蘆 笙，徐榮遠(yuǎn)，陳 靜，侯志丹，王澤鑫，湯 莉

(1. 江蘇科技大學(xué) 材料科學(xué)與工程學(xué)院, 鎮(zhèn)江 212003；2. 江蘇科技大學(xué) 機(jī)械工程學(xué)院, 鎮(zhèn)江 212003)

ZK60鎂合金微弧氧化硅酸鹽電解液的優(yōu)化及膜層特性

蘆 笙1，徐榮遠(yuǎn)1，陳 靜2，侯志丹1，王澤鑫1，湯 莉1

(1. 江蘇科技大學(xué) 材料科學(xué)與工程學(xué)院, 鎮(zhèn)江 212003；2. 江蘇科技大學(xué) 機(jī)械工程學(xué)院, 鎮(zhèn)江 212003)

在硅酸鈉、氫氧化鈉、四硼酸鈉和檸檬酸鈉組成的電解液中，采用交流脈沖電源對(duì)ZK60鎂合金進(jìn)行微弧氧化，研究電解液組分對(duì)膜層的影響規(guī)律，并優(yōu)化電解液配方。利用光學(xué)顯微鏡、掃描電鏡(SEM) 、能譜分析(EDS)和 X射線(xiàn)衍射分析(XRD)等，研究膜層厚度、表面與截面的微觀組織，通過(guò)靜態(tài)腐蝕質(zhì)量損失法和動(dòng)電位極化曲線(xiàn)法測(cè)試膜層在3.5%NaCl介質(zhì)中的耐蝕性能。結(jié)果表明：各電解液組分濃度對(duì)成膜過(guò)程的電壓變化、膜層厚度和耐蝕性能的影響規(guī)律各不相同，并在不同的合適濃度下獲得厚的膜層和較高的耐蝕性能。通過(guò)單變量實(shí)驗(yàn)和正交實(shí)驗(yàn)優(yōu)化電解液配方：60 g/L NaSiO3+20 g/L NaOH+25 g/L NaB4O7+20 g/L C6H5Na3O7，制備出的膜厚高達(dá)164.89 μm，結(jié)構(gòu)均勻、致密，腐蝕速率極低，僅為ZK60鎂合金空白試樣的1.8%。

ZK60鎂合金；微弧氧化；Na2SrO3電解液；配方；膜層

在變形鎂合金中Mg-Zn-Zr系應(yīng)用最多，以ZK60為典型代表，其強(qiáng)度最高[1]。與其它鎂合金相比，Mg-Zn-Zr系合金的耐蝕性較高，但其電負(fù)性也較高，常溫下具有很高的化學(xué)反應(yīng)活性，必須進(jìn)行表面處理才能廣泛應(yīng)用[2?3]。微弧氧化是一項(xiàng)新的表面技術(shù)，通過(guò)在金屬表面原位生長(zhǎng)以基體金屬氧化物為主的陶瓷層，顯著改善金屬材料的耐蝕與耐磨性能。目前，該項(xiàng)技術(shù)的研究和應(yīng)用主要以鋁、鈦、鎂合金為主[4?7]，對(duì)鎂合金的研究較少，且多集中在 AZ(Mg-Al-Zn)和AM(Mg-Al-Mn)系鎂合金[8?9]，普遍使用堿性電解液、脈沖交流電源、高電壓、大電流工藝[10]。其中，磷酸鹽、鋁酸鹽和硅酸鹽電解液使用最多，但磷酸鹽電解液污染環(huán)境。相對(duì)鋁酸鹽，硅酸鹽體系更易成膜，制備的膜層耐蝕性也較好[11]。迄今為止，有關(guān) ZK60鎂合金微弧氧化研究鮮見(jiàn)報(bào)道。SU 等[12?13]探索磷酸鹽電解液中陰極電流密度對(duì)ZK60合金交流脈沖雙極微弧氧化膜層組織和腐蝕性能的影響規(guī)律，并初步研究膜層顯微硬度和摩擦特性。

