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電沉積3D 打印圖案化微結構工藝優(yōu)化與應用

2023-01-04 11:50:06蘇曉冰吳蒙華賈衛(wèi)平于昇元
電加工與模具 2022年6期
關鍵詞:沉積層陰極陽極

蘇曉冰,吳蒙華,賈衛(wèi)平,于昇元,劉 濤

( 大連大學機械工程學院,遼寧大連 116622 )

隨著產(chǎn)品集成度不斷提高,微納尺度的圖案化結構在微納傳感器、集成電路、微流控器件等新興科技領域有著巨大的產(chǎn)業(yè)需求[1-3]。 而對于微納器件的制造,傳統(tǒng)的機械加工已難以適用。

基于離散/堆積成形思想的3D 打印技術,能夠直接從計算機生成的三維CAD 模型中逐層生產(chǎn)形狀復雜的功能性部件[4-6]。 傳統(tǒng)3D 打印在制造過程中需將材料完全熔化,使得成形零件具有較高的熱殘余應力[7-9];而電沉積3D 打印技術作為一種非熱工藝,沉積過程中的殘余應力極低,且材料以離子尺度進行轉移,理論上可達到納米級別的加工精度[10],在圖案化結構制備方面受到廣泛關注。Sundaram等[5]利用了尖錐狀微型電極,結合實驗系統(tǒng)內(nèi)置的CNC 系統(tǒng)與電化學體系, 根據(jù)相應CAD 模型逐層定域性電沉積,加工出由30 層沉積層疊加而成的C形微結構。 馬昊鵬等[11]以針筒和銅棒為陽極主體結構, 運用基于電化學沉積法的金屬3D 打印技術逐層堆疊平面微圖案,并研究了堆疊層數(shù)對制品形貌的影響。

目前國內(nèi)外學者對電化學3D 打印技術的研究尚處于對工藝制造可行性、工藝參數(shù)影響效果的初期探索階段,而關于成形件內(nèi)部微觀組織的研究卻鮮有報道。 本文將定域性電沉積技術與3D 打印技術相結合,采用尖錐狀探針式微型陽極逐層掃描的方式,在銅片上制備簡單圖案化結構,探究了陽極掃描速率、加工電壓對成形件微觀形貌與打印層厚的影響,分析了優(yōu)化參數(shù)下成形件的形狀精度及內(nèi)部沉積層的結合情況,為高精度、高性能金屬微構件的打印提供了工藝基礎。

1 電沉積3D 打印成形原理

圖1 是電沉積3D 打印的成形原理。 微米級尖端半徑的尖錐狀探針式鉑絲陽極以“直寫”的方式在陰極表面沿設定軌跡作掃描運動,陽極尖端向陰極基底輸送微柱狀的電流束。 首層打印時,陽極尖端與陰極基底正對微區(qū)域內(nèi)的Ni2+在電場作用下發(fā)生還原反應[12],形成不帶電的吸附原子;吸附原子在陰極表面經(jīng)擴散遷移到生長點(晶體臺階、位錯、空穴等缺陷位置處[12])或多個新生原子相互聚集形成臨界晶核并穩(wěn)定存在; 伴隨著微陽極的水平移動,吸附原子在原有晶體表面延續(xù)生長或不斷形成新晶粒并持續(xù)生長,同層的相鄰晶粒在水平方向上以相互搭接的方式平鋪成層,將高度粘附的鎳質(zhì)薄層沉積到陰極表面。 在完成首層打印后,微陽極會抬升一個成形層厚,然后以首層沉積層為陰極,在首層沉積層的晶面上再次形核長大或在沉積層的缺陷位置處延續(xù)生長;隨著微陽極的水平移動,便會在首層沉積層的基礎上又形成新的晶體沉積層,伴隨著微陽極的如此往復運動,沉積層由下至上堆疊成形,直至成形件高度達到設定值。

圖1 電沉積3D 打印成形原理圖

2 實驗部分

2.1 電沉積3D 打印平臺

實驗用電沉積3D 打印平臺如圖2 所示, 包括高頻智能電鍍電源、微型陽極、精密三坐標移動平臺、 電解液循環(huán)系統(tǒng)、PMC 步進電機控制器、PC 電腦、示波器和電沉積槽等。 實驗時,將三組移動精度均為0.1 μm 的步進電機組合成一個三坐標移動平臺, 通過設置專用程序使微陽極在水平面內(nèi)移動,完成一層打印后, 微陽極自動抬升一個層厚的距離,繼續(xù)做水平掃描運動,如此循環(huán)往復,直至構件完全成形。

圖2 電沉積3D 打印平臺

2.2 電解液組分與工藝條件

表1 是實驗采用的電解液組分及工藝參數(shù),同一參數(shù)下制備3 個樣件。

表1 電解液組分及工藝參數(shù)

2.3 陽極前處理

利用2000# 砂紙將微型陽極(鉑絲)末端打磨成半徑小于5 μm 的尖錐狀, 然后裝上導流管使陽極尖端伸出導流管末端約300 μm, 并使鉑絲與導流管末端形成一個同心圓環(huán)縫隙。 微型陽極的構成見圖3。

