劉 娜,馬亞魯,李小層,李國(guó)書,方武成
(天津大學(xué)理學(xué)院化學(xué)系,天津300072)
層狀硅酸鈉(層硅)是一類具有插層化合物特點(diǎn)的無(wú)機(jī)晶體,晶體結(jié)構(gòu)中存在帶有負(fù)電荷且規(guī)則排列的硅氧四面體層,層與層之間通過(guò)Na+平衡電荷和支撐。自1952年L.McCulloch[1]首次合成層狀硅酸鈉以來(lái),對(duì)其結(jié)構(gòu)、性能和應(yīng)用的研究在不斷地深入。層硅在二維方向是層狀有序的,而第三維方向多呈無(wú)序結(jié)構(gòu)?;谟行虻亩S結(jié)構(gòu)和高的離子交換選擇性和選擇容量,使其作為新型的無(wú)磷助洗劑而得到廣泛工業(yè)應(yīng)用[2]。目前三維有序的層狀硅酸鈉晶體也已被合成出來(lái)。層硅作為新型的堿性功能材料,近年來(lái)的實(shí)驗(yàn)室研究涉及到吸附劑、離子交換劑、質(zhì)子傳輸材料、催化劑及催化劑載體和分離膜材料等多個(gè)領(lǐng)域[3],與無(wú)機(jī)、有機(jī)物的插層設(shè)計(jì)創(chuàng)造出功能獨(dú)特的復(fù)合材料。
層硅的化學(xué)通式為Na2O·nSiO2·xH2O,其中二硅酸鈉(Na2Si2O5)的層硅具有 α、β、γ、δ、ε 等多種晶型結(jié)構(gòu)。不同晶相的制備則主要通過(guò)控制相應(yīng)的反應(yīng)溫度和反應(yīng)時(shí)間,例如:650~680℃可生產(chǎn)β相,700~730℃可生產(chǎn)δ相,750~780℃可生產(chǎn)α相。圖1 列出了 δ-Na2Si2O5的晶體結(jié)構(gòu)示意圖[4]。
圖1 δ-Na2Si2O5的晶體結(jié)構(gòu)示意圖
圖1a中四面體的中心為硅原子(圖中未示出),四面體的頂點(diǎn)(小圓球)代表氧原子,與氧連接的大圓球代表鈉離子。硅氧四面體規(guī)則排列成有序的晶層,晶層面呈波浪狀起伏,并且平行于[010]面。圖1b是平行于[010]面的晶層中SiO4四面體的結(jié)合方式。SiO4四面體沿b軸正方向和反方向交錯(cuò)排列,每個(gè)層面均由SiO4四面體構(gòu)成的六元環(huán)組成。正是由于δ-Na2Si2O5與 α-Na2Si2O5、 β-Na2Si2O5、ε-Na2Si2O5相比有更大的六元環(huán)開(kāi)口,并呈現(xiàn)更多的六元環(huán),這可從結(jié)構(gòu)上解釋?duì)?Na2Si2O5具有更大的離子交換能力的原因。目前δ-Na2Si2O5主要在洗滌劑中用作助洗劑;α和β晶相則多用于陽(yáng)離子交換劑和固體潤(rùn)滑劑[5]。
三維有序的層硅命名為RUB-18,其化學(xué)結(jié)構(gòu)式為 Na8[Si32O64(OH)8]·32H2O。 采用 X 射線粉末衍射技術(shù)證明了RUB-18的結(jié)構(gòu)和文獻(xiàn)中提及的Na型ilerite結(jié)構(gòu)相一致。目前,文獻(xiàn)中提及的RUB-18、ilerite、octosilicate化學(xué)組成和結(jié)構(gòu)相同,均為水合結(jié)晶層狀硅酸鈉結(jié)構(gòu)[6]。
