第十一屆等離子基離子注入與沉積國際會議(The 11th International Workshop on Plasma-based Ion Implantation & Deposition, PBII&D 2011)將于2011年9月8～12日在黑龍江省哈爾濱市舉行，同時舉行產(chǎn)品展覽。歡迎大家積極投稿，同時歡迎各參展單位聯(lián)系展覽。會議組織單位為哈爾濱工業(yè)大學和先進焊接與連接國家重點實驗室等。

會議的主要內(nèi)容包括：等離子基離子注入與沉積（PBII&D）；高功率脈沖磁控濺射（HPPMS）；等離子基離子注入與沉積系統(tǒng)；等離子基離子注入與沉積工業(yè)應用；等離子基離子注入與沉積相關等離子體診斷；半導體處理；建模和理論研究；等離子基離子注入與沉積制備納米結(jié)構(gòu)；生物材料；等離子基離子注入與沉積材料表面加工與分析；DLC和聚合物處理；等離子體和離子源；與PBII相關的IBAD、離子注入和等離子體氮化等。

會議所收論文及摘要均需以英文撰寫，會議所收錄的論文將以?？男问桨l(fā)表在SCI收錄的國際期刊（SCT和NIMB）中，具體要求見會議網(wǎng)站或聯(lián)系秘書處。

電話: 0451-86418784； 傳真: 0451-86418784

E-mail: PBIID2011@163.com；wuzhongzhen2003@163.com

Web: www.pbiid2011.org