程秀鳳,王 營,王正平
(山東大學(xué)晶體材料國家重點實驗室,山東 濟南 250100)
RTP晶體光學(xué)和電學(xué)性能研究
程秀鳳,王 營,王正平
(山東大學(xué)晶體材料國家重點實驗室,山東 濟南 250100)
磷酸鈦氧銣(RbTiOPO4,RTP)晶體是一種新型的、有重要應(yīng)用前景的電光材料。采用分光光度計、Nd:YAG鎖模激光器、耐壓測試儀等設(shè)備,對其光學(xué)和電學(xué)性質(zhì)進行了全面測試研究,包括透過譜、折射率、消光比、電阻率、電光系數(shù)等。測試結(jié)果表明:RTP材料具有透過譜寬、吸收損耗小、消光比大、電阻率高、電光系數(shù)大、半波電壓低等優(yōu)點,綜合性能優(yōu)異,所得實驗數(shù)據(jù)將為高性能RTP電光調(diào)制器件的精確設(shè)計和優(yōu)化提供參考。
RTP晶體;電光晶體;光學(xué)性質(zhì);電學(xué)性質(zhì)
用電光晶體制作的快速光開關(guān)、Q開關(guān)、光調(diào)制器、電光偏轉(zhuǎn)器等器件在現(xiàn)代光電子學(xué)和激光技術(shù)中有著重要應(yīng)用。這些應(yīng)用提高了激光器的性能,擴大了激光的使用范圍,促進了激光技術(shù)的發(fā)展。目前在激光技術(shù)中廣泛應(yīng)用的電光晶體為單軸晶體磷酸二氘鉀(KD*P)和鈮酸鋰(LN),但兩者在電光性能方面都有不少欠缺。KD*P晶體的半波電壓相對較高,易潮解,使用時必須密封在盒子中;LN的最大缺點是光損傷閾值太低,此外存在壓電耦合效應(yīng)導(dǎo)致的寄生振蕩,因此不能滿足高頻調(diào)制的需要。雙軸晶體磷酸鈦氧鉀(KTP)是一種優(yōu)秀的非線性光學(xué)晶體,廣泛用于腔內(nèi)倍頻釹離子的1m附近的紅外激光,由于它也具有大的電光系數(shù)和低的介電常數(shù),所以有人曾把它作為Q開關(guān)進行研究,但是高的電導(dǎo)率造成電光性能變差,限制了它在電光器件方面的實用化。激光、光電子技術(shù)應(yīng)用的發(fā)展對電光晶體提出了更高的要求,亟需探索新的、性能更加優(yōu)異的電光晶體。
磷酸鈦氧銣(RTP)晶體是KTP晶體的同晶系晶體,同屬正交晶系,mm2點群,Pna21空間群,因為具有比KTP晶體更低的電導(dǎo)率,引起了人們的很大興趣。從RTP晶體出現(xiàn)以來,雖然已有一些用于電光調(diào)Q的報道[1-4],但是對其基本物理性質(zhì)仍缺乏了解。
本文對于RTP光學(xué)和電學(xué)性能進行了測試,研究表明這種材料的透過譜和線性電光系數(shù)均與KTP相當(dāng),而Z向電阻率比KTP高兩個數(shù)量級,線性耐壓區(qū)達到7000V以上,是一種性能優(yōu)良的耐高壓電光材料。
晶體的透光范圍直接影響到晶體的使用范圍,用U-3500光譜儀(HITACHI Co.,Ltd.,Japan),在室溫下對RTP晶體在Z方向和X方向的偏振透過率進行了測量,測量范圍為330~3200nm。晶體為Y方向通光,尺寸為4mm×4mm×7 mm,通光面鍍膜但未拋光。測試結(jié)果見圖1。由于Z向偏振光的折射率較大,因此透過率相對X向偏振光較低。從圖中可以看出,RTP在350~2500μm波段的透過率沒有明顯的吸收峰。在1064nm處X偏振方向的透過率為86.4%,在532nm處的X偏振方向的透過率為83.9%。圖中800 nm附近的的波動是由于儀器自動換探頭所致,2 800 nm處出現(xiàn)的吸收峰是由O-H鍵振動能級造成的吸收峰。此外,在3100nm處出現(xiàn)了明顯的振蕩峰,認為也是由O-H鍵共振吸收造成的,由于是熔鹽法生長,O-H濃度較低,使得吸收峰的峰寬較窄。