生產(chǎn)δ-Na2Si2O5的噴霧干燥工藝是將固體泡花堿用水溶解后,經(jīng)噴霧干燥成粉狀無(wú)定型二硅酸鈉,在600~800℃條件下結(jié)晶,將產(chǎn)物粉碎或壓實(shí)成顆粒狀。20世紀(jì)80年代,德國(guó)Hoehest公司采用噴霧干燥工藝建成一套2 500 t/a的試驗(yàn)裝置,其生產(chǎn)的δ-Na2Si2O5(商品名SKS-6)取得了多項(xiàng)專利保護(hù),并在歐洲和日本試銷成功。Hoehest公司并于1994年建設(shè)了第一套年產(chǎn)5萬(wàn)t的生產(chǎn)裝置。目前德國(guó)和日本在層硅上的應(yīng)用居于領(lǐng)先地位,日本Kao Corp公司開(kāi)發(fā)出助劑中含層硅約25%的洗滌劑產(chǎn)品,用于洗滌衣物,洗后柔軟潔白。與4A沸石相比,δ-Na2Si2O5的鈣離子結(jié)合力與溫度及pH關(guān)系較大,其鎂離子結(jié)合力明顯好于4A沸石;而且吸水性好,結(jié)合重金屬離子的能力強(qiáng),增加了對(duì)漂白劑的穩(wěn)定性;因其具有堿性大的特點(diǎn),用于洗衣粉配方中可以不用或少用堿給予體。
中國(guó)于1997年由北京化工大學(xué)首次研制并開(kāi)發(fā)了δ-Na2Si2O5生產(chǎn)工藝,進(jìn)行了500 t/a的擴(kuò)大試驗(yàn)。目前中國(guó)有十幾家企業(yè)建成了層硅生產(chǎn)裝置,大多數(shù)裝置生產(chǎn)規(guī)模為3 000~5 000 t/a。目前生產(chǎn)裝置運(yùn)行的開(kāi)工率較低,生產(chǎn)成本高。在技術(shù)方面存在成品率低,原料路線不合理,技術(shù)成本和設(shè)備費(fèi)用較高等問(wèn)題。究其原因,中國(guó)固體泡花堿模數(shù)通常偏高,在制備層硅時(shí)需要進(jìn)行模數(shù)調(diào)整。研究表明,層硅質(zhì)量的波動(dòng)受固體泡花堿煅燒工藝條件和化學(xué)成分等的影響,此外,體系中有害微小晶體的存在也會(huì)導(dǎo)致δ-Na2Si2O5結(jié)晶困難。
水熱合成層硅的方法多在實(shí)驗(yàn)室內(nèi)進(jìn)行,該工藝制備需要在水熱反應(yīng)釜內(nèi)進(jìn)行,且產(chǎn)量不高。Y.Ide 等[7]以球形 SiO2、NaOH 和去離子水為原料,控制n(SiO2) ∶n (NaOH) ∶n (H2O) 為 (3.7~4) ∶1∶(25.8~35.4),100~120 ℃水熱合成 9~15 d, 制備水合層硅。產(chǎn)品經(jīng)離心分離和pH為10的NaOH溶液洗滌后于40℃干燥2 d備用。相比噴霧干燥結(jié)晶工藝,該工藝不需高溫合成,但生產(chǎn)周期長(zhǎng),生產(chǎn)成本高,且產(chǎn)率低。為縮短結(jié)晶時(shí)間,T.Iwasaki等[8]向合成體系中添加亞微米級(jí)的層硅晶種,可在3 d內(nèi)合成出octosilicate微晶,晶粒尺寸在1~2 μm。為提高微晶的尺寸,T.Iwasaki等[9]向反應(yīng)體系中引入 1~5 mm 的氧化鋯、氧化鋁、聚四氟乙烯、不銹鋼、尼龍66等異相界面,實(shí)現(xiàn)了octosilicate微晶的非均相成核、長(zhǎng)大,可制備大于5 μm的微晶,是傳統(tǒng)水熱工藝所制備微晶尺寸的兩倍,并且微晶尺寸可控。
