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轉(zhuǎn)移電子器件在微波振蕩器中的工作原理

2018-11-22 13:31
西部廣播電視 2018年20期
關(guān)鍵詞:閥值電子器件遷移率

潘 龍

(作者單位:四川廣播電視臺(tái)520發(fā)射傳輸臺(tái))

1963年,美國(guó)的耿氏(Gunn)發(fā)現(xiàn)在一塊N型砷化鎵兩端加上超過3 kV/cm的電壓時(shí),就會(huì)產(chǎn)生微波振蕩,振蕩頻率與半導(dǎo)體的長(zhǎng)度成反比。微波振蕩是由N型砷化鎵中電子轉(zhuǎn)移現(xiàn)象產(chǎn)生的,所以叫做轉(zhuǎn)移電子器件。它是基于多數(shù)載流子在半導(dǎo)體材料中的運(yùn)動(dòng)特性來產(chǎn)生微波振蕩的,所以又叫做體效應(yīng)二極管或耿氏效應(yīng)二極管。轉(zhuǎn)移電子器件振蕩器的頻率可以從1~100 GHz,能產(chǎn)生幾毫瓦到2瓦的連續(xù)波功率,效率為百分之幾到百分之十五。由于它具有寬調(diào)諧、低噪聲等優(yōu)點(diǎn),因而廣泛應(yīng)用于微波電子系統(tǒng)中。

1 轉(zhuǎn)移電子器件的工作原理

1.1 N型砷化鎵的能帶結(jié)構(gòu)

砷化鎵的能帶結(jié)構(gòu)如圖1所示,由價(jià)帶、導(dǎo)帶和禁帶組成,禁帶的寬度為Eg=1.53eV。它的導(dǎo)帶為多能谷結(jié)構(gòu),共具有七個(gè)能谷,其中位于中心位置最低能量的主谷與鄰近的一個(gè)子谷最為重要,主谷和這個(gè)子谷的能級(jí)差ΔEg=0.36eV。處于這兩個(gè)能谷中的電子,具有不同的有效質(zhì)量和不同的遷移率μ。主谷即低能谷的電子為輕電子或快電子,它的有效質(zhì)量較小,而遷移率較大,一般為μ1≈7 500~9 300 cm2/V×s;而子谷即高能谷的電子是重電子或慢電子,它的有效質(zhì)量較大,而遷移率較小,為μ2≈110~150 cm2/V×s。在室溫T0=290K時(shí),砷化鎵中的平均電子能量為k·T0≈0.025eV(k為玻爾茲曼常數(shù),eV為電子伏特),遠(yuǎn)小于高、低能谷間的能級(jí)長(zhǎng)差ΔEg,所以多數(shù)電子處于低能谷中。

當(dāng)有外加電場(chǎng)E時(shí),隨著電場(chǎng)E增加,電子的運(yùn)動(dòng)速度增大。若電子的總能量大于0.36 eV時(shí),低能谷中的電子就會(huì)被激發(fā)到高能谷中去。

圖1 N型砷化鎵的能帶結(jié)構(gòu)

1.2 砷化鎵的平均速度—電場(chǎng)特性

設(shè)總的電子密度為n0,處于低、高能谷的電子密度分別為n1和n2。砷化鎵材料中電子的平均速度與外加電場(chǎng)的關(guān)系如圖2所示。

圖2 砷化鎵中電子的平均速度與外加電場(chǎng)的關(guān)系

(1)當(dāng)外加電場(chǎng)強(qiáng)度E為0<E<E/時(shí),幾乎所有電子都處于低能谷,即n1≈n0,n2≈0。所以電子的平均速度可以表示為

這時(shí)平均速度—電場(chǎng)特性如圖2(I)段所示。

(2)當(dāng)外加電場(chǎng)E/<E<E/時(shí),電子由低能谷不斷躍遷到高能谷,即不斷由高遷移率狀態(tài)轉(zhuǎn)到低遷移率狀態(tài),由快電子變?yōu)槁娮?,電子的平均速度降低。這時(shí)的n1+n2=n0,所以電子的平均速度為

式中為平均遷移率。

當(dāng)電場(chǎng)強(qiáng)度增大到Eth時(shí),電子速度增大到峰值。如果外加電場(chǎng)超過Eth,由于高能谷中的電子即慢電子數(shù)增大了許多,使電子總的平均速度反而下降,如圖2中的II段所示,此時(shí)微分遷移率。微分遷移率由正變負(fù),經(jīng)過零點(diǎn),與這時(shí)對(duì)應(yīng)的電場(chǎng)稱為閥值電場(chǎng)Eth。為產(chǎn)生Eth而在器件兩端所加的電壓,就叫做閥值電壓Vth。

