姚玉坤 張 濤 程 晨 諶 勛,3 劉江來,3,4 孟 月,3 錢志成司 琳 王思廣 武蒙蒙
1(上海交通大學(xué)物理與天文學(xué)院粒子與核物理研究所上海市粒子物理和宇宙學(xué)重點(diǎn)實(shí)驗室粒子天體物理與宇宙學(xué)教育部重點(diǎn)實(shí)驗室 上海200240)
2(中山大學(xué)物理學(xué)院 廣州510275)
3(上海交通大學(xué)四川研究院 成都610000)
4(上海交通大學(xué)李政道研究所 上海200240)
5(北京大學(xué)物理學(xué)院核物理與核技術(shù)國家重點(diǎn)實(shí)驗室及高能物理研究中心 北京100871)
在稀有衰變物理實(shí)驗中(如暗物質(zhì)和中微子等實(shí)驗),真實(shí)信號率低,精確測量及有效控制放射性本底可以增加探測暗物質(zhì)和中微子的潛力。放射性本底來源主要有三類:第一類為高能宇宙射線和太陽中微子;第二類為實(shí)驗大廳建筑材料和空氣中放射性氣體衰變所產(chǎn)生的射線;第三類為探測器自身材料中放射性核素衰變所產(chǎn)生的射線。為抑制第一類本底,通常把實(shí)驗室建在極深的地下,用巖石屏蔽高能宇宙射線(太陽中微子無法屏蔽)。對于第二類本底,在探測器的外圍,設(shè)計足夠厚度的純凈屏蔽材料。第三類本底的抑制方法是選擇低放射性材料用來搭建探測器。例如,PandaX-4T 是噸量級的氣液兩相氙探測器,位于中國錦屏山地下實(shí)驗室B2 廳,實(shí)驗室上方覆蓋2.4 km的巖層以屏蔽宇宙射線[1-5],實(shí)驗室的繆子通量僅約3.53×10-10cm-2·s-1[6]。探測器外覆蓋有直徑約10 m、高度約11.5 m 的純水屏蔽體,屏蔽巖石、混凝土和空氣氡所產(chǎn)生的放射性本底。搭建探測器的材料,如光電倍增管和探測器內(nèi)外罐等,含天然長壽命放射性核素(238U、235U、232Th、40K)和核反應(yīng)產(chǎn)生的人造放射性核素(60Co、137Cs)。這些核素衰變時產(chǎn)生的射線會在暗物質(zhì)能區(qū)產(chǎn)生假信號。探測器材料靠近靶物質(zhì)是實(shí)驗本底的主要來源之一。需要精確測量探測器材料的放射性,方便做材料甄選和本底理解。
在材料放射性測量技術(shù)中,高純鍺γ譜儀(Highpurity Germanium Spectroscopy,HPGe)能量分辨率高,對樣品的幾何形狀沒有特殊要求,不需要對樣品進(jìn)行破壞性加工,是應(yīng)用廣泛的放射性測量技術(shù)之一。它的基本原理是:材料中的放射性核素衰變產(chǎn)生的γ 射線,γ 射線在穿過鍺晶體的靈敏區(qū)時,沉積能量并在鍺晶體內(nèi)產(chǎn)生電子-空穴對;電子-空穴對在外電場的作用下,向不同方向漂移,最終被電子學(xué)收集,收集到的電荷量正比于γ射線沉積的能量;分析一定時間內(nèi)探測到的γ 事例數(shù),結(jié)合模擬探測效率及分支比,可計算出材料中放射性核素的活度[7]。
PandaX 合作組在錦屏實(shí)驗室搭建有兩套高純鍺γ 譜儀JP1 和JP2,表1 列出具體型號、分辨率、晶體尺寸及相對效率。最低可探測活度(Minimum Detectable Activity,MDA)表征探測器靈敏度,是衡量高純鍺γ 譜儀性能的重要指標(biāo)。MDA 的計算公式如下[8]:
表1 PandaX 高純鍺γ譜儀型號及分辨率Table 1 Model and energy resolution of PandaX HPGe
式中:σb是本底的統(tǒng)計誤差;T是測量的取數(shù)時間;ε是探測效率(本文效率均包含核素γ 衰變模式的分支比)。
