王暉 李延超 張新 王峰 梁靜 張小明
摘要:電子束熔煉對Ta-W合金條的雜質含量、致密度、外形等有著較為嚴格的要求。研究了燒結溫度、原料O/C質量比等對Ta-W合金條品質的影響。結果表明:隨著燒結溫度的升高,燒結提純效果明顯;2300℃保溫15h可以獲得符合要求的Ta-W合金條;原料中的O/C質量比大于10可使燒結后的Ta-W合金條中C的質量分數低于0.01%。
關鍵詞:Ta-W合金;真空燒結;O/C質量比
中圖分類號:TG 146.4文獻標志碼:A
Ta-W合金是一種固溶強化型單相二元合金。因其具有高熔點,高密度,耐腐蝕,良好的焊接及加工性等特點,在高溫環(huán)境下是一種優(yōu)良的結構材料,已逐漸應用于國防、航天等領域。鉭合金錠坯常用粉末冶金法和電子束熔煉法制取,電子束熔煉的錠坯,雜質和間隙元素含量低,成分均勻,具有良好的塑性。本文研究的Ta-W合金條就是用作電子束轟擊爐熔煉Ta-W合金的電極。電子束熔煉對原料中的氣體、雜質含量、外形,強度有著較高的要求。如氣體含量過高,在熔煉時會有大量的氣體析出,對電子束流和熔池的穩(wěn)定性有很大影響;雜質含量過高會產生大量揮發(fā)和飛濺,從而影響到坩堝的拉錠和旋轉系統,導致熔煉無法正常進行。外形和強度直接影響熔煉前電極的捆綁與焊接。一般來說,電子束熔煉要求原料中各元素質量分數為C≤0.010%,O≤0.200%,N≤0.010%,因此熔煉前合金條中的Ta,w應均勻分布,雜質元素含量應保持較低水平,表1為合格Ta-W合金條的化學成分。本文探討了燒結過程提純的機理,通過試驗確定了燒結溫度,調整了原料的O/C質量比,有效地將雜質元素和氣體控制在較低的水平,為Ta-W合金條的制備制定了一個合理的方案。
1試驗
將Ta粉和w粉(均為冶金一級)按質量分數配比、使用V型混料機充分混料后在油壓機上采用300~500MPa的壓力冷壓成型,再將成型坯料放人石墨坩堝中,置于高溫真空碳管燒結爐中分別進行1800,2100,2300和2500℃保溫15h的真空燒結,工藝流程見圖1。燒結后去除Ta-W合金條的外表皮,然后取樣,采用原子吸收法和光譜法分析氣體和雜質元素,采用排水法測定密度,然后進行跌落試驗測試其強度,用掃描電子顯微鏡(scanning electron microscope,SEM)觀察斷口形貌。
2結果與討論
2.1燒結溫度對Ta-W合金條品質的影響
燒結時,經過壓制的多孔粉末會發(fā)生諸多復雜的化學、物理變化,同時也伴隨著雜質問的相互作用以及孔隙消除等,這些因素最終導致坯料的致密化和雜質去除。Ta與w的燒結是在低于熔點的溫度下進行的,屬固相二元系燒結,合金的形成主要靠擴散來實現。經過4個溫度燒結后,Ta-W合金條外形各有不同:其中1800和2100℃燒結后的合金條有較好的直線度,經測量,彎曲度小于3mm/500mm(總長度彎曲的總弦高同總長度的比)。2300℃燒結后的Ta-W合金條稍有彎曲,彎曲度小于5mm/500mm。2500℃燒結的合金條則嚴重彎曲,彎曲度大于10mm/500mm,并且黏接嚴重,影響正常的出爐操作。密度是衡量坯條品質,以及能否加工的重要指標。采用排水法測定Ta-w合金條的相對密度,2300和2500℃燒結工藝下Ta-W合金條的相對密度(實際密度與理論計算密度的比值)均達到90%以上,而1800℃燒結工藝下的Ta-W合金條的相對密度不足70%。圖2給出了4個溫度燒結后的Ta-W合金條的相對密度。
