朱 丹, 丁 毅, 王 娟, 馬立群, 朱 婧
(南京工業(yè)大學(xué) 材料科學(xué)與工程學(xué)院,江蘇 南京 210009)
AZ31鎂合金化學(xué)鍍Ni-Cu-Sn-P工藝的研究
朱 丹, 丁 毅, 王 娟, 馬立群, 朱 婧
(南京工業(yè)大學(xué) 材料科學(xué)與工程學(xué)院,江蘇 南京 210009)
通過X射線衍射儀以及極化曲線等手段,優(yōu)選出最佳化學(xué)鍍Ni-Cu-Sn-P工藝。結(jié)果表明:在硫酸鎳30g/L,硫酸銅0.4g/L,錫酸鈉8g/L,次磷酸鈉18g/L的條件下,所得 Ni-Cu-Sn-P鍍層的耐蝕性最好,且為非晶鍍層。
鎂合金;化學(xué)鍍;Ni-Cu-Sn-P;耐蝕性;非晶
鎂合金具有比強(qiáng)度、比剛度、比彈性模量高以及減震性好等優(yōu)點(diǎn),目前已在航空、汽車、軍事、光學(xué)儀器、計(jì)算機(jī)、電子通訊及聲像器材等領(lǐng)域中得到廣泛的應(yīng)用[1-3]。由于鎂的化學(xué)性質(zhì)活潑,在室溫下會被空氣氧化,生成的氧化膜疏松、多孔,導(dǎo)致鎂及鎂合金的耐蝕性非常差,無法對基體起到良好的保護(hù)作用[4]。對鎂合金進(jìn)行表面處理可以提高其耐蝕性,其中化學(xué)鍍Ni-P合金是應(yīng)用較多的處理方法之一。在化學(xué)鍍 Ni-P合金的鍍液配方中加入Cu2+和Sn4+,所制得的Ni-Cu-Sn-P合金鍍層,其耐蝕性明顯優(yōu)于化學(xué)鍍Ni-P合金鍍層的[5]。本文主要通過單因素法研究AZ 31鎂合金化學(xué)鍍Ni-Cu-Sn-P工藝,優(yōu)選出最佳鍍液配方,得到性能較好的Ni-Cu-Sn-P合金鍍層。
實(shí)驗(yàn)所用的基體材料為AZ 31鎂合金,試樣尺寸為60mm×30mm×0.5mm。
NaH2PO218g/L,NiSO4·6H2O 40g/L,Na2SnO3·4H2O 5g/L,CuSO40.3g/L,NH4HF 15g/L,檸檬酸三鈉30g/L,焦磷酸鈉30g/L,無水乙酸鈉10g/L,硫脲0.5mg/L,十二烷基硫酸鈉10mg/L,pH值9,60℃。
(1)耐蝕性
根據(jù)GB/T 10124-1988測試鍍層的耐蝕性。試樣測試面積為20mm×40mm,質(zhì)量分?jǐn)?shù)為3.5%的NaCl溶液240mL,且NaCl溶液與大氣相通。以試樣出現(xiàn)腐蝕黑斑的時間作為評價鍍層耐蝕性的指標(biāo)。
(2)鍍速
采用增重法計(jì)算鍍速,公式為:
式中:v為鍍速,μm·h-1;Δm為試樣施鍍前、后的質(zhì)量差,g;ρ為鍍層的密度,取8.0g·cm-3;S為試樣面積,cm2;t為施鍍時間,h。
(3)電化學(xué)測試
采用CHI 660B型電化學(xué)工作站測試極化曲線,腐蝕介質(zhì)為質(zhì)量分?jǐn)?shù)為3.5%的NaCl溶液,參比電極為飽和甘汞電極(SCE),輔助電極為石墨。
(4)物相結(jié)構(gòu)測試
采用ARL X’TRA型X射線衍射儀(XRD)分析鍍層的物相結(jié)構(gòu),測試條件為:Cu靶,Ka輻射,掃描速率5°/min,掃描范圍20°~80°。
圖1為硫酸鎳的質(zhì)量濃度對鍍速及耐蝕性的影響。由圖1可知:鍍速隨著硫酸鎳的質(zhì)量濃度的增加而增大;浸蝕腐蝕時間隨著硫酸鎳的質(zhì)量濃度的增加先增加后減少,當(dāng)硫酸鎳的質(zhì)量濃度為30g/L時,浸蝕腐蝕時間最長。當(dāng)硫酸鎳的質(zhì)量濃度較低時,鍍液中游離Ni2+的質(zhì)量濃度較低,鍍速較慢,鍍層覆蓋不致密,耐蝕性較差;當(dāng)硫酸鎳的質(zhì)量濃度較高時,鍍速較快,試樣表面析出大量氫氣,鍍層孔隙率較高,耐蝕性下降。
圖1 硫酸鎳對鍍速及耐蝕性的影響
改變硫酸鎳的質(zhì)量濃度,測試所得鍍層的極化曲線,實(shí)驗(yàn)結(jié)果,如圖2所示。由圖2可知:當(dāng)硫酸鎳的質(zhì)量濃度為30g/L和40g/L時,鍍層的自腐蝕電位相對于基體的發(fā)生正移,且自腐蝕電流密度降低。
圖2 極化曲線
綜上所述,確定硫酸鎳的質(zhì)量濃度為30g/L。
