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淺談為提高專利權(quán)利要求書(shū)的撰寫(xiě)質(zhì)量而應(yīng)當(dāng)注意的細(xì)節(jié)問(wèn)題

2018-01-23 09:30麻雪梅
法制博覽 2018年15期
關(guān)鍵詞:國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局專利法權(quán)利

麻雪梅

北京路浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)聯(lián)盟,北京 100080

一、獨(dú)立權(quán)利要求缺少解決技術(shù)問(wèn)題的必要技術(shù)特征

(一)獨(dú)立權(quán)利要求概括的保護(hù)范圍比較大,導(dǎo)致缺少能夠解決技術(shù)問(wèn)題的必要技術(shù)特征。判斷某一技術(shù)特征是否為必要技術(shù)特征,應(yīng)當(dāng)從所要解決的技術(shù)問(wèn)題出發(fā)并考慮說(shuō)明書(shū)描述的整體內(nèi)容,不應(yīng)簡(jiǎn)單地將實(shí)施例中的技術(shù)特征直接認(rèn)定為必要技術(shù)特征。

(二)獨(dú)立權(quán)利要求沒(méi)有在保證其具有新穎性的前提下,將多個(gè)實(shí)施例進(jìn)行上位概括,或者對(duì)一些技術(shù)特征采用不適當(dāng)?shù)纳衔辉~,沒(méi)有有效地保護(hù)發(fā)明點(diǎn),即,沒(méi)有從字面侵權(quán)的角度來(lái)寫(xiě)。在侵權(quán)判定時(shí),等同原則都適用,但是,在適用等同原則時(shí),或多或少地都存在一些限制,在某一些國(guó)家中,如果實(shí)施例公開(kāi)的技術(shù)方案沒(méi)有被權(quán)利要求字面覆蓋,則視專利權(quán)人主動(dòng)放棄該部分的保護(hù),此時(shí),專利權(quán)人是不能利用等同原則將權(quán)利要求的保護(hù)范圍擴(kuò)大到其放棄的部分。

二、獨(dú)立權(quán)利要求的布局不合理,沒(méi)有包括必要的方法、系統(tǒng)、關(guān)鍵裝置和/或關(guān)鍵部件的獨(dú)權(quán),即不符合產(chǎn)業(yè)鏈布局原則,制造侵權(quán)優(yōu)先原則,方法與裝置并重的原則

撰寫(xiě)某產(chǎn)品的制造方法的權(quán)利要求時(shí)并未附加上由該方法制造而成的產(chǎn)品的獨(dú)立權(quán)利要求

1.專利申請(qǐng)的目的不是獲得授權(quán),而是授權(quán)后的使用和維權(quán)。所以,在申請(qǐng)專利時(shí),一定要從產(chǎn)業(yè)鏈的角度重點(diǎn)考慮獨(dú)立權(quán)利要求的覆蓋對(duì)象和覆蓋范圍,否則將會(huì)降低專利的價(jià)值。

2.只是單純地撰寫(xiě)方法權(quán)利要求,則在日后的侵權(quán)判定中,由于方法步驟的侵權(quán)證據(jù)不好獲取,很容易導(dǎo)致對(duì)方不侵權(quán)的情況,基于這一情況的考慮,對(duì)于發(fā)明點(diǎn)在于方法的發(fā)明,一定要基于方法發(fā)明構(gòu)建產(chǎn)品或虛擬裝置的權(quán)利要求,即,在撰寫(xiě)方法權(quán)利要求時(shí),也再附加上一份由該方法制造而成的裝置的權(quán)利要求。

三、方法獨(dú)立權(quán)利要求中存在撰寫(xiě)不合理的情況

(一)方法獨(dú)立權(quán)利要求在步驟之前加上沒(méi)有必要的執(zhí)行主體

方法獨(dú)立權(quán)利要求保護(hù)的是工藝、流程以及操作步驟等,所以,只需要在方法獨(dú)立權(quán)利要求中公開(kāi)為滿足發(fā)明目的需要做出哪些步驟即可,至于每個(gè)步驟是由誰(shuí)來(lái)執(zhí)行的,在很多方法中并不是使得該技術(shù)方案清楚、完整的必要技術(shù)特征。此外,若在每個(gè)步驟中寫(xiě)明了執(zhí)行主體,則就在一定程度上限制了方法獨(dú)立權(quán)利要求的保護(hù)范圍。因而,在很多方法中,沒(méi)有必要寫(xiě)出執(zhí)行主體,除非該執(zhí)行主體屬于區(qū)別技術(shù)特征。

