郭袁俊, 李 偉, 徐世珍, 祖小濤
(電子科技大學(xué) 物理電子學(xué)院,成都 610054)
傳感器自出現(xiàn)以來就具有舉足輕重的地位,作為信息采集的重要手段,傳感器在人類生活的方方面面都具有重要作用。聲表面波器件利用聲表面波在壓電材料表面?zhèn)鬏旑l率的變化來檢測(cè)標(biāo)靶物濃度變化,具有高效、節(jié)能、穩(wěn)定,便攜易于集成化等諸多優(yōu)點(diǎn)。通常聲表面氣體波器件采用半導(dǎo)體氧化物作為敏感膜層,用來檢測(cè)易燃易爆及有毒氣體。
聲表面波器件通常是將叉指換能器(IDT)與反射柵沉積在壓電材料上[1],在兩組IDT間的敏感區(qū)域生長不同的敏感膜層用來檢測(cè)標(biāo)靶物。氧化鋅是一種具有寬帶隙(3.36 eV)的無機(jī)半導(dǎo)體,具有很高的激子束縛能(60 meV),在傳感器研究中常作為敏感膜層使用[2-4]。在氧化鋅氣體傳感器[5-7]檢測(cè)中,由于氧化鋅為n型半導(dǎo)體,對(duì)還原性氣體,通常傳感器輸出頻率下降,因此常用作對(duì)氨氣[8]檢測(cè)。
本文介紹了基于氧化鋅敏感膜的聲表面波傳感器對(duì)氨氣檢測(cè)過程中呈現(xiàn)出的頻率上升和頻率下降的情況,并利用傳感器對(duì)氨氣的不同響應(yīng)機(jī)制對(duì)該現(xiàn)象進(jìn)行了合理的解釋。該研究對(duì)傳感器的制作、傳感器響應(yīng)機(jī)制的理解,以及拓展傳感器實(shí)驗(yàn)[9-10],提升高校實(shí)驗(yàn)教學(xué)的創(chuàng)新性及研究性有重要的參考意義。
(1) 儀器。X射線衍射儀(D/max-2400,Rigaku,日本),場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡(1530 VP,Carl Zeiss,德國),頻率計(jì)數(shù)器(53210,Agilent,美國),勻膠機(jī)(KW-4A,CHEMAT,中國),直流電源(E3631A,Agilent,美國),箱式爐(KXX-5-12A,中國上??莆鲈囼?yàn)儀器廠),恒溫箱(DHG-9203A,上海-恒科技有限公司),超聲金絲球焊機(jī)(SH2012, 深圳市三合發(fā)光電設(shè)備有限公司)。
(2) 試劑。乙酸鋅,分析純,上海晶純生化科技股份有限公司。
(3) 聲表面波器件。本實(shí)驗(yàn)中采用的是由四川壓電與聲光技術(shù)研究所提供的ST-cut石英聲表面波器件基底(12 mm×3 mm×1.5 mm),在基底上沉積兩組叉指換能器(各30對(duì))與反射柵,聲表面波的波長為16 μm,聲表面波器件的頻率為200.15 MHz。
1.2.1配制乙酸鋅前驅(qū)液
在50 mL燒杯中,將1.10 g乙酸鋅(0.005 mol)溶于10 mL 去離子水中,將燒杯置于60 ℃水浴環(huán)境下攪拌2 h,然后于室溫下靜置陳化24 h。
1.2.2制備氧化鋅納米薄膜
將石英聲表面波器件基片水平黏在有機(jī)玻璃板上,置于勻膠機(jī)中,在轉(zhuǎn)速3 000 r/min條件下,旋涂1層氧化鋅納米薄膜。然后將器件分為A/B兩組,分別在450 ℃下退火1 h與5 h。
1.2.3制作聲表面波傳感器
氧化鋅納米薄膜制備完成之后,將聲表面波器件通過超聲金絲球焊機(jī)接入匹配電路中。如圖1所示,將焊接完成后的電路板置于鋁制腔體內(nèi)(腔體容積2 L),在輸入端接入穩(wěn)壓直流電源,電路輸出信號(hào)通過頻率計(jì)數(shù)器記錄。利用注射器抽取一定量氨氣在測(cè)試時(shí)緩緩注入鋁制腔體內(nèi),等到響應(yīng)趨于飽和時(shí),將金屬腔的蓋子打開,氨氣緩緩溢出,響應(yīng)開始恢復(fù)。
