吳仍來(lái)
(嶺南師范學(xué)院物理科學(xué)與技術(shù)學(xué)院 廣東 湛江 524048)
在經(jīng)典力學(xué)的范疇,宏觀物體不能跨越比其動(dòng)能大的勢(shì)壘,該類經(jīng)典力學(xué)案例最常見(jiàn)的有兩種,其一,小球克服重力勢(shì)能跨越斜木板問(wèn)題:斜木板頂端和底端的重力勢(shì)能差大于小球初始動(dòng)能時(shí),從底端出發(fā)的小球不可能跨過(guò)斜木板;其二,帶電粒子克服電勢(shì)能跨越電容器的兩個(gè)極板問(wèn)題:電容器兩極板的電勢(shì)能差值大于帶電粒子的初始動(dòng)能時(shí),從極板低電勢(shì)能一端出發(fā)的帶電粒子不能到達(dá)另一極板.從上面兩個(gè)案例可知經(jīng)典力學(xué)表現(xiàn)出很強(qiáng)的因果定律,在力的作用下,物體具有決定性的運(yùn)動(dòng)狀態(tài).但是同樣的兩個(gè)案例,如果將物體的尺寸都減小到微觀領(lǐng)域納米量級(jí),經(jīng)典力學(xué)的決定性結(jié)果將不再成立.這時(shí)物體變成微觀粒子,波粒二象性的特征非常顯著,其運(yùn)動(dòng)狀態(tài)服從量子力學(xué)中波函數(shù)描述的結(jié)果,并可能導(dǎo)致與經(jīng)典力學(xué)完全相違背的結(jié)果出現(xiàn)[1],即:微觀物體能夠貫穿比其動(dòng)能大的勢(shì)壘,這種勢(shì)壘貫穿現(xiàn)象在量子力學(xué)領(lǐng)域被稱為隧道效應(yīng).隧道效應(yīng)在顯微技術(shù)領(lǐng)域具有相當(dāng)重要的應(yīng)用價(jià)值,催生了掃描隧道電子顯微鏡的誕生[1].針對(duì)勢(shì)壘貫穿問(wèn)題,很多教材和文獻(xiàn)都進(jìn)行了討論,最典型的有量子力學(xué)教材中方形勢(shì)壘的貫穿問(wèn)題[1,2],此外,文獻(xiàn)[3]分析了一維多個(gè)位勢(shì)結(jié)構(gòu)的透射系數(shù),并對(duì)其中的諧振隧穿現(xiàn)象進(jìn)行了討論;文獻(xiàn)[4]計(jì)算了一維梯形勢(shì)壘的透射系數(shù),并討論了透射系數(shù)隨勢(shì)壘斜率的變化;文獻(xiàn)[5]計(jì)算了一維三角形多勢(shì)壘結(jié)構(gòu)的共振透射系數(shù).上述研究從不同結(jié)構(gòu)出發(fā),對(duì)一維體系的勢(shì)壘貫穿現(xiàn)象進(jìn)行了分析和討論.基于上述研究結(jié)果,本文設(shè)計(jì)了一維M型勢(shì)壘結(jié)構(gòu),該結(jié)構(gòu)對(duì)應(yīng)著部分量子點(diǎn)內(nèi)部的勢(shì)能分布情況,當(dāng)微觀粒子(如電子)透過(guò)M形勢(shì)壘時(shí),其透射系數(shù)的分析對(duì)其電導(dǎo)和輸運(yùn)特性非常重要,因此本文利用薛定諤方程對(duì)電子通過(guò)M形勢(shì)壘時(shí)的透射系數(shù)進(jìn)行了求解和數(shù)值分析.
(1)
圖1 M形勢(shì)壘的模型圖
從經(jīng)典力學(xué)的角度,當(dāng)電子的能量E小于勢(shì)壘的高度U0,則電子不能到達(dá)勢(shì)壘的Ⅱ,Ⅲ,Ⅳ區(qū).但是經(jīng)典力學(xué)只能求解宏觀粒子低速運(yùn)動(dòng)問(wèn)題,對(duì)于微觀粒子,應(yīng)該用量子力學(xué)方法求解.式(1)中勢(shì)能分布與時(shí)間無(wú)關(guān),反映微觀粒子全部運(yùn)動(dòng)狀態(tài)的波函數(shù)滿足一維定態(tài)薛定諤方程[1,2]
(2)
式中m為電子的有效質(zhì)量,?為普朗克常量,E為電子的本征能量,Ψ(x)為屬于本征能量E的本征波函數(shù).這里為了簡(jiǎn)便,忽略勢(shì)壘對(duì)電子有效質(zhì)量的影響,默認(rèn)電子的有效質(zhì)量為其靜止質(zhì)量,m=9.1×10-31kg.