圖3為硫酸銅的質(zhì)量濃度對鍍速及耐蝕性的影響。由圖3可知:鍍速隨著硫酸銅的質(zhì)量濃度的增加先增大后減?。唤g腐蝕時間隨著硫酸銅的質(zhì)量濃度的增加,也呈現(xiàn)先增加后減少的趨勢,當(dāng)硫酸銅的質(zhì)量濃度為0.4g/L時,浸蝕腐蝕時間最長,耐蝕性最好。
圖3 硫酸銅對鍍速及耐蝕性的影響
改變硫酸銅的質(zhì)量濃度,測試所得鍍層的極化曲線,實(shí)驗(yàn)結(jié)果,如圖4所示。由圖4可知:當(dāng)硫酸銅的質(zhì)量濃度為0.2g/L和0.4g/L時,鍍層存在鈍化區(qū)間,且硫酸銅的質(zhì)量濃度為0.4g/L時所得鍍層的自腐蝕電位高于硫酸銅的質(zhì)量濃度為0.2 g/L時所得鍍層的。
圖4 極化曲線
綜上所述,確定硫酸銅的質(zhì)量濃度為0.4g/L。
圖5為錫酸鈉的質(zhì)量濃度對鍍速及耐蝕性的影響。由圖5可知:鍍速隨著錫酸鈉的質(zhì)量濃度的增加先增大后減小;當(dāng)錫酸鈉的質(zhì)量濃度為8g/L時,浸蝕腐蝕時間最長。
圖5 錫酸鈉對鍍速及耐蝕性的影響
改變錫酸鈉的質(zhì)量濃度,測試所得鍍層的極化曲線,實(shí)驗(yàn)結(jié)果,如圖6所示。由圖6可知:鍍層均存在鈍化區(qū)間,且當(dāng)錫酸鈉的質(zhì)量濃度為8g/L時,鍍層的鈍化區(qū)間最寬。
圖6 極化曲線
綜上所述,確定錫酸鈉的質(zhì)量濃度為8g/L。
圖7為次磷酸鈉的質(zhì)量濃度對鍍速及耐蝕性的影響。由圖7可知:鍍速隨著次磷酸鈉的質(zhì)量濃度的增加先增大后減??;當(dāng)次磷酸鈉的質(zhì)量濃度為18 g/L時,浸蝕腐蝕時間最長。
圖7 次磷酸鈉對鍍速及耐蝕性的影響
改變次磷酸鈉的質(zhì)量濃度,測試所得鍍層的極化曲線,實(shí)驗(yàn)結(jié)果,如圖8所示。由圖8可知:當(dāng)次磷酸鈉的質(zhì)量濃度為18g/L時,鍍層的自腐蝕電位較正,熱力學(xué)穩(wěn)定性較高,自腐蝕電流密度較低,且存在鈍化區(qū)間,有較好的耐蝕性。
圖8 極化曲線
綜上所述,確定次磷酸鈉的質(zhì)量濃度為18 g/L。
圖9為較佳工藝條件下所得 Ni-Cu-Sn-P鍍層的XRD譜圖。由圖9可知:由于鍍層較薄,得到的XRD衍射圖為饅頭狀的寬化峰與基體衍射花樣的復(fù)合譜圖。表明該鍍層為非晶鍍層。
圖9 鍍層的XRD譜圖
(1)通過優(yōu)化實(shí)驗(yàn)獲得了AZ 31鎂合金化學(xué)鍍Ni-Cu-Sn-P的較佳工藝:硫酸鎳30g/L,硫酸銅0.4g/L,錫酸鈉8g/L,次磷酸鈉18g/L,NH4HF 15g/L,檸檬酸三鈉30g/L,焦磷酸鈉30g/L,無水乙酸鈉10g/L,硫脲0.5mg/L,十二烷基硫酸鈉10g/L,pH值9,60℃。
(2)較佳工藝條件下所得 Ni-Cu-Sn-P鍍層為非晶鍍層。
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A Study of Electroless Ni-Cu-Sn-P Plating on AZ 31Magnesium Alloy
ZHU Dan, DING Yi, WANG Juan, MA Li-qun, ZHU Jing
(College of Materials Science and Engineering,Nanjing University of Technology,Nanjing 210009,China)
The electroless Ni-Cu-Sn-P plating process was optimized by XRD,polarization curves and so on.The results show that the best Ni-Cu-Sn-P coating was obtained when nickel sulfate is 30g/L,cupric sulfate 0.4g/L,sodium stannate 8g/L,sodium hypophosphite 18g/L.And furthermore the Ni-Cu-Sn-P coating thus obtained is amorphous.
magnesium alloy;electroless plating;Ni-Cu-Sn-P;corrosion resistance;amorphous
TQ 153
A
1000-4742(2012)04-0029-03
2011-05-05