徐 浩，杜兆波，鐘翔宇，黃 偉

(國(guó)防科技大學(xué) 空天科學(xué)學(xué)院，長(zhǎng)沙 410073)

0 引 言

激波/邊界層干擾(SBLWI)是超聲速飛行器中較為普遍存在的一種耦合現(xiàn)象。超聲速飛行器表面或者內(nèi)流場(chǎng)存在物面角度急劇變化時(shí)，高速來(lái)流會(huì)被迫劇烈壓縮，產(chǎn)生激波，由于粘性效應(yīng)在壁面生成的邊界層和激波相遇，便會(huì)發(fā)生二者相互作用的現(xiàn)象，即激波/邊界層干擾現(xiàn)象。其典型示意如圖1所示。

圖1 激波/邊界層相互作用示意圖[2]

激波/邊界層干擾使得飛行器內(nèi)外流場(chǎng)發(fā)生畸變、 氣流的粘性耗散增加，引起巨大的能量損失。另外，激波/邊界層干擾所帶來(lái)的流動(dòng)分離會(huì)使飛行器的阻力增加、 機(jī)翼發(fā)生顫振，嚴(yán)重時(shí)可導(dǎo)致飛行器失速，造成嚴(yán)重后果。在進(jìn)氣道中，激波/邊界層干擾使得有效進(jìn)氣面積減小，嚴(yán)重時(shí)將導(dǎo)致進(jìn)氣道不起動(dòng)，干擾進(jìn)氣道的正常工作。因此探尋對(duì)激波/邊界層干擾進(jìn)行有效控制的方法是十分必要的。

由于超聲速飛行器在實(shí)際工作時(shí)流場(chǎng)中的激波/邊界層干擾現(xiàn)象難以避免，故而對(duì)激波/邊界層干擾現(xiàn)象進(jìn)行控制的方法應(yīng)運(yùn)而生，這些方法統(tǒng)稱(chēng)為流動(dòng)控制技術(shù)。根據(jù)流動(dòng)控制方法是否使得非目標(biāo)流場(chǎng)和目標(biāo)流場(chǎng)發(fā)生任何質(zhì)量、 能量的交換，將現(xiàn)有的控制手段分為被動(dòng)流動(dòng)控制和主動(dòng)流動(dòng)控制兩大類(lèi)。被動(dòng)控制方法包括壁面鼓包、 渦流發(fā)生器、 邊界層抽吸等，這類(lèi)控制方法只能在設(shè)計(jì)工況下發(fā)揮出較優(yōu)異的性能，在飛行器偏離設(shè)計(jì)工況的情況下，被動(dòng)控制方法往往會(huì)使飛行器的性能下降。主動(dòng)流動(dòng)控制方法可根據(jù)飛行器所處實(shí)際工況進(jìn)行適當(dāng)?shù)恼{(diào)整，適應(yīng)性更強(qiáng)，可顯著提高飛行器性能。當(dāng)前研究較廣泛的主動(dòng)流動(dòng)控制方法包括等離子體流動(dòng)控制、 磁流體流動(dòng)控制、 微射流流動(dòng)控制等。其中，微射流控制方法，也被稱(chēng)為微射流渦流發(fā)生器控制方法, 是當(dāng)前研究激波/邊界層干擾控制的熱點(diǎn)。微射流控制方法中的微射流孔徑通常在1 mm以?xún)?nèi)，可有效減少應(yīng)力集中，并且可根據(jù)實(shí)際情況選擇打開(kāi)或者關(guān)閉，關(guān)閉時(shí)可避免附加阻力的影響，保證飛行器的氣動(dòng)性能。目前通過(guò)數(shù)值模擬已經(jīng)驗(yàn)證了微射流陣列在超聲速混壓式進(jìn)氣道中對(duì)激波/邊界層干擾進(jìn)行控制的有效性。微射流控制激波/邊界層干擾的相關(guān)實(shí)驗(yàn)也已廣泛開(kāi)展，在低壓渦輪葉片實(shí)驗(yàn)中，微射流陣列對(duì)邊界層分離控制的有效性已經(jīng)得到了驗(yàn)證。因此, 本文總結(jié)了近年來(lái)微射流流動(dòng)控制方法在激波/邊界層控制方面的研究進(jìn)展，以期為相關(guān)研究提供參考。

