汪禮勝,陳鳳翔
(武漢理工大學(xué) 理學(xué)院 物理科學(xué)與技術(shù)系,湖北 武漢430070)
在半導(dǎo)體物理中,除熱激發(fā)外,還可以通過光注入、電注入和高能粒子輻射等使半導(dǎo)體中的電子和空穴增加,產(chǎn)生超出平衡態(tài)的過剩載流子.這些比熱平衡狀態(tài)多出來的過剩載流子就是非平衡載流子.相對于非平衡多數(shù)載流子,非平衡少數(shù)載流子對半導(dǎo)體器件的影響處于主導(dǎo)、決定的地位,所以在一般情況下所討論的非平衡載流子是指非平衡少子.非平衡載流子產(chǎn)生后,通過復(fù)合作用而消失,每個非平衡載流子從產(chǎn)生到復(fù)合,都有一定的生存時間,但各不相同,所有非平衡載流子的平均生存時間稱為非平衡載流子壽命,又稱少子壽命[1].
少子壽命是半導(dǎo)體電流連續(xù)方程的基本參量之一,對半導(dǎo)體器件特性的精確描述起著重要作用.在半導(dǎo)體器件設(shè)計和制造工藝中對少子壽命的控制已成為優(yōu)化器件特性的重要手段.對少子壽命有明顯依賴關(guān)系的器件主要有雙極型器件、太陽能電池等光電子器件[2].因此,少子壽命問題是半導(dǎo)體器件最重要的材料物理問題之一.在半導(dǎo)體物理教學(xué)過程中,少數(shù)載流子壽命是重要知識點,少子壽命與載流子的漂移、擴散和復(fù)合等有關(guān),往往學(xué)生對這部分內(nèi)容理解較為困難.為了使課堂講授的物理理論具有較為生動而牢靠的實驗基礎(chǔ),在教學(xué)過程中向?qū)W生直觀地演示非平衡載流子隨時間的衰減過程,定量給出少子壽命、擴散系數(shù)和擴散長度,將具有十分重要的意義.
少子壽命的測試方法有很多,如直流光電導(dǎo)衰減法、高頻光電導(dǎo)衰減法、微波反射光電導(dǎo)衰減法、表面光電壓法和開路電壓衰減法等[3-5].本演示實驗采用非接觸式微波反射光電導(dǎo)衰減法,測試過程可實現(xiàn)對半導(dǎo)體材料的無損檢測.
假定1束光在1塊p型半導(dǎo)體內(nèi)部均勻地產(chǎn)生非平衡載流子Δn和Δp.在t=0時刻,光照突然停止,Δn將隨時間而變化,
式中(Δn)0是t=0時刻非平衡載流子濃度,τ是少子壽命,標志著非平衡載流子濃度減小到原值的1/e所經(jīng)歷的時間.式(1)表示非平衡載流子濃度隨時間按指數(shù)規(guī)律衰減,如圖1所示.
圖1 非平衡載流子隨時間的衰減
在測試少子壽命時,脈沖激光照射到半導(dǎo)體樣品上,會引起被測樣品的光電導(dǎo)變化,如圖2所示.假設(shè)光注入處于小注入情況下,通常可以認為反射的微波能量正比于樣品的電導(dǎo)率[6].在無光照時有:
P(σ0)表示半導(dǎo)體樣品暗條件下的反射微波能量,σ0表示樣品的暗電導(dǎo).當有過剩少數(shù)載流子產(chǎn)生時,σ=σ0+Δσ,此時反射強度為
將(3)式在σ0處Taylor級數(shù)展開并忽略高次項,減去(2)式得:
即微波反射能量的變化正比于電導(dǎo)率的變化.半導(dǎo)體中電導(dǎo)率為
式中q是電子電荷,μn和μp分別表示半導(dǎo)體中電子和空穴的遷移率,n和p分別是無光照時半導(dǎo)體中電子和空穴的濃度.
圖2 半導(dǎo)體樣品測試示意圖
當脈沖激光照射樣品時,電子和空穴成對產(chǎn)生,有Δn=Δp.樣品電導(dǎo)率變化為Δσ=σ-σ0=q(μn+μp)Δn,即
結(jié)合(5)式和(7)式,有
即微波反射能量的變化正比于非平衡少數(shù)載流子濃度.通常少數(shù)載流子的衰減呈指數(shù)衰減形式,所以通過微波反射功率衰減曲線的指數(shù)因子就可以計算出少子壽命.