在此，本文作者以微弧氧化膜層厚度和耐腐蝕性能為主要考察指標(biāo)，對(duì)ZK60鎂合金進(jìn)行硅酸鹽系電解液配方的優(yōu)化研究。在固定的電參數(shù)下改變電解液成分，先通過(guò)單變量法對(duì)膜層性能進(jìn)行綜合評(píng)價(jià)，確定各組分的最佳濃度范圍，掌握Z(yǔ)K60鎂合金微弧氧化工藝的基本規(guī)律。在此基礎(chǔ)上通過(guò)正交實(shí)驗(yàn)優(yōu)化電解液配方，并比較優(yōu)化前、后微弧氧化膜的顯微組織和腐蝕性能，從而建立以硅酸鈉為主成膜劑的環(huán)保型電解液體系，可在ZK60表面形成具有均勻、致密結(jié)構(gòu)和優(yōu)異耐蝕性能的微弧氧化陶瓷層。

1 實(shí)驗(yàn)

實(shí)驗(yàn)所用材料為ZK60變形鎂合金，其化學(xué)成分(質(zhì)量分?jǐn)?shù))為：5.2% Zn，0.47% Zr，雜質(zhì)不大于 0.30%，余量為Mg。 將ZK60線(xiàn)切割加工成25 mm×25 mm×5 mm的試樣，用水砂紙逐級(jí)打磨至800#，獲得光滑表面，再超聲波堿洗 5 min，蒸餾水清洗、冷風(fēng)吹干后作微弧氧化處理。

實(shí)驗(yàn)使用WHD?20脈沖微弧氧化裝置，以不銹鋼槽為陰極，ZK60試樣為陽(yáng)極，通過(guò)循環(huán)水冷保持電解液溫度在30～40 ℃。以硅酸鈉為主成膜劑，配制基準(zhǔn)電解液：硅酸鈉70 g/L+氫氧化鈉10 g/L+四硼酸鈉10 g/L+檸檬酸鈉10 g/L。在單變量實(shí)驗(yàn)中，電解液的變動(dòng)范圍為：硅酸鈉30~110 g/L，氫氧化鈉5~35 g/L，四硼酸鈉10~40 g/L，檸檬酸鈉10~40 g/L。選用恒流方式：電流密度30 A/dm2，頻率600 Hz，占空比50%，微弧氧化處理時(shí)間15 min。

采用KEYENCE公司的VHE?900超景深光學(xué)顯微鏡觀察微弧氧化膜層的截面形貌，用CMI233膜層測(cè)厚儀測(cè)5點(diǎn)平均值作為膜層厚度。借助JSM?6480掃描電鏡觀察膜層表面形貌，并用所附能譜儀分析微區(qū)成分；利用島津XRD?6000X射線(xiàn)衍射儀分析膜層物相。

用靜態(tài)質(zhì)量損失法評(píng)價(jià)試樣的腐蝕性能：將試樣全浸到3.5%NaCl介質(zhì)，浸泡120 h后取出；再浸于鉻酸溶液 5 min，去除表面腐蝕產(chǎn)物后清水洗凈；試樣干燥后用精度為±0.1 mg的電子天平稱(chēng)量，計(jì)算試樣平均腐蝕速率。

利用EGM283恒電位儀測(cè)試試樣在3.5%NaCl溶液中的動(dòng)電位極化曲線(xiàn)，飽和甘汞電極為參比電極，鉑電極為輔助電極，試樣為工作電極，在自腐蝕電位上、下400 mV左右進(jìn)行掃描，掃描速率為5 mV/s。

2 結(jié)果與討論

2.1 單變量實(shí)驗(yàn)

2.1.1 硅酸鈉對(duì)膜層的影響及分析

圖1(a)、(b)、(c)分別顯示主成膜劑硅酸鈉濃度對(duì)ZK60微弧氧化膜層形成過(guò)程的電壓—時(shí)間曲線(xiàn)、膜層厚度和耐蝕性能的影響規(guī)律。其中，微弧氧化電壓的變化規(guī)律能反映基體材料表面反應(yīng)的狀態(tài)[14]。由圖1可看出：隨著硅酸鈉濃度從30 g/L提高到110 g/L，終電壓從321 V下降到224 V，表明微弧氧化電壓隨硅酸鈉濃度的增加而顯著減低，但仍出現(xiàn)尖端放電現(xiàn)象；膜層厚度呈先增后減的趨勢(shì)，濃度為90 g/L時(shí)，厚度最大(153.41 μm)；膜層腐蝕速率則呈先降后升的趨勢(shì)，濃度為70 g/L時(shí)腐蝕速率最低(0.206 g/(m2·h))。有研究[15]表明，在恒電流條件下，隨著硅酸鈉(SiO32?)濃度的增加，溶液電導(dǎo)率提高，使得微弧氧化過(guò)程電壓下降。從單個(gè)電壓—時(shí)間曲線(xiàn)來(lái)看，在微弧氧化初期，致密層厚度隨時(shí)間的延長(zhǎng)而增加，電壓也呈線(xiàn)性增加；而在后期，膜層結(jié)構(gòu)出現(xiàn)疏松的非致密層，故膜層電壓隨時(shí)間的延長(zhǎng)而緩慢增加, 這與其它研究[16]工作的結(jié)果一致。膜層厚度與耐蝕性并未出現(xiàn)對(duì)應(yīng)的關(guān)系，說(shuō)明微弧氧化膜層的耐蝕性不僅取決于膜層厚度，還與膜層結(jié)構(gòu)相關(guān)。