接下來(lái)在每個(gè)勢(shì)壘區(qū)列出定態(tài)薛定諤方程,并分別進(jìn)行求解.
在Ⅰ區(qū)和Ⅳ區(qū),電子的波函數(shù)均滿足
(3)
令
式(3)可簡(jiǎn)化為
(4)
則Ⅰ區(qū)電子波函數(shù)的通解可表示為
ΨⅠ(x)=AⅠeikx+BⅠe-ikx
(5)
式(5)中ΨⅠ(x)的下標(biāo)Ⅰ表示波函數(shù)的取值范圍在Ⅰ區(qū),下文波函數(shù)的表示方法均類似,AⅠ和BⅠ為波函數(shù)的待定系數(shù),AⅠeikx表示Ⅰ區(qū)向x正方向運(yùn)動(dòng)的電子的波函數(shù),即電子的入射波函數(shù);BⅠe-ikx表示Ⅰ區(qū)向x負(fù)方向運(yùn)動(dòng)的電子的波函數(shù),即電子的反射波函數(shù).同理,Ⅳ區(qū)電子的波函數(shù)可表示為
ΨⅣ(x)=AⅣeikx+BⅣe-ikx
(6)
上式中AⅣ和BⅣ為Ⅳ區(qū)電子波函數(shù)的待定系數(shù),AⅣeikx表示Ⅳ區(qū)向x正方向運(yùn)動(dòng)的電子的波函數(shù),即透射后電子的波函數(shù);BⅣe-ikx表示Ⅳ區(qū)向x負(fù)方向運(yùn)動(dòng)的電子的波函數(shù).由于電子是從左邊入射,到達(dá)右邊Ⅳ區(qū)后不會(huì)再有反射,所以Ⅳ區(qū)的電子只能向右運(yùn)動(dòng),因此BⅣ=0.
在Ⅱ區(qū),電子的波函數(shù)滿足
EΨⅡ(x)
(7)
令
式(7)可簡(jiǎn)化為
(8)
上式為Airy方程[5,6],其解為第一類艾里函數(shù)Ai(ξ)和第二類艾里函數(shù)Bi(ξ)的線性組合
ΨⅡ(ξ)=AⅡAi(ξ)+BⅡBi(ξ)
(9)
式中AⅡ和BⅡ?yàn)棰騾^(qū)電子波函數(shù)的待定系數(shù).
在Ⅲ區(qū),電子的波函數(shù)滿足
EΨⅢ(x)
(10)
令
式(10)亦可簡(jiǎn)化為Airy方程
(11)
則Ⅲ區(qū)電子的波函數(shù)可表示為Ai(ζ)和Bi(ζ)的線性組合
ΨⅢ(ζ)=AⅢAi(ζ)+BⅢBi(ζ)
(12)
式中AⅢ和BⅢ為Ⅲ區(qū)電子波函數(shù)的待定系數(shù).
