劉美梅,陳國新,林 凌
(1.中國科學院福建物質結構研究所,福建 福州 350002;2.中國科學院寧波材料技術與工程研究所,浙江 寧波 315201)
催化劑在市場上尤其在精細化工和一些特殊的化學工業(yè)中的需求相當大。隨著人們對環(huán)境問題的日益關注,開發(fā)環(huán)境友好、高效的新型負載催化材料和工藝路線引起研究者的廣泛關注[1-3]。催化劑要分散在適宜的載體上使用,載體能使制成的催化劑具有合適的形狀、尺寸和機械強度,以符合工業(yè)反應器的操作要求;載體可使活性組分分散在其表面,獲得較高的穩(wěn)定性、分散度、比表面積,提高單位質量活性組分的催化效率。常用的載體有氧化鋁載體、硅膠載體、活性炭載體及某些天然產物如浮石、硅藻土等[4]。Cu-Ag/SiO2催化劑,在草酸二甲酯加氫合成乙二醇的反應過程中,表現出較高的催化性,具有極好的應用潛力,對其進行研究具有重大的理論意義[5-7]。
透射電子顯微鏡(TEM)是研究催化劑的形貌、結構、成分以及在載體上分布的重要手段之一,尤其是帶有掃描功能的透射電鏡(STEM),可獲得高角環(huán)形暗場(HAADF)像,其圖像襯度中含有豐富的化學成分信息,圖像的解釋簡明直接,被越來越廣泛地應用于材料微觀結構的研究中。本文主要以Cu-Ag/SiO2催化劑為例,分別采用TEM明場、暗場和STEM技術對其結構進行研究,并將得到的信息進行對比討論,以期更全面、準確地得到這類材料的結構信息。
首先采用溶膠凝膠法制備Cu-Ag/SiO2催化劑:將硝酸銅、硝酸銀、有機聚合物如聚二乙醇溶解在一定的蒸餾水中,再加入一定比例的正硅酸乙酯和乙醇,在一定溫度下形成溶膠,將溶膠烘干、烘焙后得到Cu-Ag/SiO2催化劑前驅體,將前驅體在氫氣氣氛中還原,得到Cu-Ag/SiO2催化劑[8]。采用超聲分散法制備透射電鏡樣品:將適量的催化劑樣品研磨細,分散到無水乙醇中制成溶液,用超聲清洗儀充分超聲,用移液槍取一滴溶液滴于微柵膜上,待自然晾干后放入FEI Tecnai G2F20場發(fā)射透射電子顯微鏡進行觀察。此電鏡的加速電壓200 kV,點分辨率0.24nm,配有 OXFORD-INCA EDS、HAADF 探頭、Gatan832 CCD(4k×2.7k)等附件。最后分別用TEM明場、暗場和STEM方法對納米負載催化劑的微觀形態(tài)、結構和成分分布進行表征。
圖1和圖2分別是負載催化劑的TEM明場形貌像和高分辨像。從圖1可以看出,SiO2載體襯度比較高,尺寸大小不一,且厚度不均勻。載體上負載著大小不同的納米催化劑顆粒,粒徑較大的顆粒襯度比較高,容易辨認出來;粒徑小的納米顆粒,在載體較薄的區(qū)域可以辨認,但在載體稍厚的區(qū)域或者粒徑更小的顆粒就不容易辨認出來。圖2是催化劑的高分辨像,圖中顯示,載體SiO2是非晶結構,清晰的晶格條紋表明該納米催化劑材料結晶性良好,晶格條紋面間距為0.24nm,該晶面為Ag的(111)面。在透射電鏡明場下,電子圖像襯度取決于透射到熒光屏或者照相機上不同區(qū)域的電子強度,來源于質厚襯度和衍射襯度。質厚襯度與樣品厚度有關,越厚的區(qū)域,透過的電子數越少,被散射到物鏡光欄外的電子數越多,電子圖像上其襯度就越高。圖1中,載體SiO2是非晶材料,其襯度是質厚襯度;而催化劑顆粒,是晶體,粒徑小,其襯度主要是衍射襯度,同時疊加了較低的質厚襯度。在催化劑顆粒粒徑較大、載體較薄的區(qū)域,因為SiO2的質厚襯度不會完全掩蓋催化劑的襯度,所以在圖1中可以辨認出負載在載體上的較大顆粒;而對于較小催化劑顆?;蛘咻d體較厚的區(qū)域,催化劑顆粒的襯度遠小于SiO2的質厚襯度,很容易被淹沒在載體的背底中,不容易辨認出來??梢?,明場形貌像不能完整表征催化劑顆粒在載體上的分布。高分辨像襯度是相位襯度,同時疊加了質厚襯度,能夠得到催化劑粒徑大小,還可以通過晶格辨別出物質種類,但因觀察圖像倍數高,觀察視野范圍小,對樣品厚度有嚴格要求,所以高分辨圖像也不能有效地表征催化劑顆粒的分布情況。
圖1 負載催化劑的TEM明場像
圖2 負載催化劑的高分辨像
