楊曉飛，田林海，曹 盛，姚曉紅，唐 賓

（太原理工大學(xué)表面工程研究所，太原 030024）

0 引 言

鎂及其合金材料的密度低，比強(qiáng)度高，已逐漸應(yīng)用于汽車、電子、航空航天等行業(yè)。然而，鎂及其合金的耐蝕性能和耐磨性能較差，這嚴(yán)重限制了它的廣泛應(yīng)用［1－3］。為了克服上述缺點(diǎn)，擴(kuò)展鎂及其合金的應(yīng)用范圍，人們采用陽極氧化［4］、電鍍［5］、化學(xué)鍍［6］、物理氣相沉積（PVD）［7］和化學(xué)氣相沉積（CVD）［8］等技術(shù)對其進(jìn)行表面處理，但這些方法都有它們各自的缺點(diǎn)，很難滿足鎂合金的使用要求。

微弧氧化又被分為等離子微弧氧化（PMAO）、陽極火花沉積（ASD）、火花放電陽極氧化（ANOF）、火花陽極化工藝（SAP）［9］等，是一種簡單、高效的操作方法，被認(rèn)為是一種最有前景的表面處理方法［10］，亦是近年來備受關(guān)注的一種新型表面處理技術(shù)。它是通過電解液與相應(yīng)電參數(shù)的組合，在鋁、鎂、鈦及其合金表面依靠弧光放電產(chǎn)生的瞬時(shí)高溫、高壓作用，制備以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層的新技術(shù)［11］。

微弧氧化膜不僅具有很高的耐蝕性和耐磨性，而且還具有較好的絕緣性能和膜基結(jié)合力。近年來，已經(jīng)有很多學(xué)者對鎂合金微弧氧化膜的性能進(jìn)行了研究，并且取得了豐碩成果［12－13］，但微弧氧化膜的多孔結(jié)構(gòu)，對耐蝕性能和耐磨性能的提高不利，因此對膜層進(jìn)行封孔將會(huì)顯著提高鎂合金的耐蝕性和耐磨性。目前，關(guān)于微弧氧化膜封孔技術(shù)的研究還不是很多，特別是微弧氧化過程中對膜層進(jìn)行原位封孔的報(bào)道更少。逯平［14］、張毅［15］等對封孔處理技術(shù)做了相應(yīng)研究，指出封孔技術(shù)能夠顯著提高膜層的性能。

納米TiO2具有抗紫外線、抗菌、抗老化等功能，可用于光催化、污水凈化、油墨、涂料、油漆等領(lǐng)域。作者將納米TiO2加入到電解液中，對AZ91D鎂合金的微弧氧化膜進(jìn)行封孔處理，分析了摻雜納米TiO2對鎂合金微弧氧化膜耐蝕性和摩擦磨損性能的影響，希望此技術(shù)能促進(jìn)鎂合金的應(yīng)用。

1 試樣制備與試驗(yàn)方法

試驗(yàn)選用AZ91D鎂合金，其化學(xué)成分（質(zhì)量分?jǐn)?shù)／%）為8.5～9.5Al，0.5～1.0Zn，0.2～0.4Mn，余Mg。試樣尺寸為10mm×10mm×4mm。

試樣經(jīng)水磨砂紙打磨、丙酮清洗、烘干后進(jìn)行微弧氧化處理。試驗(yàn)系統(tǒng)包括電源、電解槽、攪拌系統(tǒng)和冷卻系統(tǒng)等。先用去離子水配制由10g·L－1NaAlO2、4g·L－1Na3PO4、3g·L－1NaOH 和5g·L－1納米 TiO2（平均粒徑為25nm）組成的NaAlO2－Na3PO4復(fù)合體系作為電解液，另配置不加納米TiO2的電解液作為對比。試驗(yàn)采用恒流控制模式，電流密度為10A·dm－2，占空比20%，頻率1000Hz，溶液溫度控制在40℃左右，氧化時(shí)間為15min。