圖2所示為旋涂法制備的氧化鋅納米薄膜樣品的XRD圖譜,2θ=31.77°和34.42°處的衍射峰與六方纖鋅礦氧化鋅晶體(標(biāo)準(zhǔn)卡片JCPDS卡號(hào):36-1451)的(100),(002)衍射峰對(duì)應(yīng)??梢钥闯?不論是A組與B組在氧化鋅納米薄膜的制備上都取得成功,最高點(diǎn)衍射峰(100)強(qiáng)度十分接近。
圖1 傳感器實(shí)驗(yàn)裝置圖
圖2 氧化鋅納米薄膜XRD圖譜
圖3所示為氧化鋅納米薄膜生長形貌在不同放大倍數(shù)的場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡照片。從圖3(a)與(b)可以看出,A組氧化鋅納米薄膜生長致密,但表面有缺陷,且缺陷分布較多,較大缺陷尺寸約為500 nm。從圖3(c)與(d)中可以看出,B組氧化鋅薄膜制備更加致密平滑,整體分布相對(duì)均勻,只有較少的缺陷,并且缺陷的尺寸約為200 nm。
(a)與(b)A組不同放大倍數(shù)照片;(c)與(d)B組不同放大倍數(shù)照片
圖3 氧化鋅納米薄膜SEM照片
圖4(a)是A組氧化鋅聲表面波傳感器對(duì)氨氣響應(yīng),可以看到A組傳感器在對(duì)氨氣的檢測(cè)中頻率偏移ΔfA>0;在開始的4組對(duì)濃度100×10-6的氨氣測(cè)試中,傳感器頻率偏移ΔfA約為500 Hz,氨氣濃度為80×10-6以及60×10-6條件下,ΔfA也約為500 Hz,在隨后進(jìn)行的不同濃度(40×10-6、20×10-6、10×10-6)的氨氣測(cè)試中,傳感器的頻率變化隨著氨氣濃度減小而變小。圖4(b)是B組氣體傳感器對(duì)氨氣的響應(yīng),對(duì)于每一種濃度的氨氣,B組傳感器的響應(yīng)情況分兩個(gè)階段,最初階段響應(yīng)頻率變化為ΔfB>0,但是持續(xù)的時(shí)間很短約為40 s,第二階段響應(yīng)變化為ΔfB<0,直至達(dá)到變化的最大值。
(a) A組傳感器響應(yīng)
(b) B組傳感器響應(yīng)
圖4 聲表面波氣體傳感器對(duì)氨氣的響應(yīng)
氧化鋅納米膜采用旋涂法制備,厚度h約為50 nm,而聲表面波波長λ為16 μm,h?λ,因此聲表面波氣體傳感器輸出響應(yīng)可以用下面關(guān)系表達(dá)式[11,12]:
(1)
式中:Δf為覆蓋層由于吸附氣體引起傳感器頻移;k1,k2為壓電基片材料常數(shù);f0為傳感器固有中心頻率;h為薄膜厚度;ρ為薄膜材料密度;μ0為薄膜材料剪切模量;λ0為薄膜拉曼常數(shù);v0為聲表面波在未受擾動(dòng)時(shí)的波速。
A組氧化鋅納米薄膜在制備中,退火時(shí)間短(1 h),在薄膜結(jié)構(gòu)中殘留有部分—OH,在氨氣的催化作用下—OH開始發(fā)生縮聚反應(yīng),形成大量聚合鍵,并伴有水分子析出,使得氧化鋅納米薄膜更加致密,從而膜的剪切模量μ0增大;同時(shí),氧化鋅納米薄膜吸附部分氨氣分子使得密度ρ略微增大。由于k1(-8.7×10-8m2·s/kg)與k2(-3.9×10-8m2·s/kg)均為負(fù)值,因此,式(1)中第一項(xiàng)使得傳感器頻率減小;第二項(xiàng)使得傳感器頻率增大(-k2>0),但傳感器總的頻移ΔfA>0。如圖4(a)中所示,在低濃度氨氣條件下,ΔfA隨氨氣濃度增大而增大;但是在較大濃度下,縮聚反應(yīng)比較容易飽和,響應(yīng)ΔfA變化差異不大,在氨氣濃度為100×10-6,80×10-6以及60×10-6條件下,ΔfA約為500 Hz。