(二)方法獨(dú)立權(quán)利要求中出現(xiàn)沒(méi)有必要的邏輯關(guān)系限制

對(duì)于方法獨(dú)立權(quán)利要求中的步驟,步驟間的邏輯關(guān)系不是很嚴(yán)格,如果加上了不必要的邏輯關(guān)系限制,

則就會(huì)不合理地縮小方法獨(dú)立權(quán)利要求的保護(hù)范圍,除非步驟順序就是該方法的發(fā)明點(diǎn),否則不建議在方法的步驟前加上邏輯關(guān)系。

四、從屬權(quán)利要求存在的撰寫(xiě)問(wèn)題

(一)權(quán)利要求間的引用關(guān)系不正確導(dǎo)致權(quán)利要求的保護(hù)范圍不清楚

1.每個(gè)權(quán)利要求都應(yīng)該是清楚、完整的技術(shù)方案,對(duì)于從屬權(quán)利要求,其技術(shù)方案是指增加新的技術(shù)特征或進(jìn)一步限定的技術(shù)特征加上其引用的權(quán)利要求的技術(shù)特征的總和,一旦權(quán)利要求之間的引用關(guān)系或技術(shù)特征之間的邏輯關(guān)系不準(zhǔn)確,則就會(huì)導(dǎo)致權(quán)利要求技術(shù)方案的不清楚、不完整,甚至出現(xiàn)錯(cuò)誤。

2.認(rèn)真檢查從屬權(quán)利要求之間的引用關(guān)系,并通過(guò)制作權(quán)利要求樹(shù)來(lái)檢查引用關(guān)系是否錯(cuò)誤,如果有錯(cuò)誤,則根據(jù)技術(shù)邏輯關(guān)系對(duì)從屬權(quán)利要求的引用關(guān)系進(jìn)行調(diào)整。

(二)獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫(xiě)形式不夠明顯體現(xiàn)是獨(dú)立權(quán)利要求

從屬權(quán)利要求應(yīng)該在其引用的權(quán)利要求的基礎(chǔ)上進(jìn)行補(bǔ)充或進(jìn)一步限定,如果既不是補(bǔ)充,也不是限定,則該從屬權(quán)利要求實(shí)質(zhì)上就是獨(dú)立權(quán)利要求。然而,這可能導(dǎo)致三個(gè)結(jié)果:

(1)基于從屬權(quán)利要求沒(méi)有引用到真正想引用的獨(dú)立權(quán)利要求。

(2)可能存在單一性問(wèn)題。

(3)侵權(quán)時(shí)可能有麻煩。例如:權(quán)2引用權(quán)1,表面上看來(lái)權(quán)2是個(gè)從權(quán),實(shí)質(zhì)上卻是個(gè)獨(dú)權(quán),如果侵權(quán)方的產(chǎn)品侵犯了權(quán)2的專利權(quán),則侵權(quán)方會(huì)辯解說(shuō):權(quán)2引用權(quán)1,所以權(quán)2中的技術(shù)方案包括權(quán)1中的技術(shù)特征,而我的產(chǎn)品中卻沒(méi)有權(quán)1的技術(shù)特征,所以,不侵權(quán)。

五、結(jié)論

若想撰寫(xiě)出質(zhì)量比較高的權(quán)利要求書(shū),則必須對(duì)專利法和審查指南有一定的深入了解,能夠?qū)⒎芍R(shí)靈活地運(yùn)用到實(shí)際的撰寫(xiě)當(dāng)中去。同時(shí),還要對(duì)技術(shù)方案能夠有個(gè)準(zhǔn)確的理解,然后,剖析出技術(shù)方案中的主要發(fā)明點(diǎn),從而構(gòu)架出新、創(chuàng)性較高的獨(dú)立權(quán)利要求,同時(shí),還要確保該獨(dú)立權(quán)利要求能夠具有一個(gè)合理的保護(hù)范圍。然后,對(duì)于那些優(yōu)選的技術(shù)方案可將其布設(shè)在從屬權(quán)利要求中,對(duì)于和發(fā)明點(diǎn)的關(guān)聯(lián)性較大的優(yōu)選技術(shù)方案應(yīng)當(dāng)布設(shè)在獨(dú)權(quán)之后。另外,還要確保各個(gè)從屬權(quán)利要求之間的引用關(guān)系的正確性,避免出現(xiàn)權(quán)利要求的保護(hù)范圍不清楚的問(wèn)題。

[ 參 考 文 獻(xiàn) ]

[1]中華人民共和國(guó)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局.中華人民共和國(guó)專利法,2010.

[2]中華人民共和國(guó)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局.中華人民共和國(guó)專利法實(shí)施細(xì)則,2010.

[3]中華人民共和國(guó)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局.審查指南,2010.

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