在層硅結(jié)構(gòu)中,層間的陽(yáng)離子(主要是Na+)可以被不同的無(wú)機(jī)或有機(jī)陽(yáng)離子所交換,例如H+、Li+、Mg2+、Ni2+、Ca2+或十六烷基三甲基銨陽(yáng)離子[C16H33(CH3)3N+]。其中,通過(guò)酸化處理實(shí)現(xiàn) H+與層間Na+的交換是一類重要的離子交換反應(yīng),這是因?yàn)槲挥趯庸鑺A層的Na+與層表面的強(qiáng)相互作用阻礙了對(duì)層硅的插層改性,而質(zhì)子化了的層硅既可以在夾層發(fā)生酸堿反應(yīng),也可以與極性有機(jī)分子(如甲酰胺和二甲基亞砜)發(fā)生插層反應(yīng)。離子交換反應(yīng)可在一定程度上調(diào)整層與層之間的空間,卻很難將插入的物質(zhì)固定在特定的位置上,也很難阻止插入物的流失。
經(jīng)質(zhì)子化的層硅,表面存在豐富的Si—OH,可利用甲硅烷基化試劑(主要有氯硅烷和烷氧基硅烷兩類)進(jìn)行硅烷基化反應(yīng)。以氯硅烷為例,改性反應(yīng)通式如下:
在實(shí)際的改性反應(yīng)中,由于氯硅烷改性劑具有較高的反應(yīng)活性,反應(yīng)可在室溫下完成;而烷氧基硅烷改性劑具有較高的化學(xué)穩(wěn)定性,通常在高溫和加酸的反應(yīng)條件下提高硅烷基化的反應(yīng)進(jìn)程。D.Mochizuki等[10]采用十二烷基三甲基溴化銨(DTMA)置換層硅中的Na+,形成的DTMA-octosilicate作為中間體與二烷氧基二氯硅烷進(jìn)行硅烷基化反應(yīng)。由于二烷氧基二氯硅烷中Si—Cl比Si—OR活性更高,所以反應(yīng)如下進(jìn)行:
通過(guò)改變烷氧基中的碳鏈長(zhǎng)度,可獲得不同組成的(CnH2n+1O)2Si-octosilicate(n=4,6,8,10,12)。
經(jīng)XRD表征,隨著烷氧基碳鏈中的含碳個(gè)數(shù)增加,改性層硅的層間距增大;SEM表明改性層硅仍保留了octosilicate的原有形貌和粒度;由13C NMR證實(shí)了硅烷基化的過(guò)程為不可逆過(guò)程;29Si NMR表明有90%的層硅表面被硅烷基化,即每個(gè)Si—OH平均與0.8~1.1個(gè)烷氧基反應(yīng)。
S.Kida 等[11]對(duì) Na-octosilicate 進(jìn) 行酸化 處理得到H-octosilicate,將H-octosilicate分散于99.8%的甲醇溶液中,于120℃熱處理1.5,2,200 h。隨熱處理時(shí)間增至200 h,H-octosilicate的酯化程度可高達(dá)95%。酯化反應(yīng)產(chǎn)生的層間甲基間的相互排斥作用,引起晶體結(jié)構(gòu)和層的堆積規(guī)律發(fā)生變化,晶系也由原來(lái)的四方晶系變?yōu)閱涡本?。不同種類的醇應(yīng)用于層硅的酯化反應(yīng),可導(dǎo)致層硅表面性能和晶體結(jié)構(gòu)的改變,改善其在甲苯等有機(jī)溶劑中的分散性。
縮聚反應(yīng)通常發(fā)生于層硅結(jié)構(gòu)的層間或?qū)觾?nèi),多為Si—OH間的脫水反應(yīng)而形成Si—O—Si鍵合,進(jìn)而轉(zhuǎn)化為三維有序結(jié)構(gòu)。其中由Na-RUB-18(octosilicate)合成RWR沸石就是層間縮聚反應(yīng)的典型例證。T.Ikeda等[12]首先對(duì)Na-RUB-18進(jìn)行質(zhì)子化處理獲得H-RUB-18,隨后與0.25~2.0 mol/L四甲基氫氧化銨(TMAOH)水溶液反應(yīng)得到兩種TMA-RUB-18聚合物,即TMA-RUB-18-poly1和TMA-RUB-18-poly2,再經(jīng)乙酸等酸化作用得到RWR沸石。其中RWR沸石的結(jié)晶度取決于酸的種類,實(shí)驗(yàn)表明乙酸處理所得RWR沸石的結(jié)晶度較好,經(jīng)煅燒后的晶相為RWR沸石(又稱RUB-24)。XRD表明不存在Na-RUB-18、H-RUB-18和其他的TMA-RUB-18等雜相。
