周衡志，顧宇強(qiáng)，王文浩，顧夢凡，方信賢，白允強(qiáng)

(1. 江蘇省先進(jìn)結(jié)構(gòu)材料與應(yīng)用技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室，江蘇 南京211167)(2. 南京工程學(xué)院材料工程學(xué)院，江蘇 南京 211167)

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納米化學(xué)復(fù)合鍍沉積機(jī)理研究方法

周衡志1,2，顧宇強(qiáng)2，王文浩2，顧夢凡2，方信賢1,2，白允強(qiáng)1,2

(1. 江蘇省先進(jìn)結(jié)構(gòu)材料與應(yīng)用技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室，江蘇 南京211167)(2. 南京工程學(xué)院材料工程學(xué)院，江蘇 南京 211167)

周衡志

在總結(jié)了化學(xué)復(fù)合鍍主要機(jī)理和沉積模型的基礎(chǔ)上，從微觀動力學(xué)和電化學(xué)兩個(gè)角度入手，綜述了微觀形貌觀察法、電化學(xué)研究法、電化學(xué)結(jié)合譜法等國內(nèi)外關(guān)于納米化學(xué)復(fù)合鍍沉積機(jī)理的研究方法，并指出了各方法的優(yōu)缺點(diǎn)。微觀形貌觀察法主要是借助于先進(jìn)的形貌觀察手段探討復(fù)合鍍層中各種微粒的運(yùn)動規(guī)律，從而總結(jié)沉積機(jī)理。電化學(xué)方法則是應(yīng)用混合電位理論，結(jié)合X射線譜、拉曼光譜、XPS等譜法分析，通過開路電位、極化曲線和伏安曲線電化學(xué)測量側(cè)重討論納米化學(xué)復(fù)合鍍過程中的沉積步驟、陰陽兩極電化學(xué)反應(yīng)反應(yīng)速率、各沉積產(chǎn)物的沉積電位變化等內(nèi)容，進(jìn)而總結(jié)出復(fù)合鍍層的沉積機(jī)理。最后，對納米化學(xué)復(fù)合鍍沉積機(jī)理研究方法的發(fā)展方向進(jìn)行了展望。

納米化學(xué)復(fù)合鍍；沉積機(jī)理；電化學(xué)法；譜法

1 前 言

納米復(fù)合鍍層由于獨(dú)特物理及化學(xué)性能的A12O3[1]、碳納米管[2]、MoS2[3]、SiC[4]等納米粒子的加入，各項(xiàng)性能均優(yōu)于微米復(fù)合鍍層，在航空、航天和交通運(yùn)輸?shù)榷鄠€(gè)領(lǐng)域具有越來越多的應(yīng)用。但納米化學(xué)復(fù)合鍍鍍液體系復(fù)雜，影響因素甚多，新穎制備工藝層出不窮[5-7]，因此多種化學(xué)復(fù)合鍍機(jī)理共存，復(fù)合沉積機(jī)理的研究對于制備高性能的納米復(fù)合鍍層具有十分重要的意義。

目前，關(guān)于復(fù)合沉積機(jī)理研究工作的系統(tǒng)報(bào)道鮮見，對于沉積過程機(jī)理的研究方法尚沒有統(tǒng)一的定論。本文在總結(jié)了化學(xué)復(fù)合鍍主要機(jī)理的基礎(chǔ)上，綜述了近幾年國內(nèi)外關(guān)于沉積機(jī)理的研究方法，為后續(xù)的研究提供可參考的依據(jù)。