2.1.2 氫氧化鈉對(duì)膜層的影響及分析

氫氧化鈉主要用于調(diào)節(jié)溶液pH值，促進(jìn)成膜。圖2所示為氫氧化鈉濃度對(duì)ZK60微弧氧化膜的影響。從圖2可見(jiàn)，隨著氫氧化鈉濃度由5 g/L增加到35 g/L，終電壓從268 V降為177 V，微弧氧化電壓呈顯著下降的趨勢(shì)，濃度高于15 g/L后，還能顯著擬制尖端放電；膜層厚度和腐蝕速率大體都呈先增后減的趨勢(shì)，膜層厚度與耐腐蝕性也未出現(xiàn)對(duì)應(yīng)關(guān)系，濃度為 10 g/L時(shí)，厚度最大(145.25 μm)，耐腐蝕性能卻最差；而腐蝕速率最低值(0.0394 g/(m2·h))出現(xiàn)在濃度為 15 g/L時(shí)。

圖1 硅酸鈉濃度對(duì)ZK60微弧氧化膜的影響Fig.1 Effects of Na2SiO3 concentration on MAO coating of ZK60: (a) Curves of time vs potential at different Na2SiO3 concentrations; (b) Curve of Na2SiO3 concentration vs coating thickness; (c) Curve of Na2SiO3 concentration vs corrosion rate

2.1.3 四硼酸鈉對(duì)膜層的影響及分析

圖2 氫氧化鈉濃度對(duì)ZK60微弧氧化膜的影響Fig.2 Effects of NaOH concentration on MAO coating of ZK60: (a) Curves of time vs potential at different NaOH concentrations; (b) Curve of NaOH concentration vs coating thickness; (c) Curve of NaOH concentration vs corrosion rate

添加適量的四硼酸鈉有助于改善微弧氧化膜層的結(jié)構(gòu)，從而提高耐腐蝕性能(見(jiàn)圖3)。由圖3可看出，當(dāng)四硼酸鈉的濃度由10 g/L提高到40 g/L時(shí)，終電壓從254 V降到218 V，成膜電壓略有下降，也不能抑制尖端放電；膜厚單調(diào)下降，膜層腐蝕速率則先減慢后加快，四硼酸鈉的濃度為20 g/L時(shí)，腐蝕速率最慢(0.048 4 g/(m2·h))。

圖3 四硼酸鈉濃度對(duì)ZK60微弧氧化膜的影響Fig.3 Effects of NaB4O7 concentration on MAO coating of ZK60: (a) Curves of time vs potential at different NaB4O7 concentration; (b) Curve of NaB4O7 concentration vs coating thickness; (c) Curve of NaB4O7 concentration vs corrosion rate

2.1.4 檸檬酸鈉對(duì)膜層的影響及分析

在硅酸鈉體系中，添加檸檬酸鈉有利于改善微弧氧化膜層的結(jié)構(gòu)，提高膜層生長(zhǎng)的穩(wěn)定性及耐蝕性(見(jiàn)圖4)。由圖4可看出，隨著檸檬酸鈉的濃度由10 g/L增加到30 g/L，終電壓從254 V提高到291 V，成膜電壓稍有增加，當(dāng)檸檬酸鈉的濃度高于10 g/L后，尖端放電消失；膜層厚度隨濃度的增加而下降，腐蝕速率則呈先減后增的趨勢(shì)，濃度為15 g/L時(shí)，膜層腐蝕速率最慢(0.0603 g/(m2·h))。