圖3 微型陽極示意圖

2.4 形貌檢測

采用數(shù)字顯微鏡檢測實驗樣件整體輪廓與尺寸數(shù)據(jù);采用掃描電子顯微鏡觀測實驗樣件表面與橫斷面的微觀形貌。

3 結果與討論

3.1 3D 打印平面線條微觀形貌

3.1.1 陽極掃描速率對線條微觀形貌的影響

圖4 是不同陽極掃描速率下打印出的鎳線條光學圖像及局部SEM 形貌, 其中固定打印層數(shù)50層、電壓為4.6 V,選擇陽極掃描速率分別為5、15、25 μm/s。 由圖可見,不同的陽極掃描速率下線條的整體輪廓及微觀形貌存在一定的變化。 當掃描速率為5 μm/s 時,線條直線度不佳,線條兩側與陰極基底之間無明顯界限, 并且線條兩側顆粒狀凸起明顯,線條表面晶粒粗大,表面均勻性與平整性較差;當掃描速率為15 μm/s 時,線條直線度有所改善,線條兩側凸起弱化, 此時線條表面晶粒尺寸明顯變小,表面平整性得到一定程度的改善;當掃描速率繼續(xù)增大到25 μm/s 時,線條擁有良好的直線度,兩側幾乎無顆粒狀凸起,線條表面晶粒之間已無明顯界限,表面較為平整、致密。

圖4 不同陽極掃描速率下的鎳線條微觀形貌

綜上所述,隨著陽極掃描速率的增大,相對加強了對陰極和溶液界面處的沖擊與機械活化作用,有效減小了擴散層厚度, 更有利于獲得較為平整、致密的沉積層;此外,提高陽極掃描速率亦能起到細化晶粒的效果[13]。當陽極掃描速率較小時,電場在陽極移動路徑上的各沉積位置作用時間較長,為晶核的長大提供了足夠的時間與能量,導致線條表面晶粒粗大;隨著掃描速率的逐漸加快,電場的作用時間變短,已成核晶粒來不及長大時電場就已經(jīng)離開,等陽極再次掃描過該區(qū)域時,又會生成無數(shù)個新晶核,擠占了原有晶核的生長空間,晶粒得以細化,使得線條表面愈發(fā)平整、致密。

3.1.2 加工電壓對線條微觀形貌的影響

圖5 是不同加工電壓下打印出的鎳線條光學圖像及局部SEM 形貌, 其中固定打印層數(shù)為100層、 陽極掃描速率 25 μm/s, 選擇電壓分別為 4.2、4.4、4.6 和4.8 V。由圖可見,不同電壓下打印線條的整體輪廓及微觀形貌均有較為明顯的變化。 當電壓為4.2 V 時,打印的線條輪廓不清晰、直線度較差,線條兩側與陰極基底界限模糊,線條表面由粗大的胞狀顆粒構成,顆粒之間界限明顯,表面平整性較差;隨著電壓的增大至4.4~4.6 V,打印的線條逐漸趨于均勻、平滑,擁有良好的直線度,線條兩側與陰極基底間有較為明顯的界限,線條表面晶粒粒徑逐漸減小,粗大的胞狀顆粒近乎消失,晶粒之間結合緊密,表面平整性得到逐步改善;當電壓繼續(xù)繼續(xù)增大至4.8 V 時, 線條雖擁有較好的直線度且立體性良好,線條的高度方向均勻性較差,表面出現(xiàn)樹枝晶狀生長,呈現(xiàn)出類似頂峰、溝壑結構,表面凹凸不平。

圖5 不同加工電壓下的鎳線條微觀形貌

綜上所述,電壓對線條的整體輪廓及微觀形貌有著明顯的影響。 這是由于當電壓較小時,作用于陰極的電流密度較低,電沉積主要以電鍍的形式發(fā)生,因此線條的輪廓不清晰,并且由于結晶過電位較小,鎳晶的成核速率小于晶核的生長速率,導致線條表面晶粒粗大;隨著電壓的增大,作用于陰極的電流密度增大,使得結晶過電位不斷升高,晶核形成的臨界尺寸不斷縮小,成核速度加快,生成的晶核數(shù)量越來越多,因此沉積層越來越致密;如果電壓過大時, 電流密度接近或超過極限電流密度,液相傳質(zhì)不能及時有效地補充在陰極被消耗掉的金屬陽離子,致使陰極附近存在金屬離子濃度較低的電解層,在電極與溶液界面處產(chǎn)生濃差極化并形成擴散層,使得陰極過電位迅速增大,此時局部電流密度可能更高,從而導致樹枝晶狀沉積與析氫反應的發(fā)生[14],使得線條在高度方向上的均勻性變差。