AⅠ+BI=AⅡAi(ξI)+BⅡBi(ξI)
(13)
ikAⅠ-ikBⅠ=
-κAⅡAi'(ξⅠ)-κBⅡBi′(ξI)
(14)
上面兩式中
AⅡAi(ξⅡ)+BⅡBi(ξⅡ)=
AⅢAi(ζⅡ)+BⅢBi(ζⅡ)
(15)
-κAⅡAi′(ξⅡ)-κBⅡBi′(ξⅡ)=
κAⅢAi′(ζⅡ)+κBⅢBi′(ζⅡ)
(16)
在式(15)和(16)中
AIVeika=AⅢAi(ζI)+BⅢBi(ζⅠ)
(17)
ikAIVeika=
κAⅢAi′(ζⅠ)+κBⅢBi′(ζⅠ)
(18)
式(17)和(18)中
對(duì)應(yīng)x=a時(shí)ζ的取值,根據(jù)對(duì)比有
ξⅠ=ζⅠ
令
u=Ai(ξⅠ)σ=Bi(ξⅠ)
u′=Ai′(ξⅠ)σ′=Bi′(ξⅠ)
c=Ai(ξⅡ)d=Bi(ξⅡ)
c′=Ai′(ξⅡ)d′=Bi′(ξⅡ)
式(13)~(18)可分別簡(jiǎn)化為
AⅠ+BⅠ=uAⅡ+σBⅡ
(19)
(20)
cAⅡ+dBⅡ=cAⅢ+dBⅢ
(21)
(22)
AIVeika=uAⅢ+σBⅢ
(23)
(24)
利用ik乘以式(23)再減去式(24)得
(25)
上式中
α=κu′-iku
β=κσ′-ikσ
將式(25)代入式(23)得
(26)
上式中利用了艾里函數(shù)的性質(zhì):對(duì)于任意的變量ξ,艾里函數(shù)滿足朗斯基行列式
即有
將式(26)代入式(25)得
(27)
(28)
AⅡ=π(cd′+c′d)AⅢ+2πd′dBⅢ
(29)
利用ik乘以式(19)再加上式(20)得
2ikAⅠ=-αAⅡ-βBⅡ
(30)
將式(28)和(29)代入式(30)得
2ikAⅠ=
-α[π(cd′+c′d)AⅢ+2πd′dBⅢ]+
(31)
將式(26)和(27)代入式(31),并整理公式可得
(32)
由式(32)可得M形勢(shì)壘電子的透射系數(shù)
(33)
對(duì)于寬度為a,高度為U0的方形勢(shì)壘,透射系數(shù)的表達(dá)式為[1]
(34)
上式中
基于式(33)和(34),下面通過(guò)數(shù)值求解畫出透射系數(shù)隨入射電子的能量、勢(shì)壘的高度和寬度的變化圖像.
圖2給出透射系數(shù)隨電子能量的變化,其中勢(shì)壘高度U0=1.0 eV,勢(shì)壘寬度a=0.8 nm.實(shí)線M形勢(shì)壘的結(jié)果顯示:當(dāng)電子的能量為0.68 eV時(shí),透射系數(shù)為1,此時(shí)電子發(fā)生了諧振隧穿,M形勢(shì)壘相對(duì)電子的運(yùn)動(dòng)來(lái)說(shuō)是透明的;在諧振隧穿前,透射系數(shù)會(huì)隨電子能量的增加而增加;在諧振隧穿后,透射系數(shù)隨電子能量的增加會(huì)有個(gè)減小的過(guò)程.虛線方形勢(shì)壘的結(jié)果給出,只有電子的能量大于勢(shì)壘的高度1.0 eV時(shí),方形勢(shì)壘才會(huì)出現(xiàn)諧振隧穿.這意味著M形勢(shì)壘比方形勢(shì)壘更方便電子諧振隧穿,因?yàn)镸形勢(shì)壘比方形勢(shì)壘中間多了個(gè)V形勢(shì)阱,所以能在入射電子的能量小于勢(shì)壘高度時(shí)就發(fā)生諧振隧穿.圖2結(jié)果還顯示,即使入射電子的能量大于勢(shì)壘的高度,M形和方形勢(shì)壘電子的透射率也可能小于1,只有當(dāng)入射電子的能量遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于勢(shì)壘的高度時(shí),透射系數(shù)才會(huì)一直接近于1.
圖2 透射系數(shù)隨電子能量的變化
圖3給出透射系數(shù)隨勢(shì)壘高度的變化,其中入射電子的能量E=1.0 eV,勢(shì)壘寬度a=0.8 nm.M形勢(shì)壘的結(jié)果顯示,在U0=1.97E時(shí)電子會(huì)發(fā)生諧振隧穿,在諧振隧穿前,隨著勢(shì)壘高度的增加透射系數(shù)先減小后增加,在諧振隧穿后,透射系數(shù)隨勢(shì)壘高度的增加單調(diào)下降,直到透射系數(shù)接近于零.