根據(jù)測量的少子壽命還可以計算非平衡少數(shù)載流子的擴散長度.根據(jù)愛因斯坦關(guān)系
可計算出載流子的擴散系數(shù)De,其中μe是半導(dǎo)體中載流子遷移率.擴散長度與少子壽命和擴散系數(shù)有如下關(guān)系:
實驗裝置主要由脈沖激光源、微波發(fā)射接收和數(shù)據(jù)采集處理系統(tǒng)等部分組成,如圖3所示.實驗中,脈沖激光器參量:脈沖寬度為1μs,中心波長為1 024 nm,重復(fù)頻率為1 Hz,單脈沖能量為50 mJ.在實驗過程中,可以調(diào)節(jié)入射光強以滿足小注入條件.脈沖激光照射到半導(dǎo)體樣品的表面,在半導(dǎo)體材料中產(chǎn)生過剩的少數(shù)載流子.
圖3 實驗裝置示意圖
微波系統(tǒng)由微波源、隔離器、環(huán)形器、天線和檢波器等組成.微波源發(fā)出9.375 GHz的微波,微波信號通過隔離器、環(huán)形器、天線入射到半導(dǎo)體樣品的另一側(cè),如圖4所示,反射的微波信號再次通過天線來收集,經(jīng)環(huán)形器后進入檢波器,微波信號轉(zhuǎn)換為電壓信號,電壓信號的衰減變化可以反映半導(dǎo)體光電導(dǎo)的變化.
圖4 測試裝置實物圖
數(shù)據(jù)采集利用NI公司USB-5132采集卡采集,此采集卡采樣速率高達50 MS/s,采集信號送入計算機通過軟件來處理.整個測試程序由NI公司虛擬儀器開發(fā)軟件Lab VIEW編程實現(xiàn),程序主要包括2部分:數(shù)據(jù)采集和曲線擬合計算.通過對NI-5132數(shù)據(jù)采集卡的采樣速率、采集時間、采樣點數(shù)、電平等相關(guān)參量的設(shè)置,計算機軟件就可實現(xiàn)對待測樣品少子壽命的自動測試.
演示實驗中,半導(dǎo)體樣品為上海硅材料廠生產(chǎn)的單晶硅片,〈111〉晶向,300μm 厚,電阻率20~45Ω·cm.圖5是數(shù)據(jù)采集卡采集到的光電導(dǎo)衰減信號,根據(jù)少數(shù)載流子的復(fù)合理論,脈沖峰值衰減到1/e所經(jīng)歷的時間即為少子壽命,從圖中可以初步估計少子壽命約10μs.
圖5 數(shù)據(jù)采集卡采集到的光電導(dǎo)衰減信號
為從光電導(dǎo)衰減曲線求出少子壽命,需要對衰減曲線進行指數(shù)擬合,計算機顯示的擬合曲線見圖6.程序根據(jù)指數(shù)擬合得到的指數(shù)衰減因子計算顯示的單晶硅片少子壽命約為10.7μs.
圖6 光電導(dǎo)衰減信號的指數(shù)擬合
設(shè)300 K時硅的遷移率μe為1 450 cm2/(V·s),根據(jù)(9)式,可以計算出硅中電子的擴散系數(shù)De約為37.5 cm2/s.再由(10)式計算得到電子擴散長度約為200.3μm.計算過程可通過Lab VIEW軟件編程完成,只需要輸入熱力學(xué)溫度和半導(dǎo)體載流子遷移率的值,就可以在對話框中顯示擴散系數(shù)和擴散長度,如圖7所示.
圖7 非平衡少數(shù)載流子擴散長度
通過微波反射光電導(dǎo)衰減法對半導(dǎo)體樣品進行非接觸、無損傷地檢測,向?qū)W生直觀地演示半導(dǎo)體材料少子壽命的衰減規(guī)律,使抽象的物理理論具有較為生動而牢靠的實驗基礎(chǔ),有助于學(xué)生對這一知識點的理解.實驗過程簡單易操作,結(jié)果清晰明了.通過對特定物理現(xiàn)象觀察,開闊了學(xué)生的視野,提高了學(xué)生在半導(dǎo)體物理方面的學(xué)習(xí)興趣,激發(fā)了他們的求知欲.
[1] 劉恩科,朱秉升,羅晉生.半導(dǎo)體物理學(xué)[M].北京:電子工業(yè)出版社,2008.
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