任秀斌,裘宇,吳水,肖定軍,安茂忠 *
(1.廣東光華科技股份有限公司,廣東 汕頭 515061;2.哈爾濱工業(yè)大學應用化學系,黑龍江 哈爾濱 150001)
錫鉛合金因可焊性良好而被廣泛應用于被動電子元件(如陶瓷電容、陶瓷電阻、電感類元器件)領域,但鉛對人體和環(huán)境有害,因此純錫電鍍替代錫鉛合金電鍍成為發(fā)展趨勢[1-2]。目前電子設備朝小型化和高性能方向發(fā)展,被動元件的尺寸越來越小。小尺寸被動元件容易發(fā)生2 個元器件粘在一起的問題(簡稱“雙聯(lián)”)[3-4],使產(chǎn)品的合格率大幅降低。本文采用甲基磺酸亞錫為主鹽,甲基磺酸為主酸(其主要作用是保證陽極能夠較迅速地溶解和調(diào)節(jié)pH),對0603 型陶瓷電阻電鍍純錫。所得被動元件具有致密的鍍層、較低的雙聯(lián)率、良好的可焊性和一致性。
采用0603 型陶瓷電阻為基體,其電阻為1 kΩ,結(jié)構(gòu)如圖1 所示。
圖1 0603 型陶瓷電阻的切面圖Figure 1 Cross-sectional view of 0603-type ceramic resistor
電鍍純錫的主要工藝流程為:除油→電鍍/滾鍍鎳→水洗→電鍍/滾鍍錫→水洗→烘干。
被動元件電鍍屬于低速電鍍,采用滾鍍方式,滾鍍又分為閉口水平式滾鍍和開口傾斜式滾鍍。閉口水平式滾鍍的雙聯(lián)率低,但由于攪動劇烈,被動元件容易磨損,鍍層的一致性較開口傾斜式滾鍍稍差。采用開口傾斜式滾鍍的被動元件一致性好、不容易磨損,但雙聯(lián)率較高。本文選用開口傾斜式滾鍍工藝[5],具體配方和工藝條件[6-7]如下:
其中料球比指被動元件與滾筒中導電鋼珠的質(zhì)量比,密度指鍍液的密度。
1.3.1 生產(chǎn)穩(wěn)定性
采用CPK 值(制程能力指數(shù),Complex Process Capability Index)和產(chǎn)品雙聯(lián)率(dr)表征生產(chǎn)過程的穩(wěn)定性。
(1) CPK:按式(1)計算,CPK 越大表示制程能力越強,本工藝要求CPK 高于1.33,即控制產(chǎn)品不合格率在0.006 3%以下。
式中,Cmax、Cmin分別為控制上、下限,即客戶要求的錫層厚度上、下限,一般為;Dmax、Dmin分別為設計上下限,本文要求0603 型陶瓷電阻的錫層厚度為4 ~ 12 μm;xi為樣本i 的錫層厚度;n 為樣本總數(shù);σ 為標準差,指錫層平均厚度。
(2) 雙聯(lián)率:按式(4)計算。
式中,mdul指發(fā)生雙聯(lián)的陶瓷電阻的質(zhì)量,m 指陶瓷電阻的總質(zhì)量。
1.3.2 厚度和微觀結(jié)構(gòu)
錫層厚度和微觀結(jié)構(gòu)的測定采用DPA(Destructive Physical Analysis,破壞性物理分析)法。
先用環(huán)氧樹脂對被測陶瓷電阻進行灌膠,固化15 min 后,在研磨機上依次用400、800、1 000 和1 500 目砂紙研磨,然后用拋光粉拋光,沖洗并烘干后,采用OLYMPUS BX51M 金相顯微鏡及其配套軟件測定錫層厚度。
采用日本JEOL JSM-6510LV 型掃描電鏡(SEM)觀察鍍錫層的形貌并測定鍍層晶粒的尺寸。
1.3.3 可焊性
(1) 潤濕平衡(wetting balance)測試:將陶瓷電阻置于裝有25 g 錫球(直徑2 mm)的RHESCA SAT-5200T 潤濕平衡測試儀中,溫度235 °C,浸入深度0.1 mm,浸入速率3 mm/min,停留時間5 s,設備自動記錄達到潤濕平衡的時間。
(2) 8 h Steam(蒸汽) + Reflow(回流)試驗:將陶瓷電阻置于100 °C 水蒸汽中保持8 h,隨后用HELLER 1809 EXL 無鉛回流焊系統(tǒng)進行測定。
統(tǒng)計了5 000 批產(chǎn)品的厚度變化,并隨機抽取35 批(每批35 個樣)計算CPK,結(jié)果見圖2。從圖2 可知,CPK 均大于1.33,說明該純錫電鍍產(chǎn)品批次間的穩(wěn)定性較高。
圖2 0603 型電阻的CPK 值(錫層厚度分布)Figure 2 CPK value for evaluating the thickness distribution of tin coating on 0603-type ceramic resistor
為檢測批次內(nèi)鍍錫層厚度分布的均勻性,隨機選取了某一批次的0603 型陶瓷電阻20 顆,分別測定圖1 中C1、C2、C3、C4 和C5 處的鍍錫層厚度,結(jié)果見圖3。從圖3 可知,該批次內(nèi)不同位置的錫層厚度均在5 ~ 7 μm之間,算得其標準偏差多數(shù)低于0.5,說明不同位置的鍍錫層厚度分布較為一致。