采用S－4800型掃描電子顯微鏡（SEM）及其附帶的能譜儀（EDS）和德國D8Advance型X射線衍射儀（XRD）分析微弧氧化膜的形貌、組成及相結(jié)構(gòu)；采用CS350型電化學(xué)測試系統(tǒng)對試樣進(jìn)行腐蝕性能測試，以3.5%（質(zhì)量分?jǐn)?shù)）NaCl溶液為腐蝕介質(zhì)，采用三電極體系，鉑片為輔助電極，飽和甘汞電極為參比電極；采用MFT－R4000往復(fù)摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)進(jìn)行滑動(dòng)摩擦試驗(yàn)，摩擦副為直徑5mm的Si3N4小球，載荷2N，頻率2Hz，滑動(dòng)距離為60m；磨損質(zhì)量采用SVC－500型高精度電子天平測量，精度為10－4g。比磨損率的計(jì)算公式如下：

式中：K 為比磨損率，μg·m－1；ΔW 為磨損質(zhì)量，μg；s為滑動(dòng)距離，m。

2 試驗(yàn)結(jié)果與討論

2.1 微弧氧化膜的表面形貌

由圖1可知，不加納米TiO2的微弧氧化膜表面有許多類似于“火山口”的噴射孔。微弧氧化初期，在基體表面形成了一層絕緣特征的氧化膜，并且隨著氧化膜厚度的增加，電壓升高，當(dāng)電壓升高到一定值后，初生的氧化膜被擊穿，從而在內(nèi)部形成放電通道，即微孔，所以它是由于擊穿放電內(nèi)部熔融氧化物和氣體向外逸出造成的。在電解液中加入納米TiO2微弧氧化后，氧化膜表面的微孔明顯減少，這是由于微弧氧化過程中所產(chǎn)生的局部高溫將納米TiO2瞬間熔融，然后由于電解液的冷卻作用，熔融的納米TiO2與電解液接觸后又迅速凝固，覆著于陶瓷層表面，從而顯著減少了微孔的數(shù)量。

圖1 電解液中加入和不加TiO2條件下制備微弧氧化膜的表面形貌Fig.1 Surface morphology of micro－arc oxidation films with（a）and without（b）nano－TiO2in electrolyte

2.2 微弧氧化膜的EDS譜

從圖2可以看出，兩種條件下制備的微弧氧化膜均主要由鎂、氧和鋁三種元素組成，也有少量的磷和碳元素，加入納米TiO2微弧氧化后的EDS譜中出現(xiàn)了鈦元素。其中鎂元素來自于基體，鋁和磷元素來自于電解液，氧元素主要是由于空氣中的氧參與了陰極的吸氧反應(yīng)，從而參與了膜層的生長，空氣中的碳元素很容易吸附到膜表面造成污染，因此也檢測到了碳元素的存在。

圖2 電解液中加入和不加TiO2條件下制備微弧氧化膜的EDS譜Fig.2 EDS spectra of micro－arc oxidation films with

圖3 電解液中加入和不加TiO2條件下制備微弧氧化膜的XRD譜Fig.3 XRD patterns of micro－arc oxidation films with

圖4 AZ91D鎂合金基體及微弧氧化膜的極化曲線Fig.4 Polarization curves of AZ91Dmagnesium alloy matrix and micro－arc oxidation films

2.3 微弧氧化膜的物相組成

由圖3可知，不加納米TiO2的微弧氧化膜由MgAl2O4、Mg3（PO4）2、MgO 以及鎂相構(gòu)成，并以MgAl2O4相為主；電解液加入納米TiO2微弧氧化后，膜層中增加了TiO2相，這表明電解液成分對膜層的構(gòu)成具有重要影響。其中的鎂衍射峰來自于鎂合金基體，這是因?yàn)槲⒒⊙趸な嵌嗫捉Y(jié)構(gòu)的，X射線能夠穿透膜層［16］。MgO和 MgAl2O4相的熔點(diǎn)分別為2800，2135℃，這兩種相的存在證明了微弧氧化區(qū)的瞬時(shí)溫度非常高［17］。