高純鍺γ 譜儀靈敏度由對γ 射線的探測效率和自身本底水平?jīng)Q定,并和取數(shù)時間有關(guān)。圖1 是假設(shè)直徑10 cm、厚度1 cm的特氟龍樣品,在不同測量時間下針對不同放射性核素的靈敏度隨時間變化曲線。放射性在靈敏度以下的樣品,高純鍺γ 譜儀只能用統(tǒng)計方法,給出材料放射性的上限值,無法給出精確結(jié)果。隨著暗物質(zhì)及中微子實(shí)驗對本底要求更加嚴(yán)格,需要提升高純鍺γ譜儀的靈敏度,精確測量材料放射性,為暗物質(zhì)及中微子實(shí)驗挑選出更低本底的材料。為此,我們計劃對靈敏度較好的JP1 進(jìn)行升級。一方面,另外購買一臺高純鍺γ 譜儀JP3(相關(guān)信息見表1)和JP1 搭配形成對頭放置的雙探頭高純鍺γ 譜儀(Gamma Spectroscopy system with Dual HPGe detectors,GS-DHPGe),提升探測效率??紤]到JP1是P型同軸高純鍺γ譜儀,鍺晶體厚度達(dá)104 mm,對高能γ 射線效率高,JP2 是寬能高純鍺γ譜儀,靈敏區(qū)面積達(dá)3 800 mm2,在低能區(qū)有較高的探測效率,暗物質(zhì)和中微子實(shí)驗所需測量核素的γ衰變能區(qū)在100~3 000 keV,因此JP3 選擇P 型同軸高純鍺γ譜儀。另一方面,分析JP1的現(xiàn)有本底的主要來源,在新系統(tǒng)中抑制相應(yīng)本底。通過提升效率和降低本底兩種方法,提升高純鍺γ 譜儀的靈敏度。
圖1 PandaX高純鍺γ譜儀靈敏度,以10 d本底數(shù)據(jù)計算靈敏度 (a)JP1,(b)JP2Fig.1 MDA of two PandaX HPGe detectors,10 d background data is used to calculate the MDA (a)JP1,(b)JP2
雙探頭高純鍺γ譜儀系統(tǒng)設(shè)計和操作流程如圖2 所示。系統(tǒng)主要由20 cm 厚的鉛屏蔽體、10 cm 厚的銅屏蔽體、真空測量腔室和兩臺高純鍺γ譜儀JP1和JP3組成。系統(tǒng)有兩個特點(diǎn):一是位于上方的JP3位置可以調(diào)整,使兩個探頭都可以緊貼不同高度的樣品,獲得最大探測效率;二是10 cm厚的銅屏蔽體及真空腔體是由整塊銅加工而成,避免焊接及縫隙導(dǎo)致的本底上升,屏蔽外來γ本底的同時,保持腔體的真空度至帕量級以減少空氣氡本底。JP3 的冷指上焊接有密封法蘭[9],通過不銹鋼真空波紋管連接銅腔體。這能在調(diào)整JP3 探頭位置的同時,保持腔體內(nèi)的真空。探頭位置調(diào)整機(jī)構(gòu)具有限位和精確測量距離的功能,用機(jī)械件手搖轉(zhuǎn)輪控制。10 cm 厚的銅腔體做成空心的整體,把20 cm 厚的鉛隔離在外,最小化真空腔體的表面積和體積,提高真空度以改進(jìn)腔體的除氡效果。鉛磚含放射性同位素210Pb,可產(chǎn)生能量46.5 keV 的γ 射線,此設(shè)計也可以防止鉛磚產(chǎn)生的粉塵飄進(jìn)測量腔室增加高純鍺γ譜儀本底。銅腔體一個側(cè)邊設(shè)計成可分離的銅門,以方便更換樣品。銅門與銅主體通過氟膠圈密封,水平方向最大可移動50 cm,用電動機(jī)械件控制。數(shù)據(jù)讀取系統(tǒng)采用ORTEC DSPEC 502A 雙通道多道分析儀,可同時讀取兩臺高純鍺γ譜儀的數(shù)據(jù)。
圖2 雙探頭高純鍺γ譜儀(a)、銅門密封方式(b)、操作流程(c)Fig.2 GS-DHPGe(a),sealing method of copper shield(b),operation process(c)