圖3 0603 型陶瓷電阻上不同位置的錫層厚度及其標準偏差Figure 3 Thicknesses of tin coatings at different positions of 0603-type ceramic resistors and their standard deviation
鍍錫層的質(zhì)量直接取決于其致密性和平整度,因此采用掃描電鏡及其附帶的能譜儀(EDS)測定鍍錫層的平整度、致密性和純度。具體操作為:隨機選擇一個0603 型陶瓷電阻,檢測其表面鍍錫層SEM 照片(如圖4a 所示)中對角線上的顆粒尺寸,結(jié)果見圖5。
從圖4b 可知,所得鍍層中幾乎全是金屬錫,而氧元素為空氣中的吸附氧(新鍍得的錫層具有很高的表面活性,空氣中的O2會吸附在其表面,簡稱“吸附氧”)。鍍層結(jié)合力良好,沒有明顯的孔洞和顆粒松散。從圖5可知,20 個樣品顆粒的平均尺寸為3.9 μm,標準偏差為0.718,說明鍍層顆粒大小均勻。
圖4 0603 型陶瓷電阻表面錫層的SEM 照片和EDS 譜圖Figure 4 SEM image and EDS spectrum of tin coating on the surface of 0603-type ceramic resistor
如圖6 所示,隨機取一顆0603 型陶瓷電阻對C1、C2、C3 處錫層進行DPA 測試。從圖6 可知,鍍錫層非常平整,厚度基本一致,無明顯的鍍層凸起部分。
圖5 20 個樣品錫鍍層的顆粒尺寸及其標準偏差Figure 5 Particle sizes of Tin coatings on twenty samples and their standard deviation
圖6 鍍錫0603 型陶瓷電阻的截面形貌Figure 6 Cross-sectional morphology of tin-plated 0603-type ceramic resistor
被動元件鍍錫的主要目的之一是提高被動元件的可焊性[8-9],因此可焊性是鍍錫層的重要指標之一。為此采用潤濕平衡試驗(隨機取4 個樣品)和8 h 水蒸汽+回流試驗來評價鍍錫層的可焊性,結(jié)果分別見圖7 和圖8。
圖7 0603 型陶瓷電阻的潤濕平衡試驗結(jié)果Figure 7 Wetting balance test results of 0603-type ceramic resistor
潤濕平衡試驗中樣品達到平衡的時間越短,說明可焊性越好,潤濕平衡時間低于1 s 就可以判定為可焊性優(yōu)良。從圖7 可知,隨機選取的0603 型電阻的潤濕平衡時間在0.1 ~ 0.2 s 之間,可焊性優(yōu)良。
圖8 0603 型陶瓷電阻8 h 水蒸汽+回流試驗前后的照片(× 75)Figure 8 Photos of 0603-type ceramic resistor before and after 8 h steam plus reflow test
陶瓷電阻在使用過程中需要保證至少2 年不出現(xiàn)異常,若試樣能通過8 h 水蒸汽+回流試驗,則表明陶瓷電阻滿足該要求。從圖8 可知,鍍錫層爬錫飽滿,說明鍍錫層可焊性優(yōu)良[10-11]。
電鍍錫應用于工業(yè)生產(chǎn),除了要保證產(chǎn)品品質(zhì)外,還要保證生產(chǎn)的穩(wěn)定性和易操作性。因此陶瓷電阻在生產(chǎn)過程中的雙聯(lián)率和品質(zhì)穩(wěn)定性顯得尤為重要。隨機抽取25 批0603 型陶瓷電阻測定其雙聯(lián)率,結(jié)果見圖9。從圖9 可知,初次雙聯(lián)率基本上低于5%,經(jīng)過振蕩處理后雙聯(lián)的陶瓷電阻基本上都可以分開,雙聯(lián)率為0%。這說明該體系電鍍雙聯(lián)率較低,生產(chǎn)過程穩(wěn)定。
圖9 0603 型陶瓷電阻的雙聯(lián)率Figure 9 Sticking ratio of 0603-type ceramic resistor
(1) 采用本體系純錫電鍍工藝能夠增強陶瓷電阻批次內(nèi)的穩(wěn)定性,鍍錫層的厚度在5 ~ 7 μm 之間。
(2) 鍍錫層均勻致密,鍍層顆粒的平均尺寸為3.9 μm,大小均勻。
(3) 鍍錫層的可焊性優(yōu)良,濕潤平衡時間在0.1 ~ 0.2 s 之間。
(4) 所得0603 型陶瓷電阻的雙聯(lián)率低,產(chǎn)品合格率高。
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