王 常,吳 震,鄧朝勇
(貴州大學 理學院 貴州省微納電子與軟件技術重點實驗室,貴州 貴陽 550025)
近年來,隨著信息產業(yè)的巨大發(fā)展,人們對便攜式電子產品需求量日益增加。而低壓差穩(wěn)壓器(Low-Dropout Regulator,LDO)以其低噪聲、低紋波、體積小、應用簡單等優(yōu)點被廣泛應用于電池供電系統(tǒng)的便攜式電子設備上。隨著SoC(片上系統(tǒng))的發(fā)展,要求盡可能地減少外圍電路,越來越多的模塊被納入芯片內部。因而對LDO而言,無片1外電容LDO就成為LDO發(fā)展的新趨勢。
介于無片外LDO缺少輸出大電容,使得負載的階躍變化需要靠調整管來快速響應。但調整管的柵電容通常很大,這會導致環(huán)路的壓擺率(slew rate,SR)不夠,因此無片外電容LDO的瞬態(tài)特性比較差。
針對無片外電容LDO的瞬態(tài)特性,常用的解決辦法是縮短調整管柵電容的充放電時間。由于調整管柵電容的充放電時間與電流成反比,與其電容成正比。因此減小柵電容的充放電時間的途徑有:增大調整管柵極的驅動電流,或者減小調整管柵極的等效阻抗或等效電容。本文采用的是增加調整管柵電容的充放電流,來增強瞬態(tài)響應。
近些年,為了提高LDO瞬態(tài)響應特性,眾多設計者采用增加調整管柵極驅動電流的方法[1-4]。在保證系統(tǒng)其它性能不受影響的前提下,為了得到快速響應,本文基于Lee提出的擺率增強電路(SRE)思想[5],結合RC電路的瞬態(tài)特性,提出了一種無片外電容LDO的瞬態(tài)增強電路。
擺率增強技術是目前提高無片外電容LDO瞬態(tài)性能的重要技術。圖1為SRE技術的系統(tǒng)模型[6-7]。該電路主要有兩個部分組成:LDO主干電路和SRE電路。首先在LDO中找到一個能快速響應負載電流和輸入電壓變化的節(jié)點,將該變化信號傳遞給SRE電路,然后SRE電路在LDO調整管的柵極產生一個額外的充放電流,從而使柵極電位快速變化,達到輸出端快速穩(wěn)壓的目的。
圖1 采用偏置電流增強技術的LDO框圖Fig.1 Diagram of LDO with the proposed dynamic bias-current boosting technique
本設計為了降低功耗,采用工作在亞閾值區(qū)的跨導放大器作為LDO的誤差放大器。圖2(a)為一個簡單的LDO電路圖。
圖 2(b)為 LDO的瞬態(tài)檢測電路[8],圖中 Vp和 Vn與圖 2(a)相對應,為檢測節(jié)點的電壓,其中虛線部分為信號檢測電路,另外兩條支路分別為一級放大器。
在檢測電路中,我們通過調節(jié)PMOS和NMOS晶體管的寬長比,來使得和在穩(wěn)定狀態(tài)下,通常分別被偏置在接近電源電壓和接地電壓。Vu和Vd為檢測電路的輸出端,同時也是偏置電路的輸入端口。
為了給偏置增強電路提供快速和擺幅較大的觸發(fā)信號。在檢測電路的輸出端加入了一個軌到軌的放大器,在這里采用反相器來實現(xiàn),如圖2(b)所示。它可以有效地將緩慢變化的檢測信號轉化為快速的軌到軌信號。當Vfb正向突變時,Vg增加,同時Vn增加,而在Mn上形成一個較大的柵源電壓Vgs,從而為PMOS調整管提高一個大的充電電流。而且Vh和Vl均增加。Vh更加靠近電源電壓,而Vl開始從一個小電壓開始增加,使其達到了反相器CMOS的閾值電壓,因而在Vd產生了從電源電壓到地電壓的擺幅范圍。同樣,當Vfb負相變化時,會使Vp增加,從而導致Vh和Vl均下降,而且反相器會使Vh變化范圍轉化為從電源電壓到地電壓的變化范圍,實現(xiàn)軌到軌的目的。仿真結果如圖3所示。
