南通明芯微電子有限公司 張興杰
T V S器件中工藝參數(shù)對電性能的影響
南通明芯微電子有限公司 張興杰
瞬態(tài)電壓抑制器(TVS)為一種硅PN結(jié)高效能的保護(hù)器件,可解決電路板面緊張問題,并在反向瞬態(tài)高能的沖擊下,能夠?qū)擞抗β首羁祉憫?yīng)速度吸收,可對線路內(nèi)精密元器件形成良好保護(hù)。本文研究顯示擴(kuò)散溫度、擴(kuò)散時(shí)間、電阻率及鈍化保護(hù)等工藝參數(shù)會(huì)影響TVS二極管電性能。擴(kuò)散溫度及擴(kuò)散時(shí)間增加會(huì)增加擴(kuò)散結(jié)深;而電阻率升高,TVS擊穿電壓增大,鈍化保護(hù)可可減小TVS器件內(nèi)反向漏電流。
TVS器件;工藝參數(shù);電性能;影響
隨電子科技及信息技術(shù)不斷發(fā)展,半導(dǎo)體器件在功能不斷強(qiáng)化的同時(shí),體積日趨減小,便捷式消費(fèi)電子產(chǎn)品大量出現(xiàn),在人們?nèi)粘I钪邪l(fā)揮了重要作用。這些便攜式電子產(chǎn)品對主板面積還有器件響應(yīng)性能有較高要求,響應(yīng)器不僅要滿足高速下的數(shù)據(jù)傳輸,同時(shí)還要擁有足夠的抗電壓、電流瞬態(tài)干擾能力。瞬態(tài)電壓抑制器(TVS)為一種硅PN結(jié)高效能的保護(hù)器件,器件不僅解決了電路板面的緊張狀況,在反向瞬態(tài)高能的沖擊下,能夠?qū)擞抗β首羁祉憫?yīng)速度吸收,可對線路內(nèi)精密元器件形成良好保護(hù)。
TVS是由美國學(xué)者Richard Von Barandy所發(fā)明的,是由硅在擴(kuò)散工藝下所形成的一個(gè)PN結(jié)半導(dǎo)體二極管器件。雙向 TVS是由兩只單向TVS 通過反向串接而成的,使用過程中對電壓正端、負(fù)端無需考慮。使用過程中,當(dāng)TVS兩端遭受到瞬態(tài)反向高能量的沖擊時(shí),TVS可以在10-12s 量級時(shí)間內(nèi)將數(shù)KW浪涌功率吸收,將器件兩極間高阻抗轉(zhuǎn)變成低阻抗,將器件兩極之間電壓箝位到一個(gè)預(yù)定值,讓電子線路內(nèi)安裝的精密元器件免收靜電及各種浪涌脈沖損壞,對其進(jìn)行有效保護(hù)。
TVS二極管制備之后,通過FEC200測試儀(Frothingham Electronics Corporation 生產(chǎn))對TVS二極管樣品進(jìn)行電參數(shù)測試。測試標(biāo)準(zhǔn)參照TVS產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)來進(jìn)行,測試中的相應(yīng)數(shù)據(jù)參數(shù)為:擊穿電壓測試電流取值為1mA,反向漏電流測試電壓取值為TVS二極管額定關(guān)斷電壓,也就是擊穿電壓值的85%,通過測試,對TVS二極管內(nèi)不同工藝參數(shù)對于電性能的影響進(jìn)行討論。
分別選定電阻率為0.1010-0.1117、0.1512-0.1672、0.2045-0.2261Ωicm這三個(gè)級別范圍的N型硅片,對硅片表面雜質(zhì)進(jìn)行清洗,經(jīng)過預(yù)淀積、再分布后,在1250℃溫度下將三組硅片分別推進(jìn)10、20、30、40、50h,完成雜質(zhì)擴(kuò)散,對三組硅片結(jié)深進(jìn)行分析,得到圖3.1所示的擴(kuò)散時(shí)間同結(jié)深間的關(guān)系。
