徐金龍 華 斌 楊樹潔 史亞曉 李展江
(湛江出入境檢驗檢疫局 廣東湛江 524000)
電感耦合等離子體發(fā)射光譜法測定錳硅合金中硼含量
徐金龍 華 斌 楊樹潔 史亞曉 李展江
(湛江出入境檢驗檢疫局 廣東湛江 524000)
建立了電感耦合等離子體發(fā)射光譜法測定錳硅合金中硼含量的方法。經(jīng)過實驗比較分析,選定前處理采用硝酸-氫氟酸分解樣品,以甘露醇作絡(luò)合保護劑,用標(biāo)準(zhǔn)加入法測定樣品中硼含量,相對標(biāo)準(zhǔn)偏差為4.51%,結(jié)果令人滿意。
硅錳合金;硼;電感耦合等離子體發(fā)射光譜法
盡管錳硅合金中硼含量一般在0.02%以下,但由于硼對鋼材產(chǎn)品的性能有一定影響,因此,越來越多的貿(mào)易合同要求對錳硅合金中硼含量進行測定。目前,對錳硅合金中硼的測定尚未有成熟的檢驗標(biāo)準(zhǔn),相關(guān)研究也少有報道,而且在現(xiàn)有錳硅合金標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)中,也無硼元素的定值。宋武元[1]等人報道了用電感耦合等離子體發(fā)射光譜法(ICP-OES)測定金屬硅中硼等雜質(zhì)元素,葛小硼[2]、徐劍平[3]等人報道了用ICP-OES法測定硅鐵中硼元素,紀(jì)紅玲[4]等人報道了用ICP-OES法測定鋼中硼等雜質(zhì)元素。研究表明,用標(biāo)準(zhǔn)加入法可以克服因基體效應(yīng)而導(dǎo)致分析結(jié)果的誤差,無需配制與基體匹配的標(biāo)準(zhǔn)溶液或使用標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)繪制工作曲線。本項目對錳硅合金樣品中硼的檢測方法進行了研究,采用硝酸-氫氟酸分解樣品,利用硫磷混酸趕走氫氟酸,以甘露醇作絡(luò)合保護劑,結(jié)果令人滿意。
2.1 材料
2.1.1 試劑
硼標(biāo)準(zhǔn)儲備液(1000μg/mL):GSB G 62003-90.0501,購自國家標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)中心;硝酸、磷酸、硫酸、氫氟酸、甘露醇(固體):AR;高純水:Milli-Q純水器制得。
2.1.2 儀器
730型電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀:美國VARIAN公司。
2.2 方法
2.2.1 硼標(biāo)準(zhǔn)工作液配制
標(biāo)準(zhǔn)工作液1: 移取5.00mL硼標(biāo)準(zhǔn)儲備液于100mL石英容量瓶中,加水稀釋至刻度。此溶液含硼量為50μg/mL;標(biāo)準(zhǔn)工作液2: 移取10.00mL標(biāo)準(zhǔn)工作液1于100mL石英容量瓶中,加水稀釋至刻度。此溶液含硼量為5μg/mL。
2.2.2 儀器工作條件
RF發(fā)生器功率:1050W;冷卻氣流速:11 L/ min;輔助氣流速:0.45 L/min;載氣流量:0.55 L/min;樣品提升速率流量:2.8 L/min;觀察高度:15mm。
2.2.3 樣品前處理
稱取5份0.5000g錳硅合金試樣于150 mL 聚四氟乙烯燒杯中,分別加少量水濕潤;根據(jù)樣品中硼含量范圍,分別加入不同量的硼標(biāo)準(zhǔn)工作液1或2(見表1),再加入1-5mL 0.25%甘露醇溶液,緩慢加入10mL氫氟酸,緩慢滴加硝酸至試樣完全溶解,加入5 mL硫磷(3+2)混酸,低溫加熱至近干;取下稍冷,加入10 mL鹽酸和10 mL水,冷卻后轉(zhuǎn)移入100 mL石英容量瓶中,加水稀釋至刻度待測。
表1 樣品中硼標(biāo)準(zhǔn)工作液的加入量
2.2.4 樣品測定
按照2.2.2儀器工作條件進行ICP-OES測定,隨同樣品做試劑空白。
3.1 試樣的溶解
錳硅合金試樣可以用多種方法溶解。用磷混酸溶解,由于加入量大,對ICP-OES測定有較大影響;用氫氟酸溶樣,硼會揮發(fā)損失(BF3沸點101℃);堿融溶會引入大量熔劑,空白較高,對結(jié)果影響較大;對于含硅較高的試樣,鹽酸、硝酸不易完全將其分解,同時硅含量較高,溶液不夠穩(wěn)定。因此,本研究選定先加入HNO3-HF溶解試樣,可以將試樣中的硅揮發(fā)掉,然后加入硫磷混酸趕走多余的氫氟酸,最后利用適量濃度的鹽酸定容。
3.2 甘露醇溶液的影響
當(dāng)試樣是氟化物或氯化物狀態(tài)時,在揮發(fā)基體過程中,硼會有嚴(yán)重的損失。加入甘露醇,使硼元素形成穩(wěn)定的絡(luò)合物,則能有效地防止試樣中硼元素的揮發(fā)損失[1,7]。但有機試劑的存在可能改變樣品溶液粘度,對分析結(jié)果產(chǎn)生影響[8],因此,特進行如下實驗:
選擇1組硼含量為0.01%的錳硅合金試樣(0.5g),分別加入0.25%甘露醇溶液0.50、1.00、2.00、5.00 mL,按試樣的溶解方法處理后,測定硼含量,結(jié)果見表2。
表2 加入不同量甘露醇溶液的硼含量測定結(jié)果
結(jié)果表明,加入0.25%甘露醇溶液1.00 mL即可對錳硅合金中的硼元素進行完全絡(luò)合;加入0.25%甘露醇溶液至5.00mL,對硼元素的測定結(jié)果仍不會產(chǎn)生影響。因此,本研究選擇加入0.25%甘露醇溶液1.00 mL作為硼的絡(luò)合保護劑。
3.3 分析線和檢出限