2.4 微弧氧化膜的耐蝕性能

NaAlO2－Na3PO4體系中加入和不加納米TiO2條件下制備的微弧氧化膜的極化曲線如圖4所示，用CorrView軟件對極化曲線進(jìn)行擬合，結(jié)果如表1所示。由表1可知，鎂合金基體化學(xué)活性高，自腐蝕電位只有－1.800V，耐蝕性差；不加納米TiO2制備的微弧氧化膜的自腐蝕電位提高至－1.618V；加入納米TiO2微弧氧化后，由于微弧氧化膜表面的微孔數(shù)量減少，故而耐蝕性有了進(jìn)一步提高，自腐蝕電位升至－1.470V，腐蝕速率較基體的降低了兩個(gè)數(shù)量級(jí)。

微弧氧化首先發(fā)生在膜層中較薄弱的地方，包括擊穿、熔融、氧化和凝固四個(gè)過程，然后在膜層較薄的位置重復(fù)上述過程，最終形成一層與基體以冶金方式結(jié)合的膜層［18］。膜層的耐蝕性與它自身的致密性有密切的關(guān)系，膜層越致密，耐蝕性越好。因此，對微弧氧化后的多孔膜層進(jìn)行封孔處理顯得非常重要。由前可知，加入納米TiO2微弧氧化后膜層表面的孔洞減少，致密度得到提高，加入的納米TiO2起到了一定的封孔作用，與不加納米TiO2的微弧氧化膜自腐蝕電位相比，提高了約150mV。

表1 AZ91D鎂合金基體及微弧氧化膜的極化曲線參數(shù)Tab.1 Parameters of polarization curves of AZ91D magnesium alloy matrix and micro－arc oxidation films

2.5 微弧氧化膜的摩擦磨損性能

從圖5可以看出，鎂合金基體的摩擦因數(shù)隨時(shí)間變化的趨勢不平穩(wěn)，平均摩擦因數(shù)為0.119。不加納米TiO2制備的微弧氧化膜平均摩擦因數(shù)為0.093，而加入納米TiO2制備的微弧氧化膜的平均摩擦因數(shù)則降低至0.056，這說明加入納米TiO2微弧氧化后可以提高微弧氧化膜的減摩性能。這是因?yàn)?，微弧氧化膜的表面由熔融物質(zhì)組成，在摩擦的初始階段，其和摩擦副的接觸粘著增加，在載荷作用下疏松的結(jié)構(gòu)壓潰，形成許多硬質(zhì)小顆粒，在摩擦過程中起到減摩作用，所以微弧氧化膜摩擦因數(shù)較基體的有所降低。加入納米TiO2可使微弧氧化膜的表面微孔數(shù)量明顯減少，膜層的致密度顯著提高，在磨損過程中摩擦副作用于微弧氧化膜表面，但難以對硬度較大的氧化膜產(chǎn)生破壞作用，故而減摩作用更加明顯。

圖5 AZ91D鎂合金基體及微弧氧化膜的摩擦因數(shù)Fig.5 Friction coefficients of AZ91Dmagnesium alloy matrix and micro－arc oxidation films

經(jīng)計(jì)算得AZ91D基體、不加納米TiO2的微弧氧化膜和加入納米TiO2微弧氧化膜的比磨損率分別為16.67，13.33，8.33μg·m－1?？梢?，微弧氧化膜的磨損率都比基體的低，而加入納米TiO2的微弧氧化膜的磨損率僅為基體的1／2。

3 結(jié) 論

（1）電解液中不加入納米TiO2制備的微弧氧化膜表面疏松多孔，膜層由 MgAl2O4、Mg3（PO4）2、MgO以及Mg相構(gòu)成，并以MgAl2O4相為主；加入納米TiO2后，表面變得致密，膜層中增加了TiO2相。

（2）與該合金基體相比，微弧氧化膜的耐腐蝕性和耐磨性均提高，加入納米TiO2制備微弧氧化膜的耐腐蝕性和耐磨性更好。

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