陳艷珊,廖恒易
(佛山市華特氣體有限公司,廣東佛山 528241)
八氟環(huán)丁烷化學性質(zhì)穩(wěn)定、無毒且消耗臭氧指數(shù)值為零,溫室效應潛能值低,是一種綠色環(huán)保型特種氣體,近來在高壓絕緣、制冷、半導體制造領域得到廣泛應用。
作為常用的半導體工藝的蝕刻或清洗氣體之一,八氟環(huán)丁烷質(zhì)量的好壞直接決定半導體器件的性能。在半導體制程中,進行氣體蝕刻,以便部分除去薄膜材料,從而形成能構(gòu)成半導體的電路團。同時,用清潔氣體除去沉積物,以除去在薄膜形成期間沉積在反應器內(nèi)側(cè)的薄膜材料[1]。隨著半導體器件的升級換代,對刻蝕和清洗氣體的純度要求也越來越苛刻,并提出了“超純、超凈、超前”的發(fā)展要求,以適應電子行業(yè)的飛速發(fā)展。
國外主要發(fā)達國家都有電子級八氟環(huán)丁烷的生產(chǎn),如日本大金工業(yè)株式會社、日本昭和電工株式會社、美國SCP等。國內(nèi)主要生產(chǎn)廠家有浙江巨化股份有限公司[2],但其純度低,并不符合半導體行業(yè)的使用要求,而國內(nèi)生產(chǎn)電子級八氟環(huán)丁烷的廠家不多,產(chǎn)品質(zhì)量與穩(wěn)定性仍需提高。
八氟環(huán)丁烷的制備方法有很多,如四氟乙烯二聚、四氟環(huán)丁烷電化學氟化、二氯二氟甲烷高溫催化反應,二氯四氟乙烷熱解、聚四氟乙烯解聚熱解、六氟丙烯生產(chǎn)和一氯二氟甲烷裂解過程中副產(chǎn)物的回收、1,2–二氯六氟環(huán)丁烷與 CCl3F和氟反應等[3]。因此會含有大量其它氟碳化合物,其沸點與八氟環(huán)丁烷相近,要獲得雜質(zhì)含量在10×10-6(V/V)左右的產(chǎn)品極為困難,此外,考慮氣體雜質(zhì)對半導體工藝的影響,O2、N2、CO、CO2、H2O、C3F6等同樣是其重要雜質(zhì)指標。
目前八氟環(huán)丁烷的純化方法有催化吸附法、共沸萃取精餾法、冷卻精餾法、吸附法等。
專利US633440B1[4]介紹了一種用于獲得高純八氟環(huán)丁烷的方法,粗原料包括含有至少一種難以通過精餾分離的鹵化物(八氟環(huán)丁烷與鹵代烴形成共沸)。粗八氟環(huán)丁烷與有HCl或/和HF存在氣相中的催化劑接觸,在足夠的溫度下,鹵代烴更容易從八氟丙烷中分離。
專利US5001287[5]公開了一種處理混合物的方法,該混合物至少含有一種烯烴雜質(zhì)和一種飽和鹵代烴,混合物與加氫催化劑反應。八氟環(huán)丁烷作為其中一個例子。
專利CN101134710A[6]介紹了利用常規(guī)精餾裝置和萃取精餾裝置回收八氟環(huán)丁烷的方法,包括將殘液初餾后得到八氟環(huán)丁烷及與其沸點相近的組分,進入萃取精餾塔精餾,萃取劑為四氯化碳、乙二醇二甲醚、丙酮、甲苯或甲醇中的一種或幾種,塔頂組分即為八氟環(huán)丁烷。
圖1 專利CN101134710A流程圖Fig.1 The flow chart of patent CN101134710A
專利CN1455699A[7]介紹了生產(chǎn)吸附劑純化八氟環(huán)丁烷的方法,吸附劑生產(chǎn)采用幾個步驟進行:1.將原炭用酸洗滌,然后用水洗滌;2.將原炭脫氧和/或脫水;3.原炭在溫度500~700℃下再碳化;和4.原炭在溫度700~900℃下在包含惰性氣體、二氧化碳和水蒸氣的混合氣體流中活化。將含(10~10000)×10-6不純物的粗八氟環(huán)丁烷與吸附劑接觸,獲得純度99.9999%的八氟環(huán)丁烷。
專利CN1276902C[1]介紹了純化八氟環(huán)丁烷的方法,含有雜質(zhì)的粗八氟環(huán)丁烷與雜質(zhì)分解劑在高溫下接觸,然后與吸附劑接觸,以便從粗八氟環(huán)丁烷中基本除去雜質(zhì)。采用含5%~40%質(zhì)量分數(shù)的氧化鐵和含60%~95%質(zhì)量分數(shù)的堿土金屬化合物特殊處理后制成0.5~10 mm的料粒做分解劑,粗八氟環(huán)丁烷與雜質(zhì)分解劑在250~380℃高溫下接觸,將六氟丙烯等氟碳化合物雜質(zhì)分解去除;用酸處理、熱處理和蒸氣處理過的活性炭及碳分子篩做,可進一步除雜使八氟環(huán)丁烷提純到6 N。