微射流渦流發(fā)生器通過(guò)射流與來(lái)流相互作用，產(chǎn)生不穩(wěn)定的流向旋轉(zhuǎn)渦對(duì)，將靠近邊界層的高能流與邊界層內(nèi)的低能流摻混，提高了邊界層內(nèi)流體抵抗逆壓梯度的能力，減少了分離。同時(shí)，微射流在來(lái)流作用下產(chǎn)生弓形激波，可有效減弱下游分離激波的強(qiáng)度。微射流渦流發(fā)生器的這些特點(diǎn)使得其在超聲速飛行器的內(nèi)外流流動(dòng)控制中具有廣泛的適用性。

多年來(lái)，學(xué)者們對(duì)微射流渦流發(fā)生器控制激波/邊界層干擾進(jìn)行了廣泛的數(shù)值模擬和實(shí)驗(yàn)研究。根據(jù)實(shí)際研究中微射流控制范圍廣度的不同以及微射流在流場(chǎng)中的形態(tài)是否可變，可將微射流控制方法分為單孔微射流控制和多孔微射流陣列控制兩大類(lèi)。

1 單孔微射流流動(dòng)控制研究進(jìn)展

關(guān)于單孔微射流渦流發(fā)生器對(duì)激波/邊界層干擾現(xiàn)象控制的研究較少，且主要集中在對(duì)射流噴注壓比、 射流速度等影響因素的研究。

薛大文等基于大渦模擬的方法，選擇了高階TCD/WENO混合格式，設(shè)定來(lái)流馬赫數(shù)為2.5，對(duì)加裝激波發(fā)生器的平板進(jìn)行了激波/邊界層干擾控制的模擬。結(jié)果表明，微射流的引入可將總壓恢復(fù)系數(shù)提升至94.5%，比無(wú)控情況提高了8.7%。圖2為有、 無(wú)控制下對(duì)稱(chēng)面上的密度等高線圖。微射流產(chǎn)生馬蹄渦、 入射激波、 剪切渦等結(jié)構(gòu)，這些結(jié)構(gòu)相互作用，致使激波向下壓縮尾流，各渦流相互作用，產(chǎn)生更多的小渦結(jié)構(gòu)，使得邊界層內(nèi)低能流動(dòng)量增加，從而抑制了流動(dòng)分離。圖3為射流與超聲速來(lái)流作用下的尾流渦結(jié)構(gòu)。

圖2 對(duì)稱(chēng)面上的密度等高線圖[25]

2019年，Liu等以來(lái)流馬赫數(shù)2.9、 壓縮拐角24°為基礎(chǔ)模型，探究了不同噴注總壓下垂直來(lái)流方向的微射流渦流發(fā)生器對(duì)SWBLI的控制效果。結(jié)果表明，微射流作用下，分離激波強(qiáng)度減弱，微射流與來(lái)流耦合形成正、 反向旋轉(zhuǎn)渦對(duì)，將高能流注入到邊界層內(nèi)，增強(qiáng)了邊界層抵抗逆壓梯度的能力。研究表明，射流總壓與來(lái)流總壓比值為0.6的情況下，拐角分離區(qū)的面積被減少了將近70%，激波強(qiáng)度被削弱了近12%，激波交匯點(diǎn)和壁面的距離縮短了近37%。圖4為微射流渦流發(fā)生器作用下產(chǎn)生的流向渦對(duì)結(jié)構(gòu)。

圖3 超聲速來(lái)流與射流作用下的尾流渦結(jié)構(gòu)[25]

圖4 微射流渦流發(fā)生器作用下產(chǎn)生的流向渦對(duì)結(jié)構(gòu)[26]

Pour等的研究表明，使用直徑為1 mm的圓孔微射流，提高微射流的速度可以使渦流強(qiáng)度顯著增加，渦流的總耗散處于距離微射流更遠(yuǎn)的位置，較低射流速度下，主要渦流在離微射流很近的位置形成，形成過(guò)程不易觀察。圖5為渦流耗散與速度等值線圖。

一方面，關(guān)于單孔微射流控制激波/邊界層干擾的機(jī)理性研究尚不夠深入，另一方面，單孔微射流的研究集中在數(shù)值模擬方面，如何有效地開(kāi)展相關(guān)實(shí)驗(yàn)值得思考。