流過砷化鎵材料的電流為I=AJ,式中A為器件的橫截面積,J是電流密度可由下式表示

式中σ為電導(dǎo)率,與電阻率互為倒數(shù)。它又可用下式表示

其中e是電子電荷量。由于μd為負(fù)值,所以σ也為負(fù)值。即與負(fù)的微分遷移率相對(duì)應(yīng),砷化鎵在一定的電場(chǎng)范圍內(nèi)具有負(fù)的微分電導(dǎo)率。這就是砷化鎵材料能產(chǎn)生負(fù)阻的基本原理。

(3)當(dāng)外加電場(chǎng)E>E//時(shí),幾乎所有的電子遷移率都躍遷到高能谷中去了,這時(shí)n1≈0,n2≈n0,所以

電子的平均遷移率隨外加電場(chǎng)的增加略有增大,微分遷移率再次變?yōu)檎鐖D2的Ⅲ段所示。

綜上所述,由于砷化鎵具有多能谷的能帶結(jié)構(gòu),在外加電場(chǎng)的作用下,電子從低能谷轉(zhuǎn)移到高能谷的過程中,出現(xiàn)了負(fù)的微分遷移率,而負(fù)的微分遷移率又與負(fù)的微分電導(dǎo)率相對(duì)應(yīng)。因此,這種材料在一定的電場(chǎng)作用下具有負(fù)阻特性。

1.3 偶極疇(高場(chǎng)疇)

前面介紹了砷化鎵材料形成負(fù)阻的機(jī)理,下面具體討論它產(chǎn)生微波振蕩的過程。

1.3.1 疇的產(chǎn)生

當(dāng)砷化鎵材料上所加直流電壓V<Vth(即E<Eth)時(shí),材料中的電場(chǎng)分布均勻,載流子在兩極之間均勻連續(xù)的漂移,沒有發(fā)生電子轉(zhuǎn)移。

當(dāng)外加電壓增大到V>Vth(即E>Eth)時(shí),由于砷化鎵材料和陰極接觸的界面上存在較大的電阻,同時(shí)由于雜質(zhì)的不均勻性,在陰極附近的電壓降比較大,電場(chǎng)也較強(qiáng)。這時(shí),陰極附近某處x0的電場(chǎng)首先超過閥值電場(chǎng)Eth而進(jìn)入負(fù)阻區(qū),如圖3(c)所示。這樣,x0處的電子的平均漂移速度減慢,x0左邊的電子由于E<Eth而仍以較快的速度走向x0,電子在x0處積累起來,這種空間電荷的積累叫做疇。同時(shí)x0右邊的電子仍以原來的快速度向陽極運(yùn)動(dòng),由于x0處的電子速度慢,不能立即補(bǔ)充,使x0右邊欠缺電子,而留下一層正的空間電荷。x0處的正負(fù)電荷就形成了偶極層,也就是偶極疇。這個(gè)疇本身的電場(chǎng)方向與外加電場(chǎng)方向相同,從而使疇內(nèi)電場(chǎng)比疇外電場(chǎng)高得多,所以偶極疇又叫高場(chǎng)疇。由于外加電壓和砷化鎵材料的長(zhǎng)度都是一定的,疇內(nèi)電場(chǎng)高了,疇外電場(chǎng)就必然低,也就是說外加電壓的大部分降在高場(chǎng)疇上了。這樣一來,疇外電場(chǎng)一般不可能超過閥值,因此,在轉(zhuǎn)移電子器件內(nèi)只會(huì)形成一個(gè)高場(chǎng)疇。高場(chǎng)疇產(chǎn)生后,器件內(nèi)的電場(chǎng)分布就不再是均勻的了,而成為如圖3(e)所示的情況。

圖3 偶極疇產(chǎn)生時(shí)的電荷、電場(chǎng)分布

1.3.2 疇的發(fā)展和消失

高場(chǎng)疇在外加電場(chǎng)的作用下,要從陰極渡越到陽極,并在渡越中逐漸長(zhǎng)大,剛開始的疇很小,由于疇內(nèi)電場(chǎng)比疇外強(qiáng),使疇內(nèi)電子積累和耗盡更加強(qiáng)烈,疇內(nèi)的電場(chǎng)也就越來越強(qiáng),疇外的電場(chǎng)也就越來越弱。這一過程一直持續(xù)到疇內(nèi)電子的平均運(yùn)動(dòng)速度與疇外電子的運(yùn)動(dòng)速度相等時(shí),疇就不再增大。同時(shí)疇以一定的速度運(yùn)動(dòng)到陽極直到被陽極吸收為止,然后又在陰極附近產(chǎn)生新的疇,并重復(fù)上述過程。圖4表示了疇的形成、生長(zhǎng)、渡越和消失的過程以及材料內(nèi)電場(chǎng)的關(guān)系。