2 納米化學(xué)復(fù)合鍍機(jī)理

化學(xué)復(fù)合鍍層中的基體金屬是通過氧化還原反應(yīng)得到的，而鍍液中添加的微粒具有很強(qiáng)的化學(xué)穩(wěn)定性，不參與化學(xué)鍍覆沉積反應(yīng)，所以不影響基體金屬的沉積過程，只是發(fā)生共沉積。因此，化學(xué)復(fù)合鍍沉積可以分成基體金屬沉積以及伴隨的微細(xì)顆粒沉積兩部分。目前，報(bào)道的復(fù)合鍍沉積的機(jī)理主要有：吸附機(jī)理、力學(xué)機(jī)理[8]及電化學(xué)機(jī)理[9]?；瘜W(xué)鍍Ni-P合金目前的沉積機(jī)理有原子氫、氫化物傳輸、電化學(xué)及羧基-鎳離子配位這4種理論?；瘜W(xué)復(fù)合鍍的沉積機(jī)理模型主要有：①Guglielmi模型——兩步吸附機(jī)理[10]，不考慮工藝參數(shù)的影響，表面吸附有離子層的微粒首先被可逆地吸附在陰極表面，然后隨著部分吸附層的還原，微粒與還原產(chǎn)物發(fā)生強(qiáng)吸附而不可逆地進(jìn)入鍍層；②MTM模型[11]——五步沉積機(jī)理，忽略電極/溶液界面、微粒/電極相互作用，提出吸附層首先在微粒表面形成，該微粒在外力作用下通過流動層和擴(kuò)散層到達(dá)陰極表面，最后微粒發(fā)生吸附而被嵌入鍍層；③Valdes模型[12]——微粒快速沉積機(jī)理，定量地描述鍍液中距電極表面一定距離內(nèi)微粒的流體力學(xué)運(yùn)動規(guī)律；④拋物線軌道模型[13]，考慮微粒的受力情況，評估微粒按拋物線軌道共沉積的速率；⑤Hwang模型[14]，改進(jìn)了Guglielmi模型，認(rèn)為吸附不同種類的微粒，電極反應(yīng)決定微粒的共沉積速率，而動力學(xué)或擴(kuò)散參數(shù)決定吸附速率。

3 納米化學(xué)復(fù)合鍍沉積機(jī)理研究方法

研究納米化學(xué)復(fù)合鍍機(jī)理的方法主要從微觀動力學(xué)和電化學(xué)兩個(gè)方法入手，動力學(xué)主要是借助于先進(jìn)的形貌觀察分析設(shè)備探討復(fù)合鍍層中各種微粒的運(yùn)動規(guī)律，從而總結(jié)沉積機(jī)理；電化學(xué)則是側(cè)重討論在復(fù)合鍍層沉積過程中沉積電位的變化、陰陽兩極電化學(xué)反應(yīng)的速率以及各離子的反應(yīng)、析出、鈍化等情況，進(jìn)而總結(jié)出復(fù)合鍍層的沉積機(jī)理。具體方法可分為沉積過程微觀形貌觀察法、電化學(xué)研究法、電化學(xué)結(jié)合譜法研究法等。

3.1 沉積過程微觀形貌觀察法

Vahid等[15]采用超聲波誘導(dǎo)化學(xué)鍍法在St-37鋼表面成功制備了Ni-B-TiO2復(fù)合鍍層，用SEM觀察了復(fù)合鍍層的形貌，發(fā)現(xiàn)鍍層中TiO2微粒與Ni的原子團(tuán)簇發(fā)生了均勻的共沉積。Xie Zhihui等[16]討論了金屬主鹽濃度、pH值和溫度對沉積速率的影響，發(fā)現(xiàn)沉積速率隨著溫度、H2PO2-濃度和pH值的增大而增大，隨著絡(luò)合劑濃度的增大而減小，結(jié)合SEM觀察結(jié)果也發(fā)現(xiàn)在起初的0.5min內(nèi)Ni首先發(fā)生置換沉積，隨后同時(shí)發(fā)生置換沉積和自催化沉積，5min以后變?yōu)閱我坏淖源呋练e。謝華等[17]提出復(fù)合粒子與基質(zhì)金屬共沉積是形成復(fù)合鍍層的關(guān)鍵，復(fù)合粒子要進(jìn)入鍍層必須經(jīng)過3個(gè)階段：析出、嵌入金屬基質(zhì)，并向鍍件表面輸送，粒子附著于陰極鍍件，粒子被陰極表面吸附，其中鍍液中的微粒并沒有吸附鍍液中的正離子，該顆粒的吸附不是依靠電場力作用而主要是依靠外加機(jī)械力的作用。宿輝等[18]在進(jìn)行Ni-P基納米化學(xué)復(fù)合鍍層制備研究時(shí)，通過吸附理論分析、提出了納米SiCp/Ni-P化學(xué)復(fù)合鍍層的形成過程機(jī)理，可分為4個(gè)步驟完成：鍍液中的SiCp隨溶液流動(攪拌)傳送到鍍件表面，并在液流沖擊作用下在鍍件表面發(fā)生物理吸附，吸附于試樣上的SiCp被化學(xué)沉積的金屬俘獲，而鎳的沉積是依靠鍍件表面的催化作用，使H2PO2-分解出初始態(tài)原子氫，初始態(tài)原子氫在鍍件表面參加還原反應(yīng)，使Ni2+還原成鎳，被吸附的SiCp與鎳-磷合金共沉積到鍍件表面，通過物理及化學(xué)吸附，嵌入到鍍層，逐步形成復(fù)合鍍層。