柱撐反應(yīng)的實(shí)質(zhì)是向?qū)庸鑼娱g嵌入其他分子并使之固定。采用相對(duì)穩(wěn)定的柱撐劑,通過(guò)柱撐作用可以形成多孔有序的柱撐層,并保留產(chǎn)生的新孔。R.Ishii等[13]利用聯(lián)苯柱撐劑 4,4′-二(三乙氧基硅基)聯(lián)二苯(BESB)合成柱撐ilerite。BESB兩側(cè)的乙氧基團(tuán)與質(zhì)子化ilerite(H-ilerite)的Si—OH發(fā)生層間柱撐反應(yīng)并固定。聯(lián)苯基起到支撐劑的作用,且在空氣中633 K下穩(wěn)定存在。多次的BESB柱撐、固定作用使層硅的層間產(chǎn)生微孔,所形成改性層硅的比表面積和孔體積分別達(dá)到616 m2/g和0.287 cm3/g。R.Ishii等[14]利用己胺和對(duì)氨基苯基三甲氧基硅烷對(duì)octosilicate進(jìn)行插層改性,后經(jīng)乙醇處理去除層間己胺,酸處理去除多余的對(duì)氨基苯基三甲氧基硅烷和反應(yīng)低聚物后,使對(duì)氨基苯基三甲氧基硅烷成功插層于octosilicate的層間,剛性的苯基官能團(tuán)起到柱撐作用,并使改性octosilicate產(chǎn)生大量微孔結(jié)構(gòu)。這類新型的柱撐層硅有望應(yīng)用于吸附、催化、氣體分離或存儲(chǔ)裝置中。
目前層硅的應(yīng)用主要基于其特定的組成、結(jié)構(gòu)和插層改性后的功能化。例如:δ-Na2Si2O5具有優(yōu)良的鈣、鎂交換能力,可用來(lái)替代三聚磷酸鈉,解決合成洗滌劑助劑的無(wú)磷化問(wèn)題。但其應(yīng)用存在明顯不足:1)在水中性質(zhì)不穩(wěn)定,易發(fā)生晶體結(jié)構(gòu)的塌陷,且水溶性差;2)不能用于合成洗滌劑的前配料和液體、膏狀洗滌劑的生產(chǎn),只適合干混法生產(chǎn)普通或濃縮洗衣粉;3)生產(chǎn)成本也相對(duì)較高。這些缺點(diǎn)嚴(yán)重制約了它的應(yīng)用,成為工業(yè)應(yīng)用的難點(diǎn)。李麗萍[15]通過(guò)Al3+摻雜,成功合成出在熱水中具有高穩(wěn)定性的Al-δ-Na2Si2O5。產(chǎn)品經(jīng)高塔噴霧干燥工藝,在保持原有使用性能的基礎(chǔ)上有效地提高了產(chǎn)品在水中的穩(wěn)定性,解決了洗滌劑的前配料問(wèn)題。另外,制備過(guò)程中的噴霧干燥、高溫結(jié)晶轉(zhuǎn)型等高耗能過(guò)程,導(dǎo)致生產(chǎn)成本較高。丁珊修等[16]利用反玻璃化原理,直接將合適模數(shù)的固體硅酸鈉粉碎后進(jìn)行反玻璃化制備層硅,由于減少了噴霧干燥環(huán)節(jié),可降低生產(chǎn)成本。