分別測量兩塊鍍膜后RTP晶體的偏振透過譜,晶體均為Y切,尺寸為6mm×6mm×9mm,通光端面鍍1064nm增透膜,測試時光闌通光孔徑φ=4mm,采用沿晶體Z向的偏振光。測試結(jié)果如圖2(a)、圖2(b)所示,1#和2#樣品在1 064 nm處的透過率分別為98.5%和99.9%,不考慮晶體兩表面的反射并且認為鍍膜質(zhì)量均勻的話,通過計算可以得到兩塊晶體的吸收系數(shù)分別為0.017cm-1和0.001cm-1。此外,將1#和2#樣品按溫度補償型電光Q開關(guān)的設(shè)計方式串連放置(即第一塊晶體的Z軸平行于第二塊晶體的X軸,第一塊晶體的X軸平行于第二塊晶體的Z軸),測量了全器件透過譜,結(jié)果表明在1064nm處的透過率高達98.4%,如圖2(c)所示。如此低的吸收系數(shù)和高的透過率表明晶體具有較高的光學(xué)質(zhì)量,插入損耗小,有利于1064nm高能量電光調(diào)制。
圖1 未鍍膜RTP晶體的偏振透過譜
低對稱的RTP晶體是雙軸晶,有3個主軸折射率,根據(jù)國際通用標(biāo)準(zhǔn)有如下關(guān)系:nX<nY<nZ。測試表明,RTP晶體結(jié)晶學(xué)主軸(a,b,c)與折射率主軸(X,Y,Z)之間的關(guān)系為:a∥X,b∥Y,c∥Z,與KTP晶體相同。
目前已有多個文獻報道了RTP晶體的折射率色散方程[5-6],可以計算1064nm激光倍頻在主平面上的相位匹配角,結(jié)果如表1所示。
通過與實測相位匹配角的比較,可以從中篩選出最佳色散方程。采用美國Continuum公司生產(chǎn)的PY61型Nd:YAG鎖模激光器(波長1 064 nm,脈寬35ps,頻率10Hz),實驗測試了RTP晶體在YZ主平面內(nèi)的II類相位匹配方向,該方向偏離Y軸的外角為27°,相應(yīng)的晶體內(nèi)相位匹配角約為(75.5°,90°)。通過與表2計算數(shù)據(jù)的比較,可知文獻[6]報道的折射率色散方程是最為準(zhǔn)確的,在此列出作為今后非線性光學(xué)研究的依據(jù):
圖2 鍍膜RTP晶體的透過譜
表1 RTP晶體1064nm的倍頻相位匹配角
理想晶體的消光比應(yīng)該是無窮大,實際上可能由于晶體內(nèi)應(yīng)力、缺陷或雜質(zhì)、晶體表面加工粗糙以及儀器本身的本征消光比等原因而大大降低。用圖3所示的裝置測量了RTP晶體的消光比:在起偏器與檢偏器分別垂直或平行的情況下,先不放晶體記錄儀器的最大輸出與最小輸出,所得最大輸出與最小輸出之間的比值即為儀器的本征消光比。然后將晶體放入裝置中,晶體的Z軸與偏振片成0°或90°,測試4塊RTP樣品的消光比,結(jié)果如表2所示。從表中的最小輸出可以看出,晶體放入前后最小輸出的差別很小,這說明如果提高裝置的精度,那么測量到的晶體消光比會更大。從表中還可以看出,這4塊晶體的消光比都比較大,說明其光學(xué)均勻性較好。通過消光比的測量,能夠?qū)TP晶體的光學(xué)質(zhì)量進行評價,也可以指導(dǎo)加工區(qū)域的選擇,為RTP晶體電光器件的制作服務(wù)。
圖3 消光比測試光路
表2 RTP樣品的消光比
采用GJ2671S型耐壓測試儀(南京長江無線電廠,最高輸出電壓10000V,最大漏電流20mA,漏電流精度0.001mA),測量了4塊RTP晶體的Z向電阻率,樣品參數(shù)如下:
1#,Y向通光,6mm×6mm×9mm;
2#,Y向通光,6mm×6mm×9mm;
3#,X向通光,7mm×7mm×13mm;
4#,X向通光,7mm×7mm×13mm。
4塊樣品的電阻率隨所加直流電壓的變化關(guān)系如圖4所示。尺寸相同的樣品所測出的電阻率也基本相同,而尺寸不同的樣品所測出的電阻率有明顯差異,尺寸較大的3#、4#樣品的電阻率較高,這可能與所加電場的均勻性有關(guān)。隨著外加電壓的升高,兩種尺寸樣品的電阻率趨于接近。當(dāng)外加電壓為2000~5000V時,1#、2#樣品的電阻率約為1.3(±0.1)×108Ω·cm,3#、4#樣品的電阻率約為1.9(±0.1)×108Ω·cm,相差縮小到1.5倍。