圖3.1 擴(kuò)散時(shí)間同結(jié)深間的關(guān)系
從圖3.1可看出不同電阻率硅片隨擴(kuò)散時(shí)間增加,結(jié)深也是不斷增加的,但是增加的趨勢隨時(shí)間增加逐漸變緩;相同擴(kuò)散時(shí)間下,原始硅片電阻率越高,結(jié)深越大。
分別選定電阻率為0.1010-0.1117、0.1512-0.1672、0.2045-0.2261Ωicm這三個(gè)級別范圍的N型硅片,對硅片表面雜質(zhì)進(jìn)行清洗,經(jīng)過預(yù)淀積、再分布后,在 1100℃、1150℃、1200℃、1250℃、1270℃溫度下將三組硅片推進(jìn)15h,完成雜質(zhì)擴(kuò)散,對三組硅片結(jié)深進(jìn)行分析,得到圖3.2所示的擴(kuò)散溫度同結(jié)深間的關(guān)系。
圖3.2 擴(kuò)散溫度同結(jié)深間的關(guān)系
從圖3.2可看出不同電阻率硅片隨擴(kuò)散溫度增加,結(jié)深也是不斷增加的。分析原因主要是因?yàn)闇囟仍黾雍?,TVS二極管內(nèi)雜質(zhì)擴(kuò)散系數(shù)也是相應(yīng)增加的,使得TVS二極管在擴(kuò)散時(shí)間相同情況下,溫度越高,擴(kuò)散也就越深。
對擴(kuò)散時(shí)間同擴(kuò)散溫度對TVS二極管結(jié)深影響關(guān)系中可以看出,擴(kuò)散溫度在雜質(zhì)擴(kuò)散中影響作用更大,因此在TVS二極管制備過程中,要對擴(kuò)散溫度進(jìn)行精準(zhǔn)控制,因?yàn)門VS二極管在高溫?cái)U(kuò)散狀態(tài)下,1℃的溫度偏差會(huì)對應(yīng)5%-10%的擴(kuò)散系數(shù)上的差別,這對要精準(zhǔn)控制TVS二極管器件結(jié)深是非常不利的。
將上述三組不同電阻率的N型硅片進(jìn)行摻雜處理,并在硅片內(nèi)預(yù)淀積足量硼,并在氮?dú)庋鯕鈿夥障拢?200℃溫度下,將三組硅片推進(jìn)擴(kuò)散,完成雜質(zhì)擴(kuò)散,對電阻率對TVS二極管擊穿電壓的影響進(jìn)行分析:
相同的擴(kuò)散條件之下,電阻率TVS二極管擊穿電壓間呈正比例關(guān)系,電阻率越高,TVS二極管襯底中的雜質(zhì)濃度越低,而TVS二極管擊穿電壓越大。分析原因主要是因?yàn)檠┍罁舸┦莿輭緟^(qū)中的載流子對電離進(jìn)行碰撞的結(jié)果,雪崩擊穿主要是載流子對電離的碰撞能力所決定的,而電場作用之下,載流子在單位距離下因偏移產(chǎn)生的電子-空穴的對數(shù)越多,雪崩擊穿效應(yīng)也就越強(qiáng),TVS二極管器件越容易被擊穿。對TVS二極管來說,硅片的電阻率越低,硅片內(nèi)雜質(zhì)的摻雜濃度就越高,相同條件之下載離子所產(chǎn)生的電子-空穴的對數(shù)也就越多,因此越容易出現(xiàn)雪崩擊穿,也就是說擊穿的電壓也就越低。
從上述可看出,硅片雪崩擊穿電壓是由結(jié)深、襯底雜質(zhì)濃度還有擴(kuò)散層表面雜質(zhì)濃度這幾個(gè)參數(shù)共同決定的,這三個(gè)參數(shù)確定了,那么TVS二極管擴(kuò)散結(jié)的擊穿電壓也就確定了。
擴(kuò)散參數(shù)對TVS二極管電性能影響極大。擴(kuò)散時(shí)間不同、擴(kuò)散溫度不同,TVS二極管擊穿電壓也不同。因此TVS二極管制備中需選擇對適合電阻率硅片,對硅片擴(kuò)散參數(shù)進(jìn)行選擇,這樣TVS二極管器件電性能才會(huì)更有保障。