此法主要從納米復(fù)合鍍層的微觀形貌和結(jié)構(gòu)特點(diǎn)來分析復(fù)合鍍層中各組成物的沉積過程和方式，缺乏對實(shí)際沉積過程的原位觀察與分析。

3.2 電化學(xué)研究法

3.2.1 開路電位(OCP)法

研究方法：以SCE為參比電極，基體材料為研究電極，Pt片為輔助電極并以電壓表讀數(shù)。金屬的穩(wěn)定電位不同，說明金屬在鍍液中的表面能不同。姚素薇等[19]通過電化學(xué)開路電位法研究了Ni-W/納米ZrO2復(fù)合電極在質(zhì)量分?jǐn)?shù)為30%的NaOH溶液中的催化析氫性能，發(fā)現(xiàn)Ni-W/ZrO2納米復(fù)合電極的穩(wěn)定混合電位較Ni-W合金電極的發(fā)生了正移，其催化析氫活性及穩(wěn)定性均優(yōu)于Ni-W合金的，見圖1。

圖1 Ni-W合金電極與Ni-W/ZrO2納米復(fù)合電極在30%NaOH溶液中的恒電流電解曲線[19]Fig.1 Electrolysis curves of Ni-W alloy and Ni-W/ZrO2nanocomposite electrodes in 30% NaOH solution[19]

QIN Tienan等[20]設(shè)計(jì)了一種原位方法觀察了AZ31鎂合金在化學(xué)鍍Ni-P過程中，基體在鍍液中的基體表面鍍層的形貌變化，并采用開路電位測量方法研究了Ni-P的沉積過程，發(fā)現(xiàn)化學(xué)鍍Ni-P的沉積過程包括鍍層的形成(0～1800s)和鍍層的增厚(1800～3600s)過程，其中鍍層的形成過程又包括鎳晶核的形核和長大過程、鍍層的二維擴(kuò)展和三維搭接過程。佟浩等[21]采用開路電位-時(shí)間譜技術(shù)表征了Ag-Si復(fù)合電極的沉積電位，并結(jié)合原子力顯微鏡、循環(huán)伏安法(CV)分析結(jié)果，得出了Ag離子發(fā)生沉積的開路電位和特征。Huang Guifang等[22]采用開路電位和循環(huán)伏安法分別測定了Fe/P的沉積電位。Van Der Kouwe E T[23]采用開路電位法研究了Ni的沉積過程。

開路電位分析方法在納米復(fù)合鍍沉積機(jī)理的研究中僅能表征沉積過程的沉積電位的變化，以此來推斷沉積的基本過程，但不能準(zhǔn)確反映鍍液中的復(fù)合微粒的沉積，此法需結(jié)合其它分析方法來詳細(xì)說明復(fù)合鍍層的沉積過程。

3.2.2 極化曲線(PC)法

此法是將混合電位理論用于納米化學(xué)復(fù)合鍍反應(yīng)動力學(xué)研究。具體研究方法：以SCE為參比電極，鍍好的Ni-P合金基體材料作為研究電極，Pt片作對電極，用線性掃描法測量極化曲線。測量前，溶液通N2以排除溶液中的溶解氧。通過對極化曲線的分析，得到以化學(xué)鍍電流形式所表示的反應(yīng)速率，并將所得結(jié)果與樣品化學(xué)鍍所得到的反應(yīng)速率相對照，以確定氧化時(shí)電子遷移數(shù)，進(jìn)而闡明化學(xué)鍍的反應(yīng)機(jī)理。