δ-Na2Si2O5的層狀結(jié)構(gòu)也為其作為機(jī)械裝置的潤(rùn)滑劑提供了可能。機(jī)械裝置中常用固體潤(rùn)滑劑有石墨、MX2(M=Mo或 W;X=S或 Se) 等, 然而 δ-Na2Si2O5具有價(jià)格便宜、對(duì)環(huán)境無(wú)污染等特點(diǎn)。Xu Hong 等[17]研究對(duì)比了石墨、MoS2和 α-Na2Si2O5的潤(rùn)滑性能(包括負(fù)載能力和抗磨損能力)。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,當(dāng)α-Na2Si2O5的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為1.0%~1.5%時(shí),其負(fù)載能力和抗磨損能力均優(yōu)于相同條件下的石墨和MoS2,這與α-Na2Si2O5的層狀結(jié)構(gòu)更容易相對(duì)移動(dòng)有關(guān)。由于α-Na2Si2O5表面為親水性,在潤(rùn)滑油等非極性物質(zhì)中的穩(wěn)定性和分散性較差,故先采用親油性材料對(duì)α-Na2Si2O5表面進(jìn)行疏水處理,然后加入基礎(chǔ)油中,提高在潤(rùn)滑油中的分散穩(wěn)定性,增強(qiáng)潤(rùn)滑油的減摩抗磨能力。單長(zhǎng)兵等[18]采用油酸、WD-40硅烷偶聯(lián)劑進(jìn)行改性,改性α-Na2Si2O5在150SN、500SN基礎(chǔ)油中具有良好的分散穩(wěn)定性;改性劑與α-Na2Si2O5表面以化學(xué)鍵合或物理吸附方式結(jié)合。
層硅表面改性或?qū)娱g的插層改性,賦予了其更多的功能化。A.Kuhlmanna等[19]研究了負(fù)載 Pt的Na-ilerite催化劑的合成,可實(shí)現(xiàn)Pt的高濃度負(fù)載(質(zhì)量分?jǐn)?shù)為20%),并與酸性沸石H-erionite等機(jī)械混合組成雙組分催化劑Pt/H-erionite,其協(xié)同催化效應(yīng)可實(shí)現(xiàn)正己烷的合成轉(zhuǎn)化。T.Iwasaki等[20]利用水熱合成工藝得到尺寸為 4 μm×4 μm×0.2 μm 的四方片狀ilerite晶體,通過(guò)高速研磨混合,將20 nm的ZnO粉體均勻分散在ilerite晶體的片層表面而形成ZnO/ilerite復(fù)合粉體,該復(fù)合粉體具有高透明性,成功應(yīng)用于防紫外線化妝品中。
1)層狀結(jié)晶硅酸鈉作為新型無(wú)磷洗滌助劑,具有良好的水溶性、去除鈣鎂離子的性能、抗再沉積和抗灰分沉積等性能,有望成為合成洗滌劑的助洗劑之一。然而工業(yè)生產(chǎn)環(huán)節(jié)中原料水玻璃模數(shù)不均勻?qū)е聦庸璁a(chǎn)量不穩(wěn)定,噴霧干燥及高溫轉(zhuǎn)晶等過(guò)程造成能源消耗量大等問(wèn)題,尚有待解決。利用水熱合成工藝等低溫合成方法有望在降低成本,合成結(jié)構(gòu)、性能穩(wěn)定的層硅上有所突破。2)層硅的插層改性賦予了材料更多的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)和獨(dú)特功用。目前改性層硅在離子交換劑、催化劑及催化劑載體、分離膜材料等方面都有所應(yīng)用,與無(wú)機(jī)、有機(jī)物的復(fù)合改性將會(huì)開(kāi)拓其更加廣泛的市場(chǎng)。
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