2 微射流陣列流動(dòng)控制研究進(jìn)展

單個(gè)微射流渦流發(fā)生器在流場(chǎng)控制中只能控制某一特定區(qū)域的流動(dòng)，要想在流場(chǎng)中產(chǎn)生平行或者聚集的形態(tài)，擴(kuò)大微射流渦流發(fā)生器的控制范圍, 就必須增加微射流渦流發(fā)生器的個(gè)數(shù)，達(dá)到多個(gè)或者多排微射流渦流發(fā)生器聯(lián)合產(chǎn)生更多流向渦流以獲得控制流場(chǎng)的更優(yōu)效果。針對(duì)影響微射流陣列控制激波/邊界層干擾效果的各種因素，學(xué)者進(jìn)行了廣泛的研究，主要集中在微射流孔型、 孔徑、 微射流與來(lái)流總壓比、 微射流間距、 微射流傾斜角與俯仰角等方面。

圖5 渦流耗散與速度等值線圖[27]

2.1 孔型影響

Huang等的研究表明，對(duì)于延展向?qū)R排列的三個(gè)矩形微射流陣列，較大的縱橫比有利于射流近流場(chǎng)的混合，減少射流上游產(chǎn)生的回流區(qū)大小，射流與來(lái)流的壓比和射流孔間距都對(duì)流場(chǎng)的混合有所影響。Scialabba也進(jìn)行了關(guān)于微射流孔型對(duì)激波/邊界層干擾控制的相關(guān)實(shí)驗(yàn)研究，微射流孔型主要包括橢圓型、 三角形、 不同縱橫比的矩形等，射流孔型如圖6所示。結(jié)果顯示，尖角面向來(lái)流且為30°的三角形微射流陣列減小了下游的分離區(qū)面積，同時(shí)非圓形射流孔增加了流場(chǎng)的復(fù)雜性。

圖6 非圓形微射流孔示意圖[30]

當(dāng)前，微射流孔型對(duì)激波/邊界層干擾控制效果的研究相對(duì)較少，不同孔型的控制優(yōu)劣尚有待挖掘。

2.2 孔徑影響

Szwaba對(duì)單排微射流陣列進(jìn)行了實(shí)驗(yàn)研究，其實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，微射流孔徑和邊界層厚度的比值應(yīng)匹配適當(dāng)，以達(dá)到對(duì)分離區(qū)域的最佳控制效果。隨后，Szwaba重點(diǎn)研究了相同注入壓比情況下微射流直徑對(duì)激波/邊界層干擾引起的邊界層分離區(qū)域的控制效果。結(jié)果表明，射流的引入，增強(qiáng)了高能流與邊界層內(nèi)近壁面低能流的摻混，減小了位移厚度、 邊界層厚度和分離區(qū)大小，減弱了分離趨勢(shì)，微射流陣列作用下，分離區(qū)的面積減少了60%。同時(shí)表明，在相同條件下，較大直徑的微射流陣列對(duì)邊界層內(nèi)低能流速度的增加更有利，較小直徑的微射流陣列更有利于增加分離區(qū)的穩(wěn)定性，使激波的振蕩和強(qiáng)度顯著降低。

綜合分析，小尺寸的微射流孔在激波/邊界層干擾控制方面更具優(yōu)勢(shì)。

2.3 射流與來(lái)流總壓比影響

Souverein等采用實(shí)驗(yàn)方法(微射流孔直徑為0.8 mm，射流間距為9 mm)探究了延展向排列的連續(xù)微射流陣列于上游噴射對(duì)激波/湍流邊界層作用的影響。結(jié)果表明，微射流陣列對(duì)激波/邊界層相互作用的影響，表現(xiàn)在對(duì)平均速度剖面以及積分參數(shù)的修改，每個(gè)與展向呈45°傾角的微射流孔都會(huì)產(chǎn)生一對(duì)反向旋轉(zhuǎn)渦對(duì)，遠(yuǎn)離壁面的渦流強(qiáng)度要大于靠近壁面的渦流強(qiáng)度，且二者的旋轉(zhuǎn)速率均較小，對(duì)邊界層的擾動(dòng)有限。微射流陣列的引入可有效減小分離區(qū)的大小，但不能完全抑制分離區(qū)的產(chǎn)生。圖7為微射流陣列產(chǎn)生的渦流角速度等值面與縱向速度等值線圖。

圖7 角速度等值面與縱向速度等值線圖示[33]

Ali等采用裝有48個(gè)間隔為1.7 mm、 孔直徑為0.4 mm的單排微射流陣列，對(duì)拐角為24°的壓縮拐角進(jìn)行了來(lái)流馬赫數(shù)為2的實(shí)驗(yàn)研究，對(duì)斜坡在激波/邊界層干擾作用下產(chǎn)生的分離進(jìn)行了波動(dòng)壓力測(cè)量和流油可視化。實(shí)驗(yàn)裝置如圖8所示。