電子束熔煉時要將合金條捆綁焊接成一定長度的電極,熔煉中還要整體步進移動,因此對合金條的強度和抗沖擊性有一定要求。取4個燒結溫度下的Ta-W合金條進行2m高自由跌落測試發(fā)現:1800和2100℃燒結溫度下的Ta-W合金條容易脆斷,而另外兩種燒結溫度下的Ta-W合金條則有較高的強度和韌性,順利通過測試。
圖3為不同燒結溫度下的Ta-W合金條的斷口SEM圖。從圖3(a)中可以看出,材料內部存在大量孔洞,由于燒結溫度偏低,燒結頸尚未長大,顆粒間結合力小,導致強度偏低。隨著燒結溫度的升高,孔洞逐漸減少,密度增加,粉末顆粒之間晶核初步形成,見圖3(b)。從圖3(c)中可以看出,晶粒逐漸長大,斷裂則多為沿晶斷裂,晶界結合力較弱,個別晶粒上存在河流狀花樣,但已具備一定強度。圖3(d)為典型的穿晶解理斷裂,存在較多的解理花樣,屬脆性斷裂。圖3(c)和圖3(d)均屬于脆性斷裂,但圖3(c)中的晶界可能仍存在少量雜質偏聚。
將4個燒結溫度下的Ta-W合金條切去兩端,在兩端截面進行取樣,混合后分析雜質元素含量,結果見表2。由表2可知,4個燒結溫度下的Ta-W合金條雜質(除C外)均能較好地去除,其中2500℃燒結溫度下的雜質含量最低。
試驗采用5批不同O,C含量的原料分別進行2300℃,保溫15h的燒結試驗。表3為5批原料燒結前后O,C含量的變化情況。從表3可以看出,第1,2,3批原料中C含量超標,質量分數均大于0.01%,第4,5批原料中的C則降低到質量分數0.01%以內。且最終C含量隨原料中的O/C質量比增大而減小。因此可以得出,要使燒結后C的質量分數小于0.01%,O/C質量比應大于10。
因此在選擇原料時盡可能選用O含量較高的Ta粉或w粉進行配比(必要時可添加Ta的氧化物或碳黑來調整),混合均勻后,應分析O和c的含量,使O/C質量比大于10。但如果O含量過高會導致能耗增大和燒結后O含量超標,因此O/C質量比選取10~12比較適宜。
2.3分析與討論
在1800和2100℃下燒結的Ta-W合金條,由于燒結溫度不足,合金化程度很低,材料內部存在大量空隙。燒結溫度較低時,只使顆粒表面的原子發(fā)生擴散,燒結頸長大,而顆粒本身的大小不變,沒有發(fā)生收縮和致密化,這將導致Ta-W合金條密度不足。但如果燒結溫度偏高,則會出現晶粒粗化,金屬損失和能耗增大,同時又易使燒成的合金條軟化、歪曲和變形。
一般來說,雜質以2種形式存在于原料粉末中:(1)以化合物形態(tài)夾雜在金屬孔隙或晶粒間;(2)以固溶體形態(tài)溶解于金屬中。400~800℃時原料內絕大部分H,脫出,其余的H在Ta中以固溶體形態(tài)存在,常溫下非常穩(wěn)定,在Ta中的溶解度隨溫度的升高而降低,在1000~1200℃時分解逸出。氮化物也非常穩(wěn)定,在2000℃以上擴散至金屬表面,揮發(fā)除去。高溫燒結過程中,O與低熔點雜質Fe,Ni,Cr和Mo等形成低價氧化物,由于他們有著較高的蒸氣壓,因此在1500~1900℃揮發(fā);Si在1600~1900℃以低價氧化物形態(tài)揮發(fā)除去;Ti的熔點較高,在1800~2000℃時以低價氧化物形式開始揮發(fā)。
3結論
(1)燒結溫度升高促進了Ta-W合金條中雜質的去除;2300℃保溫15h可以得到相對密度大于90%、外形尺寸和雜質含量合格、具有一定強度的合金條。
(2)燒結前原料中的O/C質量比在10以上可以有效控制燒結后C的含量。