專利CN1292773A[8]公開純化含有鹵代雜質(zhì)的八氟環(huán)丁烷,包括從鹵代雜質(zhì)分離八氟環(huán)丁烷的共沸精餾法,和通過使用選自醚類、酮類、醇類、烴類和氫氯化碳的夾帶劑從鹵代雜質(zhì)中分離八氟環(huán)丁烷的萃取精餾法。
圖2 專利CN1292773A的精餾系統(tǒng)Fig.2 The distillation system of patent CN1292773A
含有PFC-318和PFC-10的初始混合物通過導管1加入蒸餾塔2,夾帶劑通過導管3進入蒸餾塔2,蒸餾塔頂部餾出液通過導管4進入冷凝器5,部分冷凝餾出物以回流方式6返回塔2,將剩余的冷凝的餾出物通過導管7進行回收。八氟環(huán)丁烷和夾帶劑通過管路8從塔2底部移出作為產(chǎn)物回收或者將塔底流出物8加入蒸餾塔9,塔頂餾出物通過管路10進入冷凝器11,部分餾出物通過管路12返回塔9,剩余的高純度八氟環(huán)丁烷通過管路13進行回收。夾帶劑通過塔底流出收集或返回蒸餾塔2,實現(xiàn)再利用。
針對目前已有報道的純化工藝,單一的精餾法可以除去大部分的氟碳化合物,但對于沸點相近的雜質(zhì)就無能為力;萃取精餾法設備昂貴,過程繁瑣,對于規(guī)?;a(chǎn)并不適用;吸附法對于與八氟環(huán)丁烷具有相似結(jié)構(gòu)和物理性質(zhì)的雜質(zhì)就難以脫除了。
我司自主研發(fā)電子級八氟環(huán)丁烷純化工藝,采用兩級精餾與吸附相結(jié)合的生產(chǎn)工藝,建立200 t/a,純度99.999%的電子級八氟環(huán)丁烷生產(chǎn)線。本工藝主要設備包括吸附器、精餾塔、再沸器、二級吸附器等。
粗八氟環(huán)丁烷中主要雜質(zhì)有氮氣、氧氣、一氧化碳、二氧化碳、水、鹵烴化合物等。具體工藝流程圖見圖3。
八氟環(huán)丁烷粗產(chǎn)品進入一級吸附,一級吸附器主要采用分子篩進行吸附,內(nèi)部裝填3A和5A分子篩,除去部分水分和其他雜質(zhì);
1.一級精餾:采用液氮為冷源,進料約塔釜2/3,保持壓力在0.1~0.5 MPa,溫度在 -5℃ ~20℃,脫除輕組分,包括空氣、一氧化碳、二氧化碳等,并脫除大部分水,在線檢測合格后從液相進入二級精餾。
2.二級精餾:根據(jù)原料檢測的鹵烴化合物的性質(zhì),調(diào)節(jié)溫度壓力,保持穩(wěn)定的液面。除去沸點相近的雜質(zhì),關鍵是維持穩(wěn)定的溫度和液面,檢驗合格后從氣相進入二級吸附。
3.二級吸附:對水分、二氧化碳、鹵烴化合物等進行深度吸附,二級吸附器內(nèi)部裝填以4A、13X為主的分子篩,得到99.999%八氟環(huán)丁烷成品。
公司設計的吸附—二級精餾—吸附的純化技術(shù),該技術(shù)穩(wěn)定連續(xù),生產(chǎn)成本低,得到的八氟環(huán)丁烷產(chǎn)品符合半導體行業(yè)使用要求。
圖3 八氟環(huán)丁烷的純化工藝流程圖Fig.3 The Purification process flow chart of octafluorocyclobutane
佛山市華特氣體有限公司通過自主研發(fā)的二級精餾—吸附的純化生產(chǎn)工藝,生產(chǎn)的八氟環(huán)丁烷產(chǎn)品純度達 99.999%,其中,N2<3 ×10-6,O2<1 ×10-6,CO <0.5 ×10-6,CO2<0.5 ×10-6,CH4<0.5×10-6,H2O <1 ×10-6,其他有機物 <4 ×10-6,酸度 <0.1 ×10-6。
根據(jù)該工藝目前在我司的運行現(xiàn)狀,該工藝安全可靠、適應性強。針對不同來源的原料,可通過對精餾參數(shù)和吸附劑等的調(diào)整得到合格的產(chǎn)品。并可根據(jù)實際情況對工藝進行合理調(diào)整,如對于八氟環(huán)丁烷在塔內(nèi)容易形成負壓的現(xiàn)象,可增大再沸器的氣化量,并穩(wěn)定壓力;如水分、二氧化碳等雜質(zhì)未能達到預期目標,可在膜壓機一級壓縮出口增加吸附器,進行加壓吸附;若鹵烴類化合物超出該工藝設計處理量時,可在進塔前使用冷凍純化裝置,先脫除部分鹵烴類化合物。從而達到更好的純化效果。
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