圖4 偶極疇的形成和渡越過程

1.3.3 電流波形

轉(zhuǎn)移電子器件內(nèi)電子運(yùn)動(dòng)的平均速度與時(shí)間的關(guān)系如圖5所示,其中a點(diǎn)表示疇開始形成,ab段表示疇在長(zhǎng)大,bc段表示疇成熟后向陽極渡越,cd表示疇到達(dá)陽極消失。前面已提到轉(zhuǎn)移電子器件內(nèi)的電流為I=AJ,并由式(2)(3)(4)可得

也就是說I與成正比,所以轉(zhuǎn)移電子器件內(nèi)的電流波形應(yīng)與圖5所示曲線一致。

圖5 轉(zhuǎn)移電子器件內(nèi)電子平均速度與時(shí)間的關(guān)系

1.3.4 電流—電壓特性

轉(zhuǎn)移電子器件的電流—電壓特性曲線如圖6所示,它與速度—電場(chǎng)曲線有相似之處,但有也明顯差別。當(dāng)器件兩端的電壓從零開始上升時(shí),電流沿直線段AB增加;當(dāng)外加電壓超過電壓Vth時(shí),電流沿線段BC下降,在這期間,轉(zhuǎn)移電子器件內(nèi)有偶極疇的生長(zhǎng)和渡越,器件呈現(xiàn)負(fù)阻;之后再繼續(xù)加大外加電壓時(shí),電流緩慢增加,如CD所示。

反之,當(dāng)外加電壓從較高的值下降時(shí),電流變化曲線為DC;當(dāng)電壓繼續(xù)下降時(shí),電流的變化曲線不再是CB了,而是沿虛線所示的CE段變化,也就是說,在偶極疇渡越期間,外加端電壓即使下降到閥值Vth以下時(shí),疇內(nèi)電場(chǎng)還是很高,疇不會(huì)立即消失;只有在端電壓下降到VS以后,疇才會(huì)立即消失,這里的VS叫做疇的維持電壓;疇消失后,隨著電壓的下降,電流逐漸降到零,變化曲線如線段EA所示。

圖6 轉(zhuǎn)移電子器件的電流—電壓特性

1.3.5 等效電路

轉(zhuǎn)移電子器件的等效電路如圖7所示,其中-Rd和Cd為疇的電阻和電容,R0和C0為疇外部的電阻和電容,LS是引線電感,CP為管殼電容。

圖7 轉(zhuǎn)移電子器件的等效電路

2 轉(zhuǎn)移電子器件的振蕩模式

2.1 疇的生長(zhǎng)時(shí)間TD、渡越時(shí)間Tt和產(chǎn)生振蕩的條件

偶極疇從產(chǎn)生、長(zhǎng)大到成熟所需要的時(shí)間叫做疇的生長(zhǎng)時(shí)間,用TD表示。由電磁場(chǎng)理論可知,在均勻線性媒質(zhì)中,電荷隨時(shí)間變化的規(guī)律為

式中,ρ0為電荷密度的初始值:。

如果在導(dǎo)電媒質(zhì)中,μd<0,則Td<0,這時(shí)該媒質(zhì)中的任何電荷不均勻性都要按指數(shù)規(guī)律增長(zhǎng),|μd|越大,生長(zhǎng)就越快。于是定義

為負(fù)微分遷移率媒質(zhì)的電荷生長(zhǎng)時(shí)間,它是電荷密度增加到初始值得e倍所需要的時(shí)間。

如果轉(zhuǎn)移電子器件中疇的渡越區(qū)間(又叫做工作層或有源區(qū))的長(zhǎng)度為L(zhǎng),電子的飽和漂移速度為vS,則疇的渡越時(shí)間為

當(dāng)TD>Tt時(shí),表示電子會(huì)在疇成熟之前到達(dá)陽極,所以不能形成疇。欲使疇形成,必須有TD<Tt,即

把vS=107cm/s,ε≈1.1×10-12C/V·cm,e=1.6×10-19C,|μd|=100cm2/V·s代入之,得到

上式就是砷化鎵材料中產(chǎn)生振蕩的條件。即要產(chǎn)生振蕩,除器件必須有足夠的載流子濃度外,還必須有足夠的有源區(qū)長(zhǎng)度。

2.2 純粹渡越時(shí)間模(T0=Tt)

轉(zhuǎn)移電子器件與適當(dāng)?shù)耐怆娐方Y(jié)合就構(gòu)成了振蕩器。由于器件外面接有諧振電路等外電路,因而器件上除加有直流電壓外,還重疊有諧振電路上的交流電壓,受這個(gè)交流電壓的影響,器件可以產(chǎn)生不同的振蕩模式,純粹渡越時(shí)間模就是其中的一種。在這種模式中,器件的偏壓Vb超過閥值電壓Vth,外電路采用低Q值的諧振回路,因而交流電壓幅度很小,從而合成電壓的最小值仍然大于閥值電壓,如圖8所示。