圖8 斜坡微射流陣列實(shí)驗(yàn)裝置[34]

結(jié)果表明，微射流陣列在超聲速橫流中產(chǎn)生斜激波，斜激波強(qiáng)度隨微射流總壓力與來(lái)流滯止壓力比值的增大而增強(qiáng)，致使分離激波前的馬赫數(shù)降低，從而使分離激波減弱。微射流陣列控制下，分離激波下游壁面平均壓力最多減少了7%，斜坡壁面平均壓力最多減少了25%，同時(shí)，分離區(qū)的壁壓波動(dòng)顯著減少，間歇區(qū)域面積也顯著減少，達(dá)40%以上。實(shí)驗(yàn)壓力譜表明，上游壁面和斜坡的穩(wěn)定性顯著增強(qiáng)。圖9為不同射流壓比下微射流陣列控制效果紋影圖。

圖9 不同壓比下微射流陣列控制效果紋影圖[34]

同年，Kumar等在超聲速橫流中運(yùn)行高動(dòng)量穩(wěn)定微射流陣列(射流孔直徑為0.4 mm)產(chǎn)生了單道和多道斜激波。圖10為多排微射流陣列及激波示意圖。多排微射流作用下，可根據(jù)微射流總壓與來(lái)流滯止壓力比值使微射流陣列產(chǎn)生的斜激波呈平行或者聚集的形態(tài)，多道斜激波可依次使來(lái)流減速，有效緩解強(qiáng)壓縮下的不穩(wěn)定。圖11為微射流陣列不同壓比下產(chǎn)生的集束激波實(shí)驗(yàn)紋影圖。作為激波強(qiáng)度量度的激波角隨著微射流總壓與來(lái)流總壓的比率()的增加而增加。微射流作用下產(chǎn)生的大量渦流，增強(qiáng)了混合能力。Gerdroodbary等的研究也得到了相同的結(jié)果。

圖10 微射流陣列及激波示意圖[28]

Ramaswamy等對(duì)單排微射流陣列的研究表明，微射流與來(lái)流總壓比過(guò)小, 引起的射流與射流之間的相互作用較弱; 射流與來(lái)流總壓比過(guò)大, 引起的較大射流阻塞作用會(huì)導(dǎo)致控制效果的減弱。因此, 必須選取合適的微射流與來(lái)流總壓比, 才能獲得最佳的激波/邊界層控制效果。圖12為不同微射流與來(lái)流總壓比下的流油可視化，虛線表示微射流陣列誘導(dǎo)的激波。另外，在較低的射流壓力下，將兩排微射流陣列以鋸齒狀的形式排列, 可提高控制效果。

圖11 雙微射流陣列產(chǎn)生的集束激波實(shí)驗(yàn)紋影圖[28]

圖12 不同微射流與來(lái)流壓比下的流油可視化[37]

合理的射流與來(lái)流總壓比有利于增強(qiáng)對(duì)激波/邊界層干擾現(xiàn)象的控制效果。另外，通過(guò)調(diào)節(jié)射流與來(lái)流總壓比，改變射流產(chǎn)生的斜激波形態(tài)，可滿(mǎn)足不同條件下的研究需求。

2.4 射流間距影響

Gerdroodbary等的研究表明，微射流陣列中射流孔間距與射流下游的混合效果密切相關(guān)。射流間距的縮小使得微射流陣列的控制效果傾向于單孔射流，隨著間距的增大，射流所處的空間自由度增大，單個(gè)微射流在流向上的發(fā)展更加自然，可以產(chǎn)生更多的反向旋轉(zhuǎn)渦對(duì)(CVP)。該研究對(duì)微射流陣列射流間距的相關(guān)控制方法研究具有一定的參考價(jià)值。

Ali等對(duì)不同間距微射流陣列的研究表明，微射流注入主流后，會(huì)形成一對(duì)流向反向旋轉(zhuǎn)渦對(duì)(CVP)。展向間距較大的微射流陣列，旋轉(zhuǎn)渦對(duì)存在相干性，并表現(xiàn)出與單個(gè)射流相似的三維特性。隨著射流孔間距的減小，這種三維特性逐漸向二維特性轉(zhuǎn)變，CVP的強(qiáng)度逐漸減弱。研究認(rèn)為，較大間距的微射流陣列適合需要更大渦量的場(chǎng)景，如超聲速燃燒室； 較小間距的微射流陣列更傾向于提供更加均勻的壓縮氣流。微射流陣列在來(lái)流作用下產(chǎn)生的激波角與射流壓力呈線性變化，不同微射流陣列產(chǎn)生的激波角與動(dòng)量系數(shù)成比例。Chidambaranathan等的研究表明，隨著微射流展向間距的減小，微射流之間存在相互作用，使得控制效果惡化。