圖3 透射系數(shù)隨勢(shì)壘高度的變化
對(duì)比圖3中M形勢(shì)壘和方形勢(shì)壘的結(jié)果,可發(fā)現(xiàn):在U0<0.66E時(shí),M形勢(shì)壘的透射系數(shù)一直比方形勢(shì)壘的更??;在U0>0.66E時(shí),M形勢(shì)壘的透射系數(shù)一直比方形勢(shì)壘的更大.這說(shuō)明在低勢(shì)壘區(qū),電子更容易透射方形勢(shì)壘,而在高勢(shì)壘區(qū),電子更容易透射M形勢(shì)壘.
圖4給出透射系數(shù)隨勢(shì)壘寬度的變化,其中入射電子的能量E=1.0 eV.不同小圖中,勢(shì)壘的高度U0不同.結(jié)果顯示,U0=0.8E時(shí),無(wú)論M形勢(shì)壘還是方形勢(shì)壘,透射系數(shù)隨著勢(shì)壘寬度的增加都近乎呈現(xiàn)周期性的諧振隧穿,且最小透射系數(shù)大于0.5;U0=E時(shí),隨勢(shì)壘寬度的增加,方形勢(shì)壘的透射系數(shù)迅速單調(diào)下降,但M形勢(shì)壘的透射系數(shù)還是近乎周期性地呈現(xiàn)諧振隧穿,再次反映M形勢(shì)壘相比方形勢(shì)壘更容易發(fā)生諧振隧穿;在U0=1.5E和U0=2E時(shí),M形勢(shì)壘的透射系數(shù)發(fā)生諧振隧穿的次數(shù)相比U0=E時(shí)減少很多,且透射系數(shù)的部分峰值已經(jīng)小于1,對(duì)應(yīng)著沒(méi)有諧振隧穿產(chǎn)生;在U0=4E時(shí),M形勢(shì)壘中雖然有透射峰的出現(xiàn),但已經(jīng)不會(huì)出現(xiàn)諧振隧穿;在U0=5E時(shí),更是連透射峰都消失了,透射系數(shù)隨勢(shì)壘寬度的增加迅速單調(diào)衰減至零.上述結(jié)果表明,勢(shì)壘高度與電子的能量差不多大時(shí),M形勢(shì)壘中才容易出現(xiàn)諧振隧穿,隨著勢(shì)壘高度的增加,M形勢(shì)壘中發(fā)生諧振隧穿的次數(shù)會(huì)越來(lái)越少,直至沒(méi)有諧振隧穿產(chǎn)生.
圖4 透射系數(shù)隨勢(shì)壘寬度的變化
本文構(gòu)造了一維M形勢(shì)壘的模型,基于薛定諤方程的求解,給出了M形勢(shì)壘中透射系數(shù)的表達(dá)式,并數(shù)值分析了透射系數(shù)隨入射電子的能量、勢(shì)壘高度和寬度的變化情況.結(jié)果表明,在勢(shì)壘高度不變時(shí),達(dá)到諧振隧穿前,透射系數(shù)會(huì)隨入射電子的能量的增加而增加,且當(dāng)電子的能量小于勢(shì)壘的高度時(shí),M形勢(shì)壘中依然會(huì)出現(xiàn)諧振隧穿.在入射電子的能量不變時(shí),達(dá)到諧振隧穿前,隨著勢(shì)壘高度的增加透射系數(shù)會(huì)先減小后增加,在諧振隧穿后,隨勢(shì)壘高度的增加透射系數(shù)單調(diào)下降直至為零.在入射電子的能量不變時(shí),若勢(shì)壘高度與電子能量相當(dāng),透射系數(shù)隨著勢(shì)壘寬度的增加會(huì)近乎呈現(xiàn)周期性的諧振隧穿,當(dāng)勢(shì)壘的高度逐漸變大,M形勢(shì)壘中發(fā)生諧振隧穿的次數(shù)會(huì)越來(lái)越少,最后會(huì)沒(méi)有諧振隧穿產(chǎn)生.進(jìn)一步,本文將M形勢(shì)壘的透射系數(shù)和方形勢(shì)壘的透射系數(shù)做了比較,發(fā)現(xiàn)M形勢(shì)壘比方形勢(shì)壘更容易出現(xiàn)諧振隧穿,在低勢(shì)壘區(qū),電子更容易透射方形勢(shì)壘,而在高勢(shì)壘區(qū),電子更容易透射M形勢(shì)壘.