圖8 純粹渡越時(shí)間模的工作原理

在t1瞬間,器件內(nèi)形成偶極疇,電流立即從a點(diǎn)快速下降到b點(diǎn);t1~t2期間,偶極疇向陽極渡越,在t2瞬間,疇到達(dá)陽極被吸收而消失,電流迅速上升,同時(shí)在陰極附近又產(chǎn)生一個(gè)新的疇,這樣不斷反復(fù),就形成了一系列的電流脈沖,這種模式的高頻振蕩周期T0就等于渡越時(shí)間Tt。

如前所示,減少器件的有源區(qū)長(zhǎng)度L就可以提高振蕩頻率,但L太小,承受功率的能力也就降低,因此兩者是相矛盾的。而且由于電流是尖脈沖,效率就低,大約為7%。

2.3 淬滅疇模(TD<T0<Tt)

當(dāng)Vb>Vth時(shí),由于外電路采用高Q值諧振回路,所以反作用到器件上的交流電壓幅度較大,導(dǎo)致合成電壓在一個(gè)周期的大部分時(shí)間內(nèi)處于閥值電壓以上,只有小部分時(shí)間在維持電壓以下,如圖9所示。

圖9 淬滅疇模的工作原理

當(dāng)外加電壓由最小值Vmin上升時(shí),電流特性曲線沿oda線上升,當(dāng)達(dá)到a點(diǎn)以后,電壓超過閥值,偶極疇產(chǎn)生并成長(zhǎng),電流特性曲線沿ab線迅速下降,達(dá)到b點(diǎn)后,偶極疇已成熟并在器件內(nèi)渡越,電流特性曲線沿bc曲線變化,直到電壓達(dá)到最大值。

當(dāng)電壓從最大值開始下降時(shí),電流特性曲線沿cbd曲線變化,在t2瞬間,外加電壓小于維持電壓,偶極疇淬滅,電流特性曲線沿ado曲線下降,直到第二個(gè)Vmin……,如此不斷重復(fù),就稱為淬滅模振蕩。

由上述可見,偶極疇的生長(zhǎng)和淬滅由交流電壓控制,即振蕩頻率由諧振電路控制,與工作層長(zhǎng)度L無關(guān)。由于T0<Tt,所以淬滅模的振蕩頻率ft要比渡越頻率ft高,但f0的上限要保證在t2~t3時(shí)間內(nèi)疇能淬滅,否則會(huì)接著產(chǎn)生第二個(gè)疇。這種模式的效率比純粹渡越時(shí)間模要高,約為13%。

2.4 延遲疇模(TD<Tt<T0)

在渡越時(shí)間Tt<T0的條件下,偶極疇到達(dá)陽極被吸收時(shí),合成電壓正好下降到閥值電壓以下,這時(shí)新的疇不能產(chǎn)生,器件內(nèi)沒有疇,直到合成電壓再次上升到超越閥值電壓時(shí),才又產(chǎn)生一個(gè)新的疇。這種疇由于外電路的原因而延遲了產(chǎn)生,所以叫做延遲疇模,如圖10所示。延遲疇模外電路的Q值和器件的偏置與淬滅模類似,同樣TD<Tt,即在陰極產(chǎn)生的疇能充分成長(zhǎng)并渡越。

延遲疇模的工作過程與淬滅疇模相似,差別在于t=t2時(shí),即器件的合成端電壓由最大值下降到Vt2時(shí),偶極疇已經(jīng)到達(dá)陽極并消失,同時(shí)Vt2<Vth,所以沒有新疇產(chǎn)生。電流特性曲線就從cbd線突然變到ade線上(見圖中的向上的箭頭),并沿ade線下降,然后再沿eda線上升,直到t=t3瞬間,合成端電壓再次上升到閥值,器件內(nèi)又產(chǎn)生一個(gè)新的疇。這種疇的周期被延遲了一段時(shí)間Δτ=t3-t2。

延遲疇模振蕩的頻率范圍是ft/2<f0<ft,其中f0<ft是由延遲疇模的定義所決定,f0>ft/2是為保證偶極疇到達(dá)陽極時(shí),電壓低于Vth。延遲疇模的理論效率可達(dá)27%。

以上三種振蕩模式在器件里都必須形成偶極疇,所以統(tǒng)稱為行疇模。不過在實(shí)際振蕩器中,各種模式的界限并不是十分嚴(yán)格。

圖10 延遲疇模的工作原理

耿氏二極管是轉(zhuǎn)移電子器件之一。此外,還有其他振蕩模式(如限制空間電荷模式、弛豫振蕩模式、混合振蕩模式等)的轉(zhuǎn)移電子器件,但實(shí)際應(yīng)用的模式還是偶極疇渡越時(shí)間模式,它在微波電路中已得到有效的應(yīng)用。

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