Ramaswamy等通過(guò)實(shí)驗(yàn)研究了沿展向傾斜45°的單排圓孔微射流間距對(duì)流動(dòng)分離的控制效果。結(jié)果表明，射流的注入引起分離氣泡產(chǎn)生強(qiáng)烈的波紋，提高了分離區(qū)抵抗逆壓梯度的能力，射流孔間距與邊界層厚度呈一定比例時(shí)的控制效果最好。射流產(chǎn)生的流向渦流在沿微射流孔中心線方向?qū)Ψ蛛x區(qū)的控制效果要優(yōu)于對(duì)兩射流間分離區(qū)的控制效果。圖13為沿微射流孔中心線和微射流間兩跨度位置流速圖，白色虛線為零速度等高線。在文獻(xiàn)[37]中，通過(guò)實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn)，微射流間距的改變導(dǎo)致射流間的相互作用關(guān)系發(fā)生變化，改變了射流產(chǎn)生的弓形激波的強(qiáng)度，同時(shí)影響到射流產(chǎn)生的流向渦流。隨著射流間距的增加，激波引起分離區(qū)的面積先增加后減少，如圖14所示。在文獻(xiàn)[44]研究中發(fā)現(xiàn)，微射流產(chǎn)生的渦流強(qiáng)烈地改變了激波/邊界層干擾區(qū)域的平均流動(dòng)組織結(jié)構(gòu)，將接近二維的分離線轉(zhuǎn)變?yōu)椴y分離線，射流孔間距為0.76倍邊界層厚度時(shí)的控制流動(dòng)分離效果最好，微射流的注入會(huì)產(chǎn)生高剪切應(yīng)力，增強(qiáng)了湍流混合度。圖15為基線情況下和微射流不同展向位置的雷諾剪切應(yīng)力分布，紅色虛線表示零速度輪廓。隨后，Ramaswamy等采用相同布局的微射流陣列對(duì)不同角度壓縮拐角產(chǎn)生的分離區(qū)的控制效果進(jìn)行了研究，表明相同微射流陣列對(duì)更大拐角角度下的分離區(qū)的控制效果更佳。

圖13 微射流陣列不同位置流速圖[43]

圖14 不同射流間距與無(wú)微射流陣列控制下的流油可視化[37]

圖15 基線情況下和微射流不同展向位置的雷諾剪切應(yīng)力分布[44]

Huang的研究表明，對(duì)于沿流向?qū)R排列的三個(gè)圓形微射流陣列，射流孔之間的間距控制在足夠短的情況下，微射流陣列在來(lái)流作用產(chǎn)生的激波強(qiáng)度最強(qiáng)，微射流的穿透深度最大，另外，射流所產(chǎn)生的分離區(qū)隨著射流間距的增大而增大。

Pour 等對(duì)雙孔微射流渦流的相互作用情況進(jìn)行了研究。結(jié)果表明，改變射流孔徑與射流孔間距的比值和兩孔射流方向，可使雙孔微射流產(chǎn)生的兩個(gè)渦流以合并、 相互強(qiáng)干擾、 相互弱干擾的情況影響流場(chǎng)。射流間距小且兩孔同向的情況下，兩個(gè)渦流合并，渦流強(qiáng)度顯著增強(qiáng)，對(duì)流動(dòng)的影響更大，消散的時(shí)間更長(zhǎng)。射流間距小且兩孔反向的情況下，兩個(gè)渦流旋轉(zhuǎn)方向相反且對(duì)稱(chēng)，兩股渦流先靠近后遠(yuǎn)離，存在相互干擾的渦流之間的速度變化劇烈。射流間距大且兩孔同向的情況下，兩個(gè)渦流相互干擾較弱，但是二者的長(zhǎng)程差有所差異。