JP1 的鍺晶體直徑94 mm、厚度104 mm,JP3 的鍺晶體直徑85 mm、厚度30 mm。用基于Geant4 的模擬軟件BambooMC 做蒙特卡羅模擬[10-12],對直徑5 cm、高度1 cm 的塑料樣品,效率提升效果和能量的關(guān)系如圖3所示,X軸是γ射線能量,Y軸是雙探頭高純鍺γ譜儀相對JP1的效率提升因子。在γ射線能量小于500 keV 的低能區(qū),效率提升接近于兩倍。對能量較高的γ射線,也有約1.4倍的效率提升。在低能區(qū),30 mm 厚的鍺晶體可以很好地沉積γ 射線的全部能量,和JP1的94 mm厚度區(qū)別不大,效率主要由高純鍺γ譜儀對樣品所張立體角決定。在高能區(qū),晶體厚度對效率的影響變得顯著,鍺晶體越厚,高能γ射線越容易產(chǎn)生全能峰。影響暗物質(zhì)和中微子實(shí)驗本底的主要放射性核素238U和232Th在低能區(qū)都有分支比較高的γ衰變,用來提升高純鍺γ譜儀的靈敏度。
圖3 雙探頭高純鍺γ譜儀效率提升和能量關(guān)系Fig.3 Efficiency improved factor of GS-DHPGe νs.energy
在提升探測效率的同時,如果不對本底進(jìn)行抑制,因為鍺晶體質(zhì)量增加,則新系統(tǒng)的本底相比單個探頭相應(yīng)增加。供應(yīng)商根據(jù)經(jīng)驗估計,在其他條件不變時,高純鍺γ 譜儀的本底大致正比于鍺晶體質(zhì)量。為降低新系統(tǒng)的本底,需對JP1 的現(xiàn)有本底進(jìn)行分析,確定本底貢獻(xiàn)中的主要部分,在新系統(tǒng)中作相應(yīng)抑制。圖4(a)畫出JP1 的主要結(jié)構(gòu),S1 是5 cm厚不銹鋼真空殼,S2 是20 cm 厚鉛屏蔽層,S3 是10 cm 厚銅屏蔽層,S4 是內(nèi)測量腔室,S5 是JP1 探頭。最外層的不銹鋼外殼厚度5 mm,保持包括20 cm厚的鉛在內(nèi)的外腔體真空度在10 Pa以下,以除去空氣中的氡氣;第二層是厚度20 cm 的鉛屏蔽層,屏蔽巖石和空氣中的放射性本底;第三層是10 cm 厚的銅屏蔽層,屏蔽鉛的放射性同位素210Pb產(chǎn)生的放射性本底;第四層是20 cm(長)×20 cm(寬)×35 cm(高)的測量腔體;第五層是高純鍺γ 譜儀探頭。根據(jù)氡計數(shù)率隨時間衰減速率和錦屏實(shí)驗室的空氣氡氣濃度,可推算平衡時腔體內(nèi)氡氣濃度約0.4 Bq·m-3,JP1的探頭和樣品均在腔體中。
JP1 的本底來源,可以按照這幾層結(jié)構(gòu)進(jìn)行分類。JP1所用的銅屏蔽材料放射性,在屏蔽體搭建的時候有經(jīng)過測量[13]。根據(jù)這些材料的放射性,用Geant4做蒙特卡羅模擬,對比模擬數(shù)據(jù)和實(shí)際數(shù)據(jù),結(jié)果如圖4(b)和表2 所示。表2 中,M1、M2 和M3分別代表10 cm 的銅屏蔽體材料、腔體殘余氡氣和探頭封裝材料這三層結(jié)構(gòu),上限值對應(yīng)90%的置信度。由此可以判斷,本底中最高的核素210Pb 來源于探頭本身的封裝材料表面吸附的氡子體;60Co和40K主要來源于銅屏蔽體;232Th 在上限值內(nèi)銅的貢獻(xiàn)不可忽略;238U在測量上限值內(nèi),銅和腔體所殘余的氡氣貢獻(xiàn)均不可忽略。根據(jù)上述結(jié)果,在新系統(tǒng)中采取相應(yīng)抑制方法。對238U 和232Th,在銅腔體制造前用電感耦合等離子體質(zhì)譜法(Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry,ICP-MS)[14]精確測量,控制銅材料的放射性。對腔體內(nèi)的殘余氡氣,如上文所言,設(shè)計屏蔽體時減小腔體的體積和表面積,預(yù)計可以使腔室達(dá)到干泵的極限真空度1 Pa 量級,提升除氡效果。結(jié)合上述本底抑制手段,可計算新系統(tǒng)的預(yù)期本底。
