近年來納米壓印技術迅猛發(fā)展，已引起業(yè)界廣泛關注。納米壓印是一種全新的納米圖型復制方法，利用不同材料之間的楊氏模量差，使兩種材料之間相互作用來完成圖型的復制轉移。與傳統(tǒng)的光刻工藝相比，壓印技術不是通過改變抗蝕劑的化學特性實現抗蝕劑的圖形化，而是通過抗蝕劑的受力變形實現其圖形化。納米壓印自1995年被普林斯頓大學納米結構實驗室的華裔科學家Stephen Y. Chou教授提出后，在熱壓印、紫外常溫壓印、微接觸壓印技術基礎上發(fā)展出了許多新工藝。

本書詳細介紹了納米壓印技術的原理、特點、關鍵技術、工藝及應用，主要涉及壓印研究現狀、模板的制備和處理、壓印用光刻膠、壓印工藝以及壓印理論等內容，著重闡述了納米壓印技術在半導體光電器件、半導體存儲器件等領域應用的最新研究成果。本書共10章：1.引言；2.納米壓印光刻原理及現狀；3.模板制備；4. 模板表面處理；5. 納米壓印光刻膠；6. 納米壓印光刻過程；7.納米壓印光刻建模與仿真；8.納米壓印光刻在發(fā)光二極管中的應用；9.納米壓印光刻在內存器件中的應用；10.納米壓印光刻在太陽能電池中的應用。

本書基于作者所在單位納米加工技術實驗室的研究工作以及近年來在納米壓印方面的研究成果編寫而成，可供微納加工、電子器件、生物芯片等領域的科研人員及工程技術人員參考，也可作為高等院校相關專業(yè)研究生和高年級本科生的教材或參考書。

作者周偉民是中國科學院上海微系統(tǒng)與信息技術研究所博士后，上海市納米科技與產業(yè)發(fā)展促進中心納米科技實驗室副研究員，主要從事納米壓印技術研究。

杜利東，助理研究員

（中國科學院電子學研究所）

Du Lidong，Assistant Professor

（Institute of Electronics，CAS）endprint