圖4 檸檬酸鈉濃度對(duì)ZK60微弧氧化膜的影響Fig.4 Effects of C6H5Na3O7 concentration on MAO coating of ZK60: (a) Curves of time vs potential at different C6H5Na3O7 concentrations; (b) Curve of C6H5Na3O7 concentration vs coating thickness; (c) Curve of C6H5Na3O7 concentration vs corrosion rate

2.2 正交實(shí)驗(yàn)

2.2.1 正交實(shí)驗(yàn)結(jié)果

在單變量實(shí)驗(yàn)的基礎(chǔ)上，根據(jù)各電解質(zhì)組元對(duì)膜層的影響規(guī)律，按腐蝕性能為主兼顧膜層厚度的原則，并考慮工藝的方便性和可行性，選定電解液的最佳組分篩選范圍：A因素(硅酸鈉)60~80 g/L，B因素(氫氧化鈉)10~20 g/L，C 因素(四硼酸鈉)15~25 g/L，D因素(檸檬酸鈉)15~25 g/L，進(jìn)行四因素三水平L9(34)正交實(shí)驗(yàn)，優(yōu)化電解液配方。實(shí)驗(yàn)方案和結(jié)果如表1所列，并將ZK60空白試樣的腐蝕數(shù)據(jù)列入以進(jìn)行比較。

對(duì)表 1作直觀分析，試樣的耐腐蝕性能均優(yōu)于ZK60空白樣的(0.532 2 g/(m2·h))，試樣6的腐蝕速率最慢(0.010 2 g/(m2·h))，僅為空白試樣的1.9%，膜厚也最小(75.59 μm)；相反，膜層最厚試樣 4(150.948 μm)的腐蝕速率也最快(0.246 1 g/(m2·h))，為空白樣的46%。這進(jìn)一步證明：微弧氧化膜層的耐腐蝕性能與膜層厚度有一定關(guān)系，但更主要地取決于膜層顯微組織和致密性等微觀結(jié)構(gòu)特點(diǎn)。

表1 正交實(shí)驗(yàn)方案及結(jié)果Table 1 Design and results of orthogonal experiments

2.2.2 極差分析與優(yōu)化

表2所列為極差分析結(jié)果，hj表示第j個(gè)水平對(duì)應(yīng)的實(shí)驗(yàn)結(jié)果均值，R為極差。對(duì)表2分析可知，各因素對(duì)膜層腐蝕速率影響的主次順序?yàn)锽ACD，最佳組合為A1B3C1D2；而對(duì)膜層厚度影響的主次順序?yàn)锽CDA，最佳組合為 A1B1C3D3。顯然，無(wú)論是對(duì)耐腐蝕性能還是膜層厚度，B因素(氫氧化鈉)都是最主要的影響因子，但最佳水平不同；而其它3個(gè)因素對(duì)耐腐蝕性和膜層厚度的影響程度并不一致，如A因素(硅酸鈉)在影響腐蝕性能方面排序?yàn)榈?，但對(duì)膜層厚度的影響程度卻最小。

依據(jù)耐腐蝕性為主兼顧膜層厚度的優(yōu)化原則，進(jìn)行綜合評(píng)價(jià)和優(yōu)化篩選。因素A (硅酸鈉)作為主成膜劑，取A1水平時(shí)，膜層厚度最大且腐蝕速率最低；因素B (氫氧化鈉)調(diào)節(jié)pH值，并能有效擬制膜層尖端放電，促進(jìn)成膜，因此，成為影響膜層厚度和腐蝕速率的最主要因素，取 B3水平時(shí)，腐蝕速率最低；因素C (四硼酸鈉) 有助于改善膜層結(jié)構(gòu)，并降低成膜電壓，取C1水平時(shí)，耐腐蝕性最好；因素D (檸檬酸鈉)也能有效擬制膜層尖端放電，促進(jìn)膜層穩(wěn)定生長(zhǎng)，以耐腐蝕性為優(yōu)選前提可取 D2水平。據(jù)此，得出優(yōu)化配方：A1B3C1D2，并進(jìn)而研究?jī)?yōu)化膜層的腐蝕性能和顯微組織特點(diǎn)。

