(jì)者常用Seidel 像差函數(shù)[14-15]對(duì)所設(shè)計(jì)的光學(xué)系統(tǒng)像差進(jìn)行描述,Zernike 多項(xiàng)式與初級(jí)像差具有一定對(duì)應(yīng)關(guān)系。本文選擇Fringe Zernike(ZFR)多項(xiàng)式,表1給出了前6 項(xiàng)Fringe Zernike 多項(xiàng)式系數(shù)與Seidel 像差之間的對(duì)應(yīng)關(guān)系。
表1 Fringe Zernike 多項(xiàng)式系數(shù)與Seidel 像差之間的關(guān)系Table1 Relationship between Fringe Zernike polynomial coefficient and Seidel aberration
本文所研究的某機(jī)載相機(jī)光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)原理如圖2所示。光學(xué)系統(tǒng)的基本參數(shù)包括焦距f′=80 mm,視場(chǎng)角:H×V=28°×28°,工作波段為可見光,探測(cè)器像元尺寸5.5 μm,工作環(huán)境為-40 ℃~50 ℃。
圖2 光學(xué)系統(tǒng)光路圖Fig.2 Optical path diagram of optical system
結(jié)構(gòu)三維模型圖如圖3所示。主要由光學(xué)系統(tǒng)、鏡筒、鏡筒支座、基座和CCD 等部件組成,各部件通過螺釘連接,以保證整體結(jié)構(gòu)具有足夠的剛性。
圖3 光學(xué)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)三維圖Fig.3 3D diagram of optical system structure
本文所研究的相機(jī)光學(xué)系統(tǒng)為非球面光學(xué)系統(tǒng),由6 片透鏡組成,其中第2 片鏡片的第2 面為非球面,在一定程度上可以減輕光學(xué)系統(tǒng)的質(zhì)量。本文將針對(duì)光學(xué)鏡頭建立有限元模型,如圖4所示,鏡頭有限元模型共有48 720 個(gè)六面體網(wǎng)格單元,圖4即為利用有限元軟件建立的鏡頭有限元模型剖視圖。
圖4 鏡頭有限元模型Fig.4 Lens finite element model
機(jī)載相機(jī)熱光學(xué)特性分析流程如圖5所示。首先進(jìn)行光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì),然后對(duì)相機(jī)進(jìn)行結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、有限元建模、不同溫度場(chǎng)下鏡頭熱分析。溫度會(huì)使透鏡產(chǎn)生熱彈性變形和折射率變化,本文只考慮熱弾性變形,將各透鏡的折射率看作一個(gè)常數(shù),所以提取每個(gè)鏡片的鏡面變形數(shù)據(jù),去除其剛體位移,之后導(dǎo)入所編寫的接口程序Zernike 多項(xiàng)式系數(shù)進(jìn)行擬合,將擬合的結(jié)果導(dǎo)入光學(xué)設(shè)計(jì)軟件中,對(duì)溫度場(chǎng)下鏡面變形對(duì)機(jī)載相機(jī)光學(xué)系統(tǒng)成像質(zhì)量的影響進(jìn)行評(píng)價(jià)。
圖5 熱光學(xué)特性分析流程圖Fig.5 Flow chart of thermal optical property analysis
在20 ℃溫度工況下光學(xué)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)鏡面變形云圖如圖6所示,通過Zernike 擬合程序擬合出Zernike 系數(shù)導(dǎo)入光學(xué)設(shè)計(jì)軟件。圖7為光學(xué)系統(tǒng)的MTF 的設(shè)計(jì)值。圖8為光學(xué)系統(tǒng)MTF 擬合值。該非球面光學(xué)系統(tǒng)的截止頻率為91 lp/mm,以全視場(chǎng)為例,MTF 設(shè)計(jì)值為0.328 8,MTF 擬合值為0.328 9,兩者之間相差不足1‰,滿足工程應(yīng)用的誤差要求,驗(yàn)證了熱光學(xué)特性分析方法的可行性。