張國棟[24]和劉貴昌[25]等采用電化學(xué)分析法測試了化學(xué)鍍鎳過程的極化曲線，驗(yàn)證了化學(xué)鍍鎳的原子氫電化學(xué)聯(lián)合理論，用沉積電流密度i乘以Ni的電化當(dāng)量(1.09mg/(cm2·h))求得Ni的沉積速率，沉積電流密度i可由陰極極化曲線外推法求得。謝治輝[26]通過極化曲線研究了3種不同溶液(陰極液、陽極液和完整鍍液)的電化學(xué)行為，測定了主鹽、還原劑濃度以及鍍液pH和體系溫度對化學(xué)鍍鎳沉積速率的影響，發(fā)現(xiàn)與直接在鎂合金上化學(xué)鍍鎳后采用沉積前后重量差計(jì)算得到的沉積速率相比，化學(xué)鍍鎳的沉積過程只有通過測量完整的鍍液體系的極化曲線才能真實(shí)地反映，而不能簡單將由相互完全獨(dú)立、毫無關(guān)聯(lián)的陰、陽極半反應(yīng)構(gòu)成，同時(shí)根據(jù)Butler-Volmer公式推斷出化學(xué)鍍液體系的鎳沉積過程屬于混合控制，其表觀反應(yīng)活化能為42.89kJ·mol-1。

此類研究工作均可為PC法研究納米化學(xué)復(fù)合鍍沉積速率提供可鑒之處。王永麗等[11]在CHI 660A型電化學(xué)工作站上采用三電極體系，選用10mV/s的掃描速率、間歇式空氣攪拌方式，測試了Watts鍍液和復(fù)合鍍液在23℃下的陰極極化曲線，并采用Tafel曲線外延法求得納米SiC/Ni-P體系相應(yīng)陰極反應(yīng)的動力學(xué)參數(shù)，結(jié)果表明SiC微粒與金屬Ni的共沉積基本遵循Guglielmi的兩步吸附機(jī)理；Watts鍍液中陰極反應(yīng)的交換電流密度i0和表觀傳遞系數(shù)α都大于復(fù)合鍍液的(如表1所示)，表明鍍液中添加的SiC微粒對鎳的析出有阻礙作用，從而容易得到結(jié)晶致密且性能優(yōu)越的鍍層。

表1 不同鍍液中陰極反應(yīng)的動力學(xué)參數(shù)[11]Table 1 Kinetic parameters of cathodic reaction in different plating[11]

姚素薇等[19]通過穩(wěn)態(tài)極化曲線η-i的測量，并對其η-lgi曲線的塔菲爾區(qū)進(jìn)行線性擬合求得斜率系數(shù)，進(jìn)而求得反應(yīng)動力學(xué)參數(shù)i0，將lgi0對1/T作圖得到了反應(yīng)的表觀活化自由能△G(如圖2所示)。Ohno I等[27]也用極化曲線法研究了Cu/Ni/Co體系的沉積機(jī)理。

圖2 Ni-W/ZrO2納米復(fù)合電極的Arrhenius圖[19]Fig.2 Arrhenius plot of Ni-W/ZrO2 nanocomposite electrode for hydrogen evolution[19]

根據(jù)被研究納米復(fù)合鍍體系在完全鍍液中的極化曲線，對其進(jìn)行適當(dāng)?shù)臄?shù)學(xué)處理分析，可得到陰極反應(yīng)的交換電流密度、反應(yīng)動力學(xué)參數(shù)、表觀活化自由能等反應(yīng)沉積過程的準(zhǔn)確數(shù)據(jù)，可定量地分析復(fù)合鍍沉積過程。

3.2.3 伏安曲線(CV)法

通過基體在不同溶液中的伏安曲線，可觀察到Ni的沉積電位，出現(xiàn)陽極電流的電位及鈍化狀態(tài)(H2PO2-不被氧化)的電位，以及化學(xué)鍍處于自催化穩(wěn)態(tài)過程時(shí)的電位，為研究提供有效的依據(jù)。研究方法：以SCE 為參比電極，被測試樣為工作電極、Pt為輔助電極，以電化學(xué)測量系統(tǒng)測量得到動電位掃描伏安曲線。苗治廣[28]、

陳陣[29]等在不銹鋼基體上制備了PbO2-WC-CeO2復(fù)合鍍層，通過掃描電鏡、X射線衍射、循環(huán)伏安曲線考察了復(fù)合電極的電沉積過程，發(fā)現(xiàn)WC和CeO2固體顆粒的加入使得PbO2沉積過程發(fā)生了擇優(yōu)生長和晶粒細(xì)化，催化活性和耐腐蝕性能明顯提高；通過多次掃描循環(huán)伏安曲線可知，第一次PbO2晶粒的沉積過程為溶液中的Pb(Ⅱ)經(jīng)過Pb(Ⅲ)最后轉(zhuǎn)變?yōu)镻b(Ⅳ)，即PbO2沉積在不銹鋼基表面，從第二次掃描開始溶液中的Pb(Ⅱ)直接轉(zhuǎn)變?yōu)镻b(Ⅳ)即PbO2沉積在不銹鋼基表面。