資料[6]表明,硼在I C P-O E S上可以選擇249.77nm和208.96nm 2條分析線。249.77nm較208.96nm有更強發(fā)射強度,但在249.77nm附近共存元素干擾比較嚴(yán)重,有大量的發(fā)射譜線,如Fe 248.327nm有較強的譜線,當(dāng)Fe含量超過100mg/ L時,會對硼的測定產(chǎn)生干擾;而B 208.96nm附近共存元素干擾則較少。因此,本研究選擇B 208.96nm進行測定。采用儀器分析軟件獲得儀器在208.96nm對硼的檢出限為0.0163μg/mL。
3.4 基體濃度的影響
在錳硅合金試樣中,硅元素用氫氟酸揮發(fā)后,殘余量甚微,故主要考慮基體Mn、Fe的影響。由于采用B 208.96nm進行測定,大大地降低了光譜干擾。同時采用標(biāo)準(zhǔn)加入法測定,基體完全匹配,可消除基體干擾,保證測定的準(zhǔn)確度。
分別稱取硅錳試樣0.3000g、0.4000g、0.5000g,按試驗方法進行處理(至轉(zhuǎn)移入100 mL石英容量瓶中),分別加入10.00mL硼標(biāo)準(zhǔn)工作液2,加水至刻度,按設(shè)定的儀器條件測定,結(jié)果見表3。
表3 不同稱樣量對硼含量測定的影響
結(jié)果顯示,在不同濃度的基體中分別加入不同濃度的待測元素,所得結(jié)果基本一致,表明試樣中不存在與濃度有關(guān)的化學(xué)干擾,采用標(biāo)準(zhǔn)加入法進行測定的結(jié)果可靠。
3.5 工作曲線的繪制
稱取1份硅錳試樣,按照試驗方法測定,繪制工作曲線(圖1)。
圖1 工作曲線
3.6 精密度
按試驗方法對1樣品進行處理和測定,計算RSD,結(jié)果見表4。
表4 精密度試驗結(jié)果
結(jié)果顯示回收率結(jié)果較好,但加標(biāo)量偏高可能掩蓋了測定溶解過程中硼的揮發(fā)損失。
本研究建立了ICP-OES法測定錳硅合金中硼含量的方法,用HNO3+HF混合酸先溶解試樣,然后利用硫磷混酸趕走氫氟酸,最后利用鹽酸定容。其中通過加入絡(luò)合劑0.25%甘露醇防止硼元素?fù)]發(fā)損失,以標(biāo)準(zhǔn)加入法消除基體干擾。該方法測定結(jié)果準(zhǔn)確、可靠。
[1] 宋武元,張桂廣,鄭建國. 電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法同時測定純硅中硼等13個雜質(zhì)元素[J]. 理化檢驗-化學(xué)分冊,2005,41(11):806-808,811.
[2] 葛小鵬. 硅鐵合金中痕量硼的分光光度測定[J]. 冶金分析,2001,1:33-35.
[3] 徐建平,諶文華. ICP-AES法測定硅鐵中全硼[J]. 冶金分析,2001,21(4):59-60.
[4] 紀(jì)紅玲,張志穎,朱小鶼. 電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜在鋼中痕量硼測定的應(yīng)用[J]. 冶金分析,2001,1:33-35.
[5] 張泉,李巖松. ICP-AES法測定銅合金中微量硅[J]. 有色礦冶,2005,2:50-51,36.
[6] 錢國賢,黃鑫泉,孟廣政,譯. 中國光學(xué)學(xué)會光譜學(xué)會電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜圖冊[M]. 北京:中國光學(xué)學(xué)會光譜學(xué)會,1986.
[7] 朱春富,吳瓊. IC用高純試劑中金屬雜質(zhì)分析[J]. 光譜學(xué)與光譜分析,1994,14(3):71-78.
[8] 陳新坤. 電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法原理和應(yīng)用[M]. 天津:南開大學(xué)出版社,1987.
Determination of Boron in the Manganese Silicon Alloy by Method of ICP-OES
Xu Jinlong, Hua Bin, Yang Shujie, Shi Yaxiao, Li Zhanjiang
(Zhanjiang Entry-Exit Inspection and Quarantine Bureau, Zhanjiang, Guangdong, 524000)
Detection method of boron content in manganese silicon alloy by ICP-OES was set up. After a comparative analysis of experimentation, it was worked out that the sample was pretreated with nitric acid-hydrofluoric acid decomposition, and that mannitol served as a complexing protector. The boron content was determined using ICP-OES in spiked samples. The relative standard deviation was 4.51% and the result was satisfactory.
Silicon Manganese Alloy; Boron; ICP-OES
O657.31
湛江出入境檢驗檢疫局2010科技項目