表2 極差分析Table 2 Variation analysis of orthogonal experiments

2.3 優(yōu)化實(shí)驗(yàn)結(jié)果與分析

2.3.1 膜層耐腐蝕性能

采用上述優(yōu)化電解液(A1B3C1D2)制備的微弧氧化試樣膜的厚度達(dá) 164.89 μm，高于正交實(shí)驗(yàn)所有試樣膜的厚度；同時(shí)，腐蝕速率也最低(9.6 mg/(m2·h))，為空白試樣的1.8%，表明優(yōu)化電解液制備的微弧氧化膜層兼具膜層厚、耐腐蝕性能優(yōu)的優(yōu)點(diǎn)。

圖5所示為優(yōu)化試樣與ZK60空白試樣的極化曲線(xiàn)，擬合結(jié)果如表3所列。顯然，優(yōu)化配方處理的試樣的自腐蝕電位提高，腐蝕電流比空白試樣低3個(gè)數(shù)量級(jí)。根據(jù)法拉第定律，腐蝕速率與腐蝕電流成正比,這與靜態(tài)腐蝕質(zhì)量損失結(jié)果吻合，進(jìn)一步證明優(yōu)化配方大幅度提高了ZK60的耐腐蝕性能。

圖5 ZK60空白樣及優(yōu)化處理試樣的超電位極化曲線(xiàn)Fig.5 Polarization curves of ZK60 blank and optimized samples

表3 動(dòng)電位極化曲線(xiàn)的擬合電化學(xué)參數(shù)Table 3 Fitted Electrochemical parameters from polarization curves

2.3.2 膜層截面顯微特征

微弧氧化膜層一般由內(nèi)、外兩層組成，外層疏松多孔，內(nèi)層結(jié)構(gòu)致密且與基體結(jié)合良好。圖6(a)、(b)和(c)分別為試樣 6、7和優(yōu)化試樣膜層在光學(xué)顯微鏡下的橫截面形貌。試樣6的膜層最薄(75.59 μm)，但結(jié)構(gòu)致密，故腐蝕速率低(0.010 2 g/(m2·h))；雖然試樣7的膜層更厚(143.12 μm)，但內(nèi)部疏松，孔洞較多，腐蝕速率 (0.206 7 g/(m2·h))為試樣6的20倍；優(yōu)化試樣的膜層最厚(164.89 μm)，膜層結(jié)構(gòu)也非常致密，故耐蝕性能最好。由此可見(jiàn)，雖然膜層厚度對(duì)耐蝕性能有一定影響，但更重要的是膜層顯微結(jié)構(gòu)，只有在膜層致密的前提下增加膜厚才有利于進(jìn)一步提高其耐蝕性能。

圖6 不同試樣的微弧氧化膜層的截面形貌Fig.6 Cross-section morphologies of MAO coatings of different samples: (a) Sample 6; (b) Sample 7; (c) Optimized sample

2.3.3 膜層表面顯微分析

圖7 不同試樣的微弧氧化膜的表面形貌Fig.7 Surface morphologies of different MAO coatings: (a) Sample 6; (b) Sample 7; (c), (d) Optimized sample

試樣6、7和優(yōu)化試樣微弧氧化膜層的表面形貌分別如圖7(a)、(b)和(c)所示，膜層表面由許多圓盤(pán)狀火山口組織堆疊而成，凹凸不平，圓盤(pán)中間孔洞為放電通道，也是氣體析出的通道，圓盤(pán)周?chē)€隨機(jī)分布有細(xì)小的擊穿孔。圖7(d)所示為優(yōu)化試樣的高倍圖，在膜層表面可見(jiàn)少量裂紋，這是由于熔融物在凝固成殼的過(guò)程中體積收縮產(chǎn)生了應(yīng)力，從而形成以孔為裂紋源的微裂紋。這些放電通道和微裂紋的存在為介質(zhì)中Cl?的滲入提供了通道，使膜層發(fā)生腐蝕。故孔洞和裂紋數(shù)量越少、尺寸越小，越有利于阻礙 Cl?的滲入，從而提高膜層的耐蝕性能。試樣6和優(yōu)化試樣的孔徑多在3～7 μm，最大為22 μm，孔徑較細(xì)小，表面較為平整、光潔，故具有優(yōu)異的耐腐蝕性能；而優(yōu)化試樣的厚度最大，故其耐腐蝕性能最好；反之，試樣 7的孔洞較多，且表面粗糙，因而耐蝕性能較差。