圖3 PbO2-WC-CeO2復(fù)合鍍層的多次掃描循環(huán)伏安曲線[29]Fig.3 Cyclic voltammetry curves of PbO2-WC-CeO2 coatings[29]

Xuan Tianpeng等[30]采用循環(huán)伏安法研究了CeO2/Co-Ni-B的沉積電位，發(fā)現(xiàn)合金和復(fù)合鍍層的共沉積分別發(fā)生在- 0.88V和 - 0.60V的地方，復(fù)合鍍層的曲線中峰值降低較明顯，表面CeO2中的Ce元素具有提高共沉積速率的作用。

圖4 Co-Ni-B-CeO2復(fù)合鍍層的循環(huán)伏安曲線[30]Fig.4 Cyclic voltammetry curves of Co-Ni-B-CeO2 coating[30]

Nazanin Rahimi等[31]采用CV法評價(jià)了碳納米管/Ni修飾微混合聚合物化學(xué)鍍沉積過程中的析氫過程，得出了各自的沉積電位和沉積過程。

CV分析法可以很好地用來解釋復(fù)合鍍沉積過程中各反應(yīng)所發(fā)生的不同階段和沉積電位，進(jìn)而說明沉積機(jī)理，但對于不參與反應(yīng)的微粒沉積過程難以表征。

在采用電化學(xué)方法研究納米化學(xué)復(fù)合鍍沉積機(jī)理的過程中，也結(jié)合X射線譜、拉曼光譜、XPS電子能譜等來表征各階段形成的物質(zhì)結(jié)構(gòu)來說明沉積過程。向陽輝[32]、曾躍[33]、曠亞非[34]等人的工作可提供良好的借鑒。

4 結(jié) 語

隨著納米化學(xué)復(fù)合鍍制備工藝技術(shù)的發(fā)展，以及其應(yīng)用領(lǐng)域的日益增多，關(guān)于高性能納米復(fù)合鍍的復(fù)合沉積機(jī)理的研究將成為材料界研究的熱點(diǎn)，并受到越來越多的關(guān)注。

雖然結(jié)合X射線譜、拉曼光譜、XPS等譜法分析的微觀動力學(xué)和電化學(xué)分析方法在討論納米化學(xué)復(fù)合鍍沉積過程微觀形貌、沉積步驟、電極反應(yīng)速率、各沉積產(chǎn)物的沉積電位等方面具有明顯優(yōu)勢，但為系統(tǒng)清晰地闡述清楚納米復(fù)合鍍的沉積機(jī)理，還應(yīng)依靠諸多原位的分析觀察手段，以確切地了解復(fù)合沉積過程發(fā)生的物理化學(xué)過程，并借助于流體動力學(xué)模型，確定各新穎制備技術(shù)的邊界條件、通過相關(guān)的軟件進(jìn)行復(fù)合沉積實(shí)際過程的模擬，為后續(xù)的研究提供可參考的依據(jù)。

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[33] Zeng Yue(曾 躍),Yao Shibing(姚士冰),Zhou Shaomin(周紹民).ActaPhysico-ChimicaSinica(物理化學(xué)學(xué)報(bào))[J],2000,16(2): 175-177.

[34] Kuang Yafei(曠亞非),Wang Meiyuan(王美媛),Li Guoxi(李國希).ChemicalJournalofChineseUniversity(高等學(xué)校化學(xué)學(xué)報(bào))[J],2000,21(1):124-126.

(編輯 惠 瓊)