3.2 3D 打印平面線條沉積層厚度

3.2.1 陽極掃描速率對沉積層厚度的影響

對圖4 中的實驗樣件,取成形高度與打印層數(shù)的比值作為沉積層厚度,得到不同陽極掃描速率對沉積層厚度的影響曲線如圖6 所示。 可見隨著陽極掃描速率的提高, 成形沉積層的厚度將不斷減小,這是由于隨著陽極掃描速率的不斷增大,陽極作用于各個位置的時間都會相應減少,在作用于電沉積發(fā)生區(qū)域的電流密度不發(fā)生改變的情況下,沉積時間的減少將致使金屬的沉積量相應減少,進而使得成形沉積層的厚度不斷減小。

圖6 不同陽極掃描速率對沉積層厚度的影響曲線

3.2.2 加工電壓對沉積層厚度的影響

對圖5 中的實驗樣件,得到不同加工電壓對沉積層厚度的影響曲線如圖7 所示。 可見隨著電壓的增大,成形沉積層的厚度呈現(xiàn)先線性增加后急劇增大的趨勢。 這是由于隨著電壓的增大,電流密度增大,微區(qū)域內(nèi)Ni2+被還原成Ni 原子的沉積速率也在加快[4,14],進而使得沉積層厚度不斷增加;但是,當電壓繼續(xù)增大到4.8 V 后, 中心區(qū)域局部電流密度過大,導致中心區(qū)域沉積層層狀生長減弱,空間生長的趨勢不斷增強[15],使得中心區(qū)域快速形成凸起,在尖端效應的作用下,電場線分布愈發(fā)集中于沉積中心區(qū)域,使得Ni2+的還原速率驟增,進而導致沉積層厚度急劇增大。

圖7 不同電壓對沉積層厚度的影響曲線

通過以陽極掃描速率、加工電壓對成形件微觀形貌與打印層厚影響規(guī)律的分析,得出了電沉積3D打印的最優(yōu)工藝參數(shù)為陽極掃描速率25 μm/s、電壓為4.6 V。

3.3 打印質(zhì)量分析

利用數(shù)字顯微鏡進行逐層掃描,將每層圖像組合成三維模型,采用優(yōu)化后的工藝參數(shù)制備的典型線條三維模型如圖8 所示,橫斷面整體輪廓與沉積層結合位置、成形件與陰極基底結合位置處的局部微觀組織如圖9 所示。

圖8 典型線條的三維形貌圖

圖9 樣件橫斷面與局部微觀組織

由圖8 可見,采用優(yōu)化工藝參數(shù)制備的線條高度方向上均勻性良好, 線條擁有較好的直線度,線條兩側與陰極基底之間界限明顯,并且線條兩側界限輪廓的平行度較好,這表明在優(yōu)化工藝參數(shù)下所制備的成形件擁有較高的形狀精度。

由圖9a 可見, 成形件橫斷面在空間上呈現(xiàn)中間高、兩側逐漸走低的趨勢,局部區(qū)域為拋物線的輪廓形狀,其表面平整、致密。 采用掃描電鏡觀察橫斷面沉積層結合位置處的微觀組織,可以看出各沉積層之間結合緊密, 層與層之間沒有明顯界限,表明層與層之間實現(xiàn)了良好結合。由圖9b 可見,Cu 與Ni 在結合處未發(fā)現(xiàn)明顯孔隙, 界限已不明顯,Ni 沉積層與Cu 片結合處的致密性良好, 表明在優(yōu)化工藝參數(shù)條件下,成形件與陰極基底形成良好結合。

3.4 圖案化結構樣件制備

圖10 是采用優(yōu)化后的工藝參數(shù)打印出的鎳質(zhì)簡單圖案化微結構, 打印的圖案化結構線條平滑、均勻,經(jīng)測算線條寬度約 380 μm、高度約 97 μm,線條在高度方向上均勻性良好, 沉積層的厚度約為0.97 μm,線條兩側與陰極基底有著明顯的界限,圖案化結構整體擁有較好的成形質(zhì)量。

圖10 鎳質(zhì)簡單圖案化結構

4 結論

本文探究了不同工藝參數(shù)對電沉積3D 打印成形件微觀形貌及沉積層厚度的影響規(guī)律,得出如下結論:

(1)隨著陽極掃描速率從 5 μm/s 增至 25 μm/s,成形沉積層的厚度由3.5 μm 減至1.1 μm, 成形件表面的均勻性與微觀結構致密性將得到逐步改善。

(2)隨著加工電壓從4.2 V 增至4.8 V,沉積層厚度則由0.4 μm 近似線性增大到1.1 μm 后驟增至2.1 μm,成形件的直線度、表面均勻性及致密性呈現(xiàn)出先提高后降低的趨勢,并逐漸轉變?yōu)闃渲钌L。

(3)通過實驗論證,得到優(yōu)化后的最佳工藝參數(shù)為陽極掃描速率25 μm/s、 加工電壓為4.6 V,在此工藝參數(shù)下制備出的成形件擁有較高的形狀精度, 沉積層的厚度僅0.97 μm, 且內(nèi)部各沉積層之間、沉積層與陰極基底之間均結合良好,能夠成功打印出擁有較好成形質(zhì)量的平面螺旋結構。

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