EDS分析表明，優(yōu)化試樣膜層表面主要由Mg、Si、Na、O元素組成，其中Mg為基體元素，Si、O、Na為電解液元素。圖8所示為膜層表面的XRD譜。綜合分析可知，膜層物相主要為MgO和Mg2SiO4。膜層形成的一般機(jī)制[17]為：在微弧的高溫作用下，基體材料表面發(fā)生溶解，使氧化膜熔融并在電解液的淬冷作用下迅速凝固形成多孔的氧化膜層，而燒結(jié)形成的化合物不斷堆垛在基體表面形成氧化膜層。

圖8 優(yōu)化試樣微弧氧化膜表面的XRD譜Fig.8 XRD pattern of oxidation coating of optimized MAO

3 結(jié)論

1) 在恒電流模式下固定電參數(shù)，通過(guò)單變量法研究硅酸鈉體系中各電解液組分濃度對(duì)ZK60鎂合金微弧氧化膜層的影響規(guī)律。隨著NaSiO3和NaOH濃度的增加，成膜電壓顯著降低，隨著 NaB4O7濃度的增加，成膜電壓略有降低；提高NaOH和C6H5Na3O7濃度都有利于擬制膜層尖端放電，促進(jìn)膜層生長(zhǎng)的穩(wěn)定性，使膜層更加致密、均勻。

2) 各電解液組分的濃度對(duì)微弧氧化膜層厚度和耐腐蝕性能的影響規(guī)律各不相同，并在不同的合適濃度下獲得大的膜層厚度和高的耐腐蝕性能，表明微弧氧化膜層的耐腐蝕性不僅取決于膜層厚度，還與膜層結(jié)構(gòu)密切相關(guān)。

3) 通過(guò)正交實(shí)驗(yàn)，按耐腐蝕性為主兼顧膜層厚度的優(yōu)化原則，篩選出優(yōu)化的電解液配方：60 g/L NaSiO3+20 g/L NaOH+25 g/L NaB4O7+20 g/L C6H5Na3O7，其微弧氧化膜層厚達(dá) 164.89 μm，膜層結(jié)構(gòu)致密，在3.5%NaCl中的腐蝕速率極低，僅為ZK60鎂合金空白試樣的1.8%。

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Optimization of silicate electrolyte for micro-arc oxidation and characteristic of coating fabricated on ZK60 magnesium alloy

LU Sheng1, XU Rong-yuan1, CHEN Jing2, HOU Zhi-dan1, WANG Ze-xin1, TANG Li1
(1. School of Materials Science and Engineering,Jiangsu University of Science and Technology, Zhenjiang 212003, China;2. School of Mechanical Engineering, Jiangsu University of Science and Technology, Zhenjiang 212003, China)

The micro-arc oxidation process was conducted on ZK60 Mg alloy in an electrolyte composed of NaSiO3,NaOH, NaB4O7and C6H5Na3O7by AC pulse electrical source. The coating thickness and microstructural characteristics of coating cross-section and surface were investigated by means of OM, SEM coupled with EDS and XRD. The mass loss and dynamicpotential curves were measured in a 3.5%NaCl solution to evaluate the coating resistance to corrosion.The results reveal that different elements of the electrolyte demonstrate different effects on process voltage, coating thickness and corrosion resistance. For an element of the electrolyte, there is usually a suitable concentration to obtain a thicker coating but which does not guarantee a better corrosion resistance. By means of single variable and orthogonal tests, an optimized electrolyte with a composition of 60 g/L NaSiO3+20 g/L NaOH+25 g/L NaB4O7+20 g/L C6H5Na3O7was developed. The sample prepared with the optimized electrolyte exhibits good corrosion property with only 1.8% of corrosion rate of blank sample due to its thicker (164.89 μm) and denser coating.

ZK60 magnesium alloy; micro-arc oxide; NaSiO3electrolyte; formula; coating

TG174.453

A

1004-0609(2010)10-1868-08

江蘇省先進(jìn)焊接技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室資助項(xiàng)目(JSAWT-06-08)；江蘇省研究生創(chuàng)新計(jì)劃2007年資助項(xiàng)目

2009-11-15；

2010-01-30

蘆 笙，教授，博士；電話(huà)：0511-84407569；E-mail: lusheng119@yahoo.com.cn

(編輯 楊 華)