2016中國國際石墨烯創(chuàng)新大會在青島隆重召開

2016年9月23日上午，由中國石墨烯產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟和青島市國家高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)聯(lián)合主辦、青島國際石墨烯創(chuàng)新中心承辦的第三屆中國國際石墨烯創(chuàng)新大會(GRAPCHINA 2016)隆重開幕。GRAPCHINA 2016以“新勢力、新常態(tài)、新突破”為主題，匯聚了來自全球的300余位業(yè)內(nèi)學(xué)者，其中包括2010年諾貝爾物理學(xué)獎獲得者、英國曼徹斯特大學(xué)納米科技中心主任Andre·Geim教授等10余位國外著名專家，趙憲庚、成會明、屠海令等兩院院士。中共山東省委常委、青島市委書記李群、中國生產(chǎn)力促進(jìn)中心協(xié)會理事長石定寰先生、國家工信部材料司巡視員呂桂新先生蒞臨本次會議。出席本次開幕式的還有來自英國、西班牙、意大利等全球30多個(gè)國家和地區(qū)的600多家機(jī)構(gòu)的相關(guān)負(fù)責(zé)人，總計(jì)2000余名行業(yè)人士參會，成為全球最大規(guī)模的石墨烯年度盛會。本次大會針對石墨烯具有產(chǎn)業(yè)化前景的應(yīng)用領(lǐng)域?qū)ｉT設(shè)立多個(gè)分會場，眾多海內(nèi)外學(xué)者圍繞石墨烯制備技術(shù)以及新能源、散熱、功能涂料、觸屏、導(dǎo)電油墨、復(fù)合材料、環(huán)保、潤滑劑、標(biāo)準(zhǔn)化等熱點(diǎn)方向在40余場分會中呈現(xiàn)200余個(gè)精彩報(bào)告，以石墨烯的各種創(chuàng)新應(yīng)用成果為觀眾帶來了一場饕餮盛宴。

為了加強(qiáng)石墨烯領(lǐng)域的國際交流與合作，貫徹執(zhí)行中央關(guān)于"一帶一路"的國際合作戰(zhàn)略，推動我國石墨烯產(chǎn)業(yè)的健康發(fā)展，在大會開幕式上中國石墨烯產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟聘任了Andre·Geim教授等18位國內(nèi)外專家為中國石墨烯產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟顧問，并召開“石墨烯全球化分工與合作”閉門會議。本次大會還設(shè)立了中國與瑞典、西班牙、英國、美國、韓國、意大利等國家的8場雙邊合作論壇，重點(diǎn)聚焦“一帶一路”國際化石墨烯科技項(xiàng)目合作。

本次會議以推動石墨烯產(chǎn)業(yè)化為目標(biāo)，專家云集，報(bào)告豐富精彩，交流、合作成果豐碩，對于積極推動中國和全球石墨烯的應(yīng)用研究水平和產(chǎn)業(yè)進(jìn)程，都將產(chǎn)生積極影響。

(本刊通訊員 吳 琛 惠 瓊)

Study Methods Review on the DepositionMechanism of Electroless Nano-Composite Coatings

ZHOU Hengzhi1,2,GU Yuqiang2,WANG Wenhao2,GU Mengfan2,FANG Xinxian1，2,BAI Yunqiang1，2

(1.Jiangsu Key Laboratory of Advanced Structural Materials and Application Technology,Nanjing 211167,China)(2.Department of Material Engineering,Nanjing Institute of Technology,Nanjing 211167,China)

Based on the summary of the main mechanisms and deposition models of the electroless composite plating,micro-dynamics and electrochemistry methods on the deposition mechanism of electroless nano-composite plating were reviewed both at home and abroad,including microstructure observation method,electrochemical method,electrochemical and spectral method,etc. Then,the advantages and disadvantages of every method were mentioned. The deposition mechanism of electroless nano-composite plating can be explored by the micro-dynamics method through observing and discussing transfer track of different particulates in composite coatings. On the other hand,applying the mixed potential theory,the deposition mechanism could be also clarified by electrochemical measurement methods with the combination of X-ray,Raman or XPS spectrum analysis. The open circuit potential,polarization curve and volt ampere curve can be measured and analyzed to reveal the deposition process,electrochemical reaction rates of cathode and anode,deposition potential of different deposition products in the electroless nano-composite plating,respectively. At last，the outlook for development of research methods on the deposition mechanism of electroless nano-composite plating was proposed.

electroless nano-composite plating; deposition mechanism; electrochemical measurement method; spectrum method

2015-05-21

國家自然科學(xué)基金資助項(xiàng)目(51301088);江蘇省高等學(xué)校大學(xué)生實(shí)踐創(chuàng)新訓(xùn)練計(jì)劃(201411276001Z，201611276053X);南京工程學(xué)院大學(xué)生科技創(chuàng)新基金項(xiàng)目(TB20160227)

周衡志，男，1979年生，副教授， Email：zhzmsc@njit.edu.cn

10.7502/j.issn.1674-3962.2016.10.07

TG174.4

A

1674-3962(2016)10-799-05