另外,聲表面波氣體傳感器敏感膜為氧化物半導(dǎo)體時(shí),Δf還可以用下面關(guān)系表達(dá)式[13-15]:
(2)
式中:cS為薄膜材料常數(shù);σ0為薄膜電導(dǎo)率。由上式可知,傳感器響應(yīng)Δf主要受電導(dǎo)率σ0影響。氧化鋅納米薄膜表面吸附游離的氧負(fù)離子,與氨氣反應(yīng)有關(guān)系式如下[16]:
NH3+5O-→2NO+3H2O+5e-
(3)
由式(2)和(3)可知,氧化鋅納米薄膜與氨氣反應(yīng),電導(dǎo)率將增大;同時(shí)傳感器頻率應(yīng)當(dāng)下降。
由于A組氧化鋅納米薄膜退火時(shí)間較短,僅為1 h,在薄膜結(jié)構(gòu)中存在較多的—OH;在氨氣的催化作用下—OH發(fā)生縮聚反應(yīng),并伴有少量水析出,由于氨氣在水中的溶解度極大(700∶1),使得在氧化鋅納米薄膜表面的氨氣大量溶解于水中,在整個(gè)實(shí)驗(yàn)過程中氨氣與氧化鋅直接發(fā)生反應(yīng)的數(shù)量太少,使得式(2)所示的響應(yīng)機(jī)制在A組氨氣檢測(cè)中占極少數(shù),A組在整個(gè)實(shí)驗(yàn)過程中以式(1)所示的響應(yīng)機(jī)制占主導(dǎo),ΔfA>0。
B組氧化鋅納米薄膜在450 ℃下退火5 h,薄膜結(jié)構(gòu)中只殘留極少量的—OH。在B組傳感器對(duì)氨氣響應(yīng)實(shí)驗(yàn)中,也存在兩種響應(yīng)機(jī)制。在傳感器與氨氣響應(yīng)的初始階段,氨氣作為催化劑,使得氧化鋅殘留極少量的—OH發(fā)生縮聚反應(yīng),有極少的水分子析出,此時(shí)如式(1)所示的機(jī)理,薄膜μ0增大,頻移遵循式(1)ΔfB1>0且逐漸增大,B組傳感器的頻率輸出逐漸增大,頻率變化ΔfB>0。但是,由于B組經(jīng)過長時(shí)間退火處理,—OH殘留極少,隨著反應(yīng)的持續(xù)進(jìn)行,不再有水分子析出,大量的氨氣分子與氧化鋅直接接觸,此時(shí)工作機(jī)理如式(2)所示,氧化鋅納米薄膜的電導(dǎo)率持續(xù)上升,此時(shí)頻移開始減小ΔfB2<0,但在反應(yīng)初始階段,由于|ΔfB2|<|ΔfB1|,總的頻率變化ΔfB>0;隨著氧化鋅與氨氣反應(yīng)逐漸占主導(dǎo)地位,當(dāng)|ΔfB|>|ΔfB1|,此時(shí)頻率變化ΔfB<0.由于B組響應(yīng)機(jī)理主要受電導(dǎo)率變化影響,如式(2)所示,因此B組頻率變化大小與氨氣濃度變化成正比,氨氣濃度越高頻率變化越大。
實(shí)驗(yàn)中采用旋涂法在石英聲表面波器件上制備了氧化鋅納米薄膜,研究退火時(shí)間對(duì)氣體聲表面波傳感器的頻率響應(yīng)及其機(jī)制的影響。實(shí)驗(yàn)分為A、B兩組分別進(jìn)行氨氣檢測(cè),其中A組由于退火不充分(1 h),有較多—OH殘留,在氧化鋅納米薄膜與氨氣反應(yīng)時(shí)氨氣主要作用為催化作用,出現(xiàn)頻率變化ΔfA>0。B組傳感器由于退火5 h,殘留極少—OH,在與氨氣反應(yīng)時(shí)響應(yīng)分為兩個(gè)階段,在反應(yīng)初始階段氨氣起催化作用,傳感器輸出頻率變化ΔfB>0;第二階段氨氣與氧化鋅納米膜反應(yīng)改變薄膜電導(dǎo)率,傳感器頻率變化ΔfB<0。
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