Gahlot等對(duì)包含了2個(gè)、 4個(gè)或5個(gè)微射流孔的陣列進(jìn)行了進(jìn)氣道內(nèi)流場(chǎng)控制的數(shù)值仿真研究，微射流陣列被安置在壓縮斜坡表面的特定位置。在微射流注入壓力保持恒定的情況下，三種射流方案下的總壓恢復(fù)系數(shù)均有所提高，其中包含了4個(gè)微射流孔的陣列對(duì)混壓式進(jìn)氣道的流場(chǎng)改善效果最好。這與射流孔之間的間距關(guān)系密切，研究認(rèn)為，只有射流孔間距和射流壓力相匹配的情況下，單排微射流陣列對(duì)流場(chǎng)中的激波引起的分離控制效果才能達(dá)到最優(yōu)。圖16為微射流陣列對(duì)進(jìn)氣道斜坡表面的影響圖示。另外，適當(dāng)組合微射流陣列射流孔的數(shù)量和射流壓力，可以提升混壓式進(jìn)氣道在不同工況下的性能。

圖16 微射流陣列對(duì)進(jìn)氣道斜坡表面的影響[50]

通過(guò)改變微射流孔間距，微射流陣列所產(chǎn)生渦流的形態(tài)發(fā)生變化，使得射流形態(tài)表現(xiàn)出二維、 三維特性，可實(shí)現(xiàn)對(duì)激波/邊界層干擾控制效果的動(dòng)態(tài)調(diào)節(jié)。

2.5 射流傾斜角與俯仰角影響

Chidambaranathan等使用了22°激波發(fā)生器，在來(lái)流馬赫數(shù)為3.5的條件下，基于傾斜角、 俯仰角的變化研究了單排微射流陣列對(duì)邊界層分離的控制效果。發(fā)現(xiàn)微射流陣列在傾斜角為180°、 俯仰角為45°時(shí)，微射流陣列控制分離的效果最好。圖17為微射流陣列傾斜角和俯仰角示意圖。

圖17 微射流陣列傾斜角α和俯仰角β示意圖[51]

Verma等針對(duì)微射流陣列在激波/邊界層干擾控制方面做了系列研究，結(jié)果顯示射流傾斜角、 俯仰角以及射流孔間距對(duì)邊界層分離區(qū)大小以及分離區(qū)范圍內(nèi)激波不穩(wěn)定程度的控制效果緊密相關(guān)。隨著俯仰角的增大，微射流前的弓形激波強(qiáng)度隨之增大，射流與射流間距過(guò)小(間距為微射流孔徑3.6倍時(shí))會(huì)導(dǎo)致射流與射流間的相互作用加大，不利于減小分離區(qū)的大小。

綜合分析，大傾斜角下的微射流陣列對(duì)分離區(qū)的控制效果更加明顯，合理搭配射流傾斜角、 俯仰角以及射流孔間距，可有效增強(qiáng)對(duì)分離區(qū)的控制效果，同時(shí)使得射流壓力在低于自由來(lái)流總壓的情況下也能有效地執(zhí)行，降低對(duì)能量的需求。

3 總結(jié)與展望

本文對(duì)激波/邊界層干擾現(xiàn)象和相關(guān)控制方法進(jìn)行了回顧，重點(diǎn)梳理了近年來(lái)微射流流動(dòng)控制方法在激波/邊界層干擾方面的研究進(jìn)展，包括單孔微射流以及微射流陣列對(duì)激波/邊界層干擾進(jìn)行控制的相關(guān)研究進(jìn)展，對(duì)影響微射流控制激波/邊界層干擾效果的相關(guān)因素進(jìn)行了細(xì)致分析。

綜合分析研究人員在微射流控制激波/邊界層干擾方面進(jìn)行的實(shí)驗(yàn)和數(shù)值模擬研究，可以得到如下結(jié)論：

(1) 目前對(duì)單孔微射流的設(shè)計(jì)參數(shù)優(yōu)化的研究較少，不同設(shè)計(jì)參數(shù)下的單孔微射流對(duì)激波/邊界層干擾的控制機(jī)理尚有待挖掘。

(2) 關(guān)于單孔微射流控制激波/邊界層干擾的研究主要集中在數(shù)值模擬方面，實(shí)驗(yàn)研究較少，未來(lái)可重點(diǎn)考慮如何合理有效地開(kāi)展相關(guān)實(shí)驗(yàn)。

(3) 相對(duì)于平行射流，對(duì)集束情況下微射流陣列的研究也是一個(gè)重要方向，對(duì)相關(guān)微射流陣列在流場(chǎng)中的控制效果有待進(jìn)一步研究。

(4) 目前，無(wú)論是單孔微射流還是微射流陣列，對(duì)于高馬赫數(shù)下的激波/邊界層的控制效果研究較為匱乏，未來(lái)可在此方面進(jìn)行深入研究。