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磁聚焦法測電子比荷實驗中電場對電子束螺旋線起點的影響

2012-02-01 03:34王國菊張丙元
物理實驗 2012年1期
關(guān)鍵詞:螺旋線螺距電子束

王國菊,張丙元,牟 娟

(聊城大學(xué)物理科學(xué)與信息工程學(xué)院,山東聊城252059)

1 引 言

測定電子比荷的方法很多[1],其中用磁聚焦法測定電子比荷是大學(xué)普通物理實驗的重要內(nèi)容,基本原理是應(yīng)用電子束在與其平行的縱向磁場作用下運動的物理規(guī)律測定電子的比荷.對于有限長的螺線管,若磁感應(yīng)強度B值近似取其軸線上的中心值,則比荷的實驗公式為

式中:N為線圈總匝數(shù),h為螺距,I為一次聚焦電流,L和D分別為螺線管的長度和平均直徑,V2為加速電壓.實驗證明這種方法測量比荷的誤差較大,影響e/m誤差的關(guān)鍵因素是勵磁電流和螺距誤差,因此要減小e/m的測量誤差,一是要正確判斷磁聚焦過程,從而減小聚焦電流的測量誤差;二是要明確螺旋線起點的位置,減小螺距的測量誤差.

實現(xiàn)完整的磁聚焦過程有2種方法.方法一:在一定的加速電壓V2下,調(diào)聚焦電壓V1使電子束先在屏上聚焦成點[2]或散焦成斑[3],再加磁場使點或斑重新聚焦成點.方法二:即偏轉(zhuǎn)法或亮線法[3-5],是在水平偏轉(zhuǎn)板上加交流電壓使屏上的點或斑變成線(斑形成的是粗線),再加磁場使線旋轉(zhuǎn)π,線的兩端重合(細(xì)線形成點,粗線形成斑).在正確判斷聚焦過程的基礎(chǔ)上,勵磁電流的測量誤差相對較小,因此減小e/m誤差的關(guān)鍵是減小螺距的測量誤差.而要減小螺距的測量誤差,必須明確螺旋線起點的位置.

本文討論了以上2種磁聚焦方法中,加速電壓和聚焦電壓對螺旋線起點的影響.

2 實驗測量及結(jié)果分析

實驗選用南京激光儀器廠EB-IV型電子束實驗儀,示波管的型號是SF-4.保持加速電壓V2為1 000V,不同聚焦電壓V1時熒光屏上的電聚焦程度不同,V1=290V時,屏上的光斑直徑d最小,對應(yīng)電聚焦?fàn)顟B(tài).在不同V1下,調(diào)節(jié)螺線管中電流,使電子束在屏上“第一次磁聚焦”,若按儀器說明書中的建議h取y偏轉(zhuǎn)板入口到屏的距離193.55mm,用式(1)可求得e/m的測量值.圖1給出了e/m的測量值與其理論值的比值與V1的關(guān)系曲線.由圖1可見用聚焦方法一測量的e/m誤差受V1影響很大:V1<V聚焦時,e/m的測量值比理論值偏??;V1=V聚焦時,e/m最?。籚1>V聚焦時,e/m的測量值比理論值遠(yuǎn)遠(yuǎn)偏大.此結(jié)果與文獻(xiàn)[6]中的結(jié)果相似,認(rèn)為e/m的大幅變化是由于V2/V1對螺距的影響造成的.不同的是文獻(xiàn)[6]在V1=V聚焦時不能實現(xiàn)磁聚焦,而本實驗?zāi)軐崿F(xiàn).用聚焦方法二測量的e/m值基本不受V1的影響,但測量值比理論值偏小,所以與此聚焦過程對應(yīng)的螺距應(yīng)該不受V1的影響,h有確定的值,但計算中的取值顯然比實際值偏大了.

圖1 e/m的測量結(jié)果與V1的關(guān)系

為了明確螺距起點的位置,由e/m的理論值反推出實際值,如圖2所示.在聚焦方法一中,V1<V聚焦時,反推的h比計算中h的取值偏小,并且隨著V1的增大,h值減小,說明螺距起點向屏靠近;而在V1>V聚焦范圍內(nèi),反推的h值比計算中的取值又偏大,并且隨著V1增大又有減小的趨勢.這是由于磁場和電場的雙重聚焦作用所致[6]:當(dāng)V1<V聚焦時,V2/V1較大,電場梯度較大,在圖3中屏的左側(cè)有一電聚焦點,導(dǎo)致磁聚焦時,h的實際值普遍偏小,并隨著V1增大,V2/V1減小,電場梯度減小,此電聚焦點向屏靠近,對應(yīng)的h減??;當(dāng)V1=V聚焦時,h最??;當(dāng)V1>V聚焦時,電聚焦點落在屏右側(cè),此時很小的磁場就能使電子束聚焦到屏上,導(dǎo)致等效螺距h很大,超過了300mm.而由圖3中示波管的參數(shù)可知,示波管的總長263mm,顯然,螺距起點不存在,此時測量e/m無意義.

圖2 反推的h值與V1的關(guān)系

按照以上對螺距h的理解,螺旋線的起點是否就是加磁場前的電聚焦點呢?若是,則V1=V聚焦時,h最小,且應(yīng)該為零,但實驗結(jié)果顯示此時h值最小,為140mm左右.由V1>V聚焦時螺距起點不存在可知,此時在示波管中根本沒有完成1次完整的磁聚焦,屏上的“磁聚焦點”只是在磁場的作用下使屏右側(cè)的原電聚焦點向左移到了屏上.因此,磁場能使電聚焦點左移.V1=V聚焦時,雖然電聚焦點在屏上,但加上磁場后該點將向左移動,屏上出現(xiàn)磁聚焦時,相應(yīng)的螺距起點應(yīng)該是移動后的“電聚焦點”,此時h最小,但不為零.在此基礎(chǔ)上減小V1,V2/V1會增大,電場梯度增大,使電聚焦點左移,相應(yīng)的螺旋線起點也左移,螺距增大.可見聚焦方法一中,加速電場和聚焦電場對螺距起點的影響很大,不同的V2/V1對應(yīng)不同的螺距h.

而聚焦方法二中,h基本不受V1和V2的影響,其平均值為148.55mm,根據(jù)圖3中示波管的結(jié)構(gòu)(圖中數(shù)據(jù)單位mm),螺距起點的位置約在x偏轉(zhuǎn)板的中部.這是由于此磁聚焦過程是由線的旋轉(zhuǎn)過程判斷的,而線的旋轉(zhuǎn)唯一由磁場引起,與加速電場和聚焦電場無關(guān).

圖3 SF-4示波管的參數(shù)

3 結(jié) 論

在2種磁聚焦方法中,加速電場和聚焦電場對螺旋線起點的影響不同.在方法一中,螺旋線起點是磁場和電場共同作用下的屏左方的聚焦點.在V2/V1滿足電聚焦條件時,螺旋線起點離屏最近;隨V2/V1增大,螺旋線起點向左移動.而方法二中,螺旋線的起點在X偏轉(zhuǎn)板中部附近,且不受加速電場和聚焦電場的影響.

[1] 魯從勖,牛海波.用費米-狄拉克分布測定電子比荷[J].物理實驗,2009,29(3):6-9.

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