圖4 RTP晶體的直流電阻率
圖5 RTP與KTP漏電流隨所加直流電壓的變化關(guān)系
表3 RTP與KTP高壓直流電阻率的比較
采用相同的實驗裝置,測量了RTP、KTP晶體所加電壓和漏電流之間的關(guān)系,并利用公式ρ=R(S/L)=(U/I)(S/L)計算兩種晶體的電阻率。所用樣品為RTP與KTP各兩塊,Y向切割,尺寸為6mm×6mm×9mm。測試結(jié)果如圖5、表3所示。有如下結(jié)論:(1)RTP晶體X向電阻率略大于Z向電阻率,但兩者差別不大。(2)KTP晶體X向電阻率遠遠大于Z向電阻率。(3)RTP晶體X向電阻率略大于KTP晶體X向電阻率,RTP晶體Z向電阻率與KTP晶體X向電阻率基本相當(dāng)。(4)對于電光應(yīng)用的Z向加電場情況,RTP晶體的Z向電阻率遠遠大于KTP晶體的Z向電阻率,兩者平均值相差154倍,也就是說至少差兩個數(shù)量級。當(dāng)KTP晶體所加電壓大于1.5kV時,漏電流上升更快,電阻率下降得更快(電導(dǎo)率急速上升),兩種晶體電阻率比值更大。
測試數(shù)據(jù)表明,RTP可以耐7000V以上的Z向直流高壓,而KTP晶體的電導(dǎo)率隨所加電壓的增大非線性迅速增長,其側(cè)面在2kV左右已與金屬銅電極發(fā)生化學(xué)反應(yīng),且內(nèi)部顯著發(fā)烏。
晶體的電光系數(shù)越大,其相應(yīng)的半波電壓就越低,所制作的器件實用性就會越好。測試了4塊RTP樣品,其中1#、2#為Y向通光,6mm×6mm×9mm,3#、4#為X向通光,7 mm×7 mm×13 mm。將樣品放在兩正交或平行偏振片之間,測試系統(tǒng)光強(He-Ne激光,632.8nm)的透過率與晶體上所加電壓的關(guān)系(電壓分正向、反向),結(jié)果如圖6所示(各圖中前兩條曲線為兩偏振片垂直放置的情況,后兩條曲線為兩偏振片水平放置的情況)。根據(jù)半波電壓與電光系數(shù)之間的關(guān)系[7],可以計算出相應(yīng)的有效電光系數(shù)γc。具體分析如下:
(1)1#樣品幾條曲線的半波電壓分別為2.28,2.11,2.66,2.44 kV,平均值為2.37 kV。如果兩塊晶體串連,半波電壓為1.19kV。其有效電光系數(shù)γc1為26.0pm/V。在1064nm情況下兩塊晶體串連的半波電壓為2.13kV。
(2)2#樣品半波電壓的表現(xiàn)并不明顯,原因不明,需要對其錐光干涉圖進一步考察。唯一清楚的是紅色曲線,其半波電壓為2.64kV。如果兩塊晶體串連,半波電壓應(yīng)為1.32 kV。其有效電光系數(shù)γc1為23.34pm/V。在1064nm情況下兩塊晶體串連的半波電壓為2.37kV。
圖6 RTP晶體透過率隨所加電壓的變化關(guān)系
(3)3#樣品幾條曲線的半波電壓分別為2.20, 2.15,2.19,2.29kV,平均值為2.21kV。如果兩塊晶體串連的話,半波電壓為1.10kV。其有效電光系數(shù)γc2為22.5pm/V。在1064nm情況下兩塊晶體串連的半波電壓為1.99kV。
(4)4#樣品幾條較好曲線的半波電壓分別為2.54,2.41,2.50kV,平均值為2.48kV。如果兩塊晶體串連的話,半波電壓為1.24kV。其有效電光系數(shù)γc2為20.05pm/V。在1064nm情況下兩塊晶體串連的半波電壓為2.23kV。
(5)在0電壓處,正電壓測試與負電壓測試的初始位相不同,這主要是由于測試過程造成的:先加正向電壓0~5kV,此后電壓退到0時,系統(tǒng)的透過率往往不能恢復(fù)到初始狀態(tài),在此情況下加負向電壓,繼續(xù)實驗。這一現(xiàn)象的出現(xiàn)應(yīng)該是由逆壓電、彈光、熱光等多種效應(yīng)的影響造成的。