圖4 JP1主要結(jié)構(gòu)(a)和各結(jié)構(gòu)本底貢獻(xiàn)(b)Fig.4 Main parts of JP1 setup(a),background contribution of each part(b)
表2 JP1放射性本底來源Table 2 Background source of JP1
結(jié)合探測效率提升和放射性本底抑制,可以評估新系統(tǒng)的預(yù)期靈敏度如表3所示。在計算新系統(tǒng)預(yù)期本底時,根據(jù)銅的放射性測量結(jié)果和新系統(tǒng)預(yù)期所能達(dá)到的真空度,我們假設(shè)銅的放射性整體有10倍的降低,腔體的氡氣濃度有20倍的降低??梢娦孪到y(tǒng)對不同放射性核素,靈敏度有2~4 倍不同程度的提升效果。表3中所模擬的樣品是直徑10 cm、厚度1 cm的塑料材料,測量時間為7 d。
表3 雙探頭高純鍺γ譜儀預(yù)期靈敏度Table 3 Expected MDA of GS-DHPGe
能量為Ei的γ 射線在高純鍺γ 譜儀的多道分析儀中全能峰附近的計數(shù)分布如式(2):
式中:N是γ 射線的全能峰總計數(shù);Ci是能量Ei所對應(yīng)的道址;σi是高斯分布的標(biāo)準(zhǔn)差;q0和q1是一次多項式的兩個常數(shù),由本底和其他能量的γ 射線在鍺晶體內(nèi)的康普頓散射產(chǎn)生;k和b是表征能量E和道址C的線性關(guān)系的常數(shù)。
采用232Th 和40K 作為刻度源擬合道址和能量的關(guān)系。232Th/40K 是氧化釷/氯化鉀粉末封裝在直徑8 mm、高度11 mm、厚度1 mm 的不銹鋼圓柱腔體。圖5(a)是用放射源228Th 對JP1 刻度時,對應(yīng)的能量583 keV 的γ 射線在多道分析儀中的計數(shù),用式(2)第一式擬合的結(jié)果,散點(diǎn)是高純鍺γ譜儀實(shí)際數(shù)據(jù),直線是擬合結(jié)果;圖5(b)是放射源對JP1 刻度時得到的特征γ能量和ADC道址的對應(yīng)關(guān)系,用式(2)中第二式擬合的結(jié)果,對單探頭高純鍺γ譜儀,樣品活度A的計算如式(3):
圖5 JP1能譜圖及擬合結(jié)果(a)、能量和ADC道址的線性關(guān)系(b)Fig.5 Energy spectrum of JP1 and fit result(a),linear relationship between energy and ADC channel(b)
式中:Ns和Nb分別是樣品和本底計數(shù);Ts和Tb分別是樣品和本底取數(shù)時間;ε是高純鍺γ譜儀對樣品的探測效率。
與單探頭高純鍺γ譜儀不同,對雙探頭高純鍺γ譜儀,不論是在取本底還是測樣品時,一個探頭的固有放射性,會在第二個探頭產(chǎn)生能量沉積。樣品正放在兩個探頭中間,會對這種相互影響產(chǎn)生屏蔽效應(yīng),如圖6所示。在樣品面積和厚度都較大,且探頭本身放射性不可忽略時,需要考慮樣品的屏蔽效應(yīng)對本底的影響,以正確計算樣品放射性。
圖6 樣品對探頭產(chǎn)生的固有本底的屏蔽效應(yīng)Fig.6 Shielding effect of sample on intrinsic background created by HPGe
高純鍺γ 譜儀的本底主要由銅屏蔽體、腔體氡氣和探頭本身三部分貢獻(xiàn)。以JP1 為例,在本底取數(shù)時間Tb內(nèi),某個特征γ 峰的本底計數(shù)由式(4)描述。在d1、d2、d3和d44個距離各取一次本底,假設(shè)取數(shù)時間相等,結(jié)果寫作矩陣形式如式(5)所示。式(5)可在取本底的過程中可計算出ACu、ARn、AJP3和BJP1變量。對JP3應(yīng)用相同的方法,又可得到銅屏蔽體活度ACu、腔體氡氣活度ARn、高純鍺γ 譜儀JP1 活度AJP1和JP3 中不隨距離變化的項BJP3。對比由JP1和JP3 計算出的ACu和ARn是否一致,可檢驗蒙特卡羅模擬的準(zhǔn)確性。