圖2 帶瞬態(tài)檢測電路的LDO Fig.2 Diagram of LDO with the transient slewing-detection circuit
圖3 電路內部信號隨Vfb變化曲線Fig.3 Internal signals of the cricuit during the slewing of Vfb
檢測電路將檢測信號傳遞給偏置電路,偏置電流增強電路產生一個瞬間的大偏置電流,進而給調整管的柵電容充電。
本電路主要是利用RC電路在輸入電壓發(fā)生變化時,電容不能瞬間突變的原理,為輸出端提供一個瞬時尖峰脈沖。
利用RC電路產生的脈沖使MOS管導通,電路圖如圖4所示。在信號發(fā)生突變時,為了使偏置電流Ib能隨之變化,本電路采用了上一節(jié)的軌到軌的思想,使得Vgn和Vgp是在VDD到地之間的滿擺幅。為了避免MOS進入截止區(qū),本設計采用Mbn和Mbp2個MOS管并聯(lián),如下圖所示,保證了信號的變化過程中,至少有一個的MOS管導通。從而使得Mx的漏源電流瞬間增大,Vn增加,進而Ib隨之增大。
圖4 偏置電流增強電路Fig.4 Bias-current boosting circuit
上圖中,Vu和Vd作為偏置電路的輸入端口,且是檢測電路的2個輸出端。Mb是以二極管形式連接的MOS管,在這里起提供一個大電阻Rb的作用,Mbn和Mbp與Mb并聯(lián),Mx和Mn為一個電流鏡。
穩(wěn)態(tài)下,Vu和Vd均保持不變,此時電容并不導通,所以Vgn和Vgp分別置地和電源電壓。2個MOS管均截止,偏置電路由于Mb產生的大電阻Rb,使得偏置電流保持很小,Ib約為40 nA。當脈沖出現(xiàn)后,會在Vgn和Vgp處產生一個瞬時尖峰電壓,達到MOS管的閾值電壓,使其導通,而導通的Mbn和Mbp的電阻比并聯(lián)的Mb的電阻小得多,此時偏置電路的電阻急劇減小,因而在Mx處產生一個瞬時大漏電流,從而在Mn處鏡像出一個大的瞬時偏置電流Ib。
由于RC電路瞬態(tài)特性,Vgn和Vgp是以正負脈沖的形式傳遞過來的,所以偏置電路只是產生一個瞬時的大電流Ib,然后鏡像給LDO,給調整管的柵電容進行充放電,使得柵電壓快速響應。當柵電容充放電完成后,Vgn和Vgp又迅速恢復到原來的穩(wěn)態(tài),分別偏置到接地電壓和VDD,2個MOS管又重新截止,偏置電流又恢復到原來的低電流狀態(tài)[9]。如圖5所示。
該電路設計在穩(wěn)定的狀態(tài)下,靜態(tài)電流保持在較低的水平;突變狀態(tài)下,在提高了系統(tǒng)響應速度的同時,靜態(tài)電流只是瞬間增大,隨后立即減小為初始值,因而對系統(tǒng)的功耗并沒有產生很大影響。
圖5 偏置電路內部信號隨 Vu和Vd變化曲線Fig.5 Internal signals of the cricuit during the slewing of Vuand Vd
本電路設計主要包括檢測電路、偏置電流增強電路、以及LDO主電路。其電路圖如圖6所示。
圖6 帶有檢測電路和偏置增強電路的LDO的實現(xiàn)電路Fig.6 Circuit implementation of the LDO with the slewing-detection circuit and the dynamic bias-current boosting circuit