納米負載催化劑材料的選區(qū)電子衍射(SAED)圖譜如圖3所示。圖中的非晶彌散環(huán)信號來自SiO2載體,明亮的衍射環(huán)是納米催化劑顆粒的衍射信號。使用TEM暗場方法,用物鏡光欄套取圖3中白色圈內的電子衍射點,把透射束擋掉,得到與圖1相對應的樣品暗場圖像,如圖4所示。與圖1相比,可以看出,暗場圖像信息來源于套取的電子衍射點信號,在很大程度上排除了載體襯度對納米顆粒的干擾,可以更加清楚地看到中上部區(qū)域的納米顆粒。由于在暗場操作過程中,物鏡光欄是圓形的,套取的是特定方向的電子衍射斑點,得到的圖像中只能看到相應取向的負載顆粒,不能表征納米顆粒在載體上的完整空間分布。顯然,透射電鏡必須配置環(huán)形的物鏡光欄,才能套取催化劑的所有電子衍射點,對應的暗場形貌像才能表征催化劑顆粒的完整分布,但環(huán)形物鏡光欄在實驗室一般不配備。
圖3 負載催化劑的選區(qū)電子衍射譜圖
圖4 負載催化劑的普通暗場圖
為進一步對納米顆粒的分布進行表征,對樣品進行STEM測試。圖5為樣品圖1區(qū)域的高角環(huán)形暗場(HAADF)像,可以清晰看到納米顆粒較為均勻地分布在載體上。對比圖1中TEM明場形貌像上基本只看到厚度均勻載體上的納米顆粒分布,而載體厚度不均時高的載體質厚襯度會掩蓋粒徑較小的納米顆粒,可見HAADF圖像有很大優(yōu)勢,基本排除了載體襯度對納米顆粒觀察的影響,可以全面地看到納米顆粒在載體上的分布情況。這是因為HAADF技術采用的探測器,收集的不是布拉格反射電子,而是高角度非相干散射電子。在不存在布拉格散射的情況下,電子散射基本是由盧瑟福散射所決定的,而大原子序數的材料比小原子序數材料具有更多的散射,所形成的HAADF圖像基本來自經歷盧瑟福散射的電子,其圖像襯度與原子序數平方成正比,而與樣品厚度的一次方成正比,像的襯度在更大程度上取決于化學成分,而不會隨樣品厚度發(fā)生很大變化[9]。對于本文觀察的Cu-Ag/SiO2催化劑,因為納米顆粒的平均原子序數是63,遠大于載體SiO2的平均原子序數15,所以催化劑顆粒在圖5上顯示出高于載體的襯度,HAADF表征方法受質厚襯度和衍射襯度的影響較小,即使是在載體厚度不均或有一定厚度的情況,也可以清晰地看到納米顆粒,這點可以從圖像的右側部分對比中看出。HAADF圖像也有別于普通暗場像,暗場圖像來源信號較弱,且只能得到特定取向的納米顆粒的分布信息;而STEM探頭是環(huán)形探頭,收集大量高角度散射電子,信號強,成像襯度高,可以清晰地得到催化劑顆粒的形貌像,完整表征納米顆粒在載體上的空間分布。為更加全面地對樣品進行表征,在STEM模式下對樣品進行區(qū)域線掃描、面掃描,以表征納米顆粒的元素分布情況,結果如圖6所示??梢钥闯?,Si和O元素呈現連續(xù)分布,這和SiO2作為載體的情況相符合;而Ag和Cu元素呈不連續(xù)分布,成分高量區(qū)與掃描區(qū)域的HAADF圖像中納米顆粒位置相對應。以上STEM結果的獲得對測試人員技術水平的要求較高,需有一定的經驗積累,而且要求儀器狀態(tài)要良好,環(huán)境穩(wěn)定。
圖5 負載催化劑的高角環(huán)形暗場像
綜上所述,可以利用TEM的明場、暗場、掃描透射等技術對納米材料進行表征,這3種技術在表征納米負載催化劑微觀結構方面各有優(yōu)缺點:(1)TEM明場的操作簡單、方便,圖像直觀,易得高分辨像,但在載體厚度不均的情況下,納米小顆粒襯度很容易被載體襯度所掩蓋,表征載體上尺寸較小的納米顆粒的空間分布比較困難;(2)TEM暗場像的方法,可以排除載體襯度對觀察納米顆粒的干擾,得到特定取向的納米顆粒的分布信息,但其衍射信號弱,且不能表征納米顆粒在載體上的完整空間分布;(3)STEM技術對納米顆粒的粒徑和空間分布表征最為完整清晰,還可以在該操作模式下對樣品進行能譜線掃描、面掃描操作,得到樣品元素分布信息,更加全面地對樣品進行表征,但對測試人員技術水平、儀器狀態(tài)和環(huán)境要求比較高,耗時長,不容易獲得高分辨圖像。
圖6 負載催化劑的掃描透射線掃和面掃圖像
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