對(duì)于光學(xué)系統(tǒng)所做的不同溫度場(chǎng)下非球面光學(xué)系統(tǒng)成像質(zhì)量的影響分析,需要對(duì)非球面光學(xué)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)設(shè)定不同的溫度工況(-40 ℃和50 ℃),由于篇幅所限,表2給出了-40 ℃第1 面球面和第4 面非球面的剛體位移,表3和表4分別給出了2 個(gè)鏡面變形的37 項(xiàng)Zernike 系數(shù)。
圖6 20 ℃光學(xué)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)變形分析云圖Fig.6 20 ℃ optical system structural deformation analysis cloud map
圖7 光學(xué)系統(tǒng)MTF 設(shè)計(jì)值Fig.7 Design value of optical system MTF
圖8 光學(xué)系統(tǒng)MTF 擬合值(20 ℃)Fig.8 Fitted value of optical system MTF (20 ℃)
表2 -40 ℃球面和非球面的剛體位移Table2 Rigid body displacement of pherical and aspheric surface at -40 ℃ mm
圖9為-40 ℃溫度場(chǎng)的光學(xué)系統(tǒng)MTF,在全視場(chǎng)空間頻率為91 lp/mm 處,MTF 值為0.317,相比設(shè)計(jì)值下降了3%。圖10 為50 ℃溫度場(chǎng)的光學(xué)系統(tǒng)MTF 擬合值,在全視場(chǎng)頻率為91 lp/mm 處MTF值為0.312,與設(shè)計(jì)值比較下降了5%,雖然滿足在工作頻段MTF 值大于0.3 的要求,但是無(wú)論溫度升高或者降低都會(huì)降低非球面光學(xué)系統(tǒng)的成像質(zhì)量,且本文設(shè)計(jì)的光學(xué)系統(tǒng)對(duì)于高溫環(huán)境更加敏感。本文介紹的熱光學(xué)特性分析方法可以有效對(duì)不同溫度場(chǎng)下非球面光學(xué)系統(tǒng)的成像質(zhì)量進(jìn)行評(píng)價(jià),在光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)階段,可以有效地預(yù)測(cè)溫度對(duì)光學(xué)系統(tǒng)成像質(zhì)量的影響,對(duì)于光學(xué)設(shè)計(jì)具有指導(dǎo)意義。
表3 球面的Zernike 系數(shù)(-40 ℃)Table3 Zernike coefficient of spherical surface (-40 ℃)
表4 非球面的Zernike 系數(shù)(-40 ℃)Table4 Zernike coefficient of aspheric surface (-40 ℃)
圖9 光學(xué)系統(tǒng)MTF 擬合值(-40 ℃)Fig.9 Fitted value of optical system MTF (-40 ℃)
圖10 光學(xué)系統(tǒng)MTF 擬合值(50 ℃)Fig.10 Fitted value of optical system MTF (50 ℃)
本文采用熱光學(xué)特性分析方法對(duì)機(jī)載相機(jī)非球面光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行分析,介紹了鏡面面型的數(shù)據(jù)處理方法,利用齊次坐標(biāo)變換去除了鏡面變形的剛體位移,選用Fringe Zernike 多項(xiàng)式作為鏡面面型擬合的基底函數(shù),并通過編程軟件編寫相關(guān)程序作為有限元分析與光學(xué)軟件分析的接口,最后對(duì)光學(xué)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)建立有限元模型,分析不同溫度工況下的光學(xué)系統(tǒng)鏡面變形,并且利用本文所提出的方法進(jìn)行光學(xué)系統(tǒng)成像質(zhì)量評(píng)價(jià)。通過不同工況下光學(xué)系統(tǒng)MTF 擬合值與設(shè)計(jì)值的比較,說明環(huán)境溫度的升高和降低都會(huì)影響光學(xué)系統(tǒng)成像質(zhì)量,本文的非球面光學(xué)系統(tǒng)對(duì)于高溫對(duì)成像質(zhì)量的影響更加敏感。利用該熱光學(xué)特性分析方法可以預(yù)測(cè)溫度環(huán)境對(duì)光學(xué)系統(tǒng)成像質(zhì)量的影響,從而實(shí)現(xiàn)光機(jī)系統(tǒng)熱光一體化設(shè)計(jì)與分析。