當負載電流正向變化時,Vfb減小,在上面的電路圖中體現(xiàn)為Vp增大,由于電流鏡作用,使得本身為低電位Vl的繼續(xù)降低,通過反相器后,Vd保持為高電位不變;而Vh由高電位開始減小,在反相器的作用下,Vu由低電位開始增加。因而Vgn產生了一個瞬間的正向電壓脈沖,使得Mbn瞬間導通,從而偏置電流極大增加。使得流過Mx的漏電流增大,Mx的柵電壓增大,則Vn增大,同時流過Mn的漏電流Ib增大。當負載電流負向變化時,同理使得Mbp導通,為LDO電路提供瞬間大電流。本設計的偏置電流在激勵信號的作用下為17.5 μA,在穩(wěn)態(tài)時為40 nA。
電路基于SMIC的0.18 μm工藝進行仿真。由于穩(wěn)態(tài)下偏置電流設計的比較低,Ib=40 nA,所以整個系統(tǒng)的靜態(tài)電流只有 3.2 μA。
如圖7所示,圖中虛線表示的偏置電流為40 nA的頻率響應,實線為偏置電流為17.5 μA的頻率響應。當系統(tǒng)處在穩(wěn)定狀態(tài)時,偏置電流為40 nA,其相位裕度為90.19°。當遇到激勵信號時,瞬時偏置電流為17.5 μA,其相位裕度為91.35°。所以系統(tǒng)在瞬態(tài)響應時,沒有降低系統(tǒng)的穩(wěn)定性。
為了得到瞬態(tài)響應的結果,我們通過對本設計電路與沒有采用偏置增強電路的LDO進行負載瞬態(tài)響應與線性瞬態(tài)響應的仿真。兩組LDO的仿真條件一樣。
對負載響應進行仿真時,電源電壓為1.8 V,輸出電壓為1.3 V。負載電流在10 ns內從50 mA增加到100 mA,經過400 μs后,又變回到 50 mA,如圖 8(a)所示。可以看出在負載電流發(fā)生跳變的兩個時刻,偏置電流Ib都發(fā)生了明顯的瞬時增大。響應時間分別為8 μs和4 μs遠小于傳統(tǒng)沒加偏置增強電路的LDO的響應時間28 μs和30 μs,很大程度上提高了系統(tǒng)的負載響應性能。對線性響應進行仿真,在保證輸出電壓為1.3 V,負載電流為100 mA的前提下,電源電壓在10 ns的時間內從1.8 V增加到2.3 V,經過400 μs后,又變回到1.8 V,如圖8(b)所示。同樣可以看到在電源電壓發(fā)生跳變的過程中,偏置電流出現(xiàn)了瞬間增大。結果顯示本設計的線性響應時間分別從 47 μs和 40 μs提高到 15 μs和 7 μs, 比傳統(tǒng)LDO瞬態(tài)響應性能提高了很多。
圖7 LDO環(huán)路增益的幅頻和相頻曲線(Ib=40 nA,Ib=17.5 μA)Fig.7 Magnitude and phase response of LDO loop gain (Ib=40 nA, Ib=17.5 μA)
圖8 常規(guī)LDO和本設計LDO瞬態(tài)響應特性模擬曲線Fig.8 Simulated transient response of the conventional and proposed LDOs
文中針對一款低功耗的無片外電容的LDO,利用偏置電流增強技術,設計出了一個瞬態(tài)響應增強電路?;赟MIC的0.18 μm CMOS工藝,使用Spectre仿真工具,對電路仿真驗證表明,負載瞬態(tài)響應時間由原來的28 μs提高到8 μs,線性瞬態(tài)響應時間從47 μs減小到15 μs。在不影響整個系統(tǒng)功耗的前提下,有效地提高了LDO的瞬態(tài)響應性能。而且整個電路的相位裕度保持在90.19°以上,保證了電路響應過程中系統(tǒng)的穩(wěn)定性。
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