(6)圖中所示的透過率是整個系統(tǒng)的透過率。由于所用偏振片的損耗較大,因此最大透過光強并不高,約為80%~90%。如果排除偏振片的損耗影響,則1#~4#樣品的最大透過率均可達到95%以上。
本文研究了RTP晶體的多種光學(xué)和電學(xué)性質(zhì),測試結(jié)果表明RTP晶體具有較高的光學(xué)質(zhì)量,透過波段寬,吸收損耗小,消光比達到6000以上,Z向電阻率比KTP高兩個數(shù)量級,并可耐受7000V以上高壓。其有效電光系數(shù)γc1=23~26pm/V,γc2=20~23pm/V,與KTP晶體的數(shù)據(jù)(γc1=28.6 pm/V,γc2=22.2 pm/V)[8]相比差距不大。所有這些數(shù)據(jù)表明RTP是一種綜合性能優(yōu)異的電光晶體,同時可為高性能RTP電光調(diào)制器件的精確設(shè)計提供參考。
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Optical and electrical properties of RTP crystal
CHENG Xiu-feng,WANG Ying,WANG Zheng-ping
(State Key Laboratory of Crystal Materials,Shandong University,Jinan 250100,China)
RTP(RbTiOPO4)crystal is a new type electro-optic material which has important application prospects.By spectrophotometer,Nd:YAG mode-locked laser,and withstand voltage tester,its optical and electrical properties are researched systematically,including the transmission spectrum,refractive index,extinction ratio,resistivity,and electro-optic coefficients.The results show that RTP possesses excellent comprehensive properties,like wide transmission range,low absorption loss,high extinction ratio,large resistivity,high electro-optic coefficient and low halfwave voltage.The obtained experimental data will provide a reference for the precise design and optimization of high quality RTP electro-optic devices.
RTP;electro-optic crystal;optical property;electrical property
TN304.8;O73;O482.3;O441.2
:A
:1674-5124(2014)01-0009-05
10.11857/j.issn.1674-5124.2014.01.003
2013-05-17;
:2013-07-24
國家自然科學(xué)基金項目(61178060);山東大學(xué)自主創(chuàng)新基金項目(2012TS215)
程秀鳳(1969-),女,山東莘縣人,高級實驗師,主要從事晶體測試工作。