式中:ACu、ARn和AJP3分別是銅屏蔽體、腔體氡氣和高純鍺γ譜儀JP3的放射性活度;εCu、εRn和εJP3是對應(yīng)的能量沉積效率,可由蒙特卡羅模擬得到;BJP1是除此之外的其他貢獻(xiàn),和距離無關(guān)。
精確計算ACu、ARn、AJP3、BJP1后,可計算在放置樣品時任意距離的本底。設(shè)樣品厚度為d,JP1 和JP3的探頭距離和樣品厚度相等,樣品取數(shù)時間是Ts,則JP1 的在樣品取數(shù)時間內(nèi)的本底計數(shù)如式(6)所示,JP1 的樣品計數(shù)NsJP1(d)如式(7)所示,對JP3 用相同的方法后,可得樣品活度計算公式(8)。如果探頭的放射性低,即探頭間的相互影響可忽略時,則式(8)和式(3)應(yīng)給出一致的結(jié)果。
式中:ε'JP3(d)用帶撇號表示放置樣品時,JP3 的放射性在JP1上的沉積效率;A是樣品活度;εJP1是樣品在JP1上的能量沉積效率;NsJP3和NbJP3分別是取數(shù)時JP3的樣品計數(shù)和計算出的本底計數(shù);εJP3是樣品在JP3上的能量沉積效率。
一些核素衰變會發(fā)生不同能量的γ 級聯(lián)衰變。圖7 是60Co 的衰變圖示,圖7 中60Ni 的幾個激發(fā)態(tài)、半衰期是皮秒量級。對于時間分辨率是微秒、納秒量級的探測器,對這一類衰變可以認(rèn)為,一旦原子核發(fā)生衰變,則它在探測器的采樣周期內(nèi),兩步級聯(lián)衰變同時發(fā)生。另外,由概率統(tǒng)計可計算,活度為A的樣品,在探測器的時間分辨率ΔT內(nèi),發(fā)生衰變的原子核個數(shù)和幾率計算如式(9)所示。舉例計算,對半衰期為3 d、活度1 Bq、時間分辨率1 μs的情形,一次衰變和大于等于兩次衰變的概率之比是1.6×105。因此,一旦高純鍺γ譜儀同時探測到了兩個γ事例的全能峰,更大概率是來自于同一個原子核的衰變,而不是來自于兩次或者兩次以上的原子核衰變。單次衰變釋放多個γ 事例,不同的γ 事例同時在高純鍺γ譜儀內(nèi)沉積能量,這種情況稱為γ-γ 符合(γ-γ coincidence)。用放射源60Co 對高純鍺γ 譜儀刻度時,可以看到,2 505 keV 存在明顯的全能峰。但60Co 衰變過程中,產(chǎn)生能量2 505 keV 的γ 射線的分支比只有2.0×10-8。因此,2 505 keV 的全能峰是1 173 keV 和1 332 keV 兩個γ 射線,同時在高純鍺γ譜儀內(nèi)沉積能量造成的,即發(fā)生了γ-γ符合[15-16]。
圖7 60Co衰變和γ-γ符合事例探測Fig.7 60Co decay scheme and γ-γ coincidence
式中:k是衰變的原子核個數(shù);λ是相應(yīng)的衰變常數(shù)。
對單探頭高純鍺γ譜儀,γ-γ符合事例的探測,只能通過觀察能譜中這些γ射線的能量之和的位置是否出現(xiàn)全能峰進(jìn)行判斷,基本上不能用這種方式測量低本底材料放射性。對雙探頭高純鍺γ 譜儀,對電子學(xué)讀出設(shè)備做改進(jìn),除了分別給出兩臺高純鍺γ譜儀的單獨(dú)能譜,還給出兩臺高純鍺γ 譜儀同時捕捉到的γ 事例的二維能譜。γ-γ 符合事例的探測效率,比單探頭有所提升。兩臺高純鍺γ 譜儀是相互獨(dú)立的,因而二維能譜的計數(shù)分布如式(10)所示[15]。用60Co點(diǎn)源做模擬,得到的二維能譜如圖8所示。
圖8 60Co γ-γ符合事例模擬Fig.8 γ-γ coincidence simulation of60Co
式中:N是γ-γ符合的事例數(shù);μ1和μ2分別是在JP1和JP3同時沉積的γ能量分布平均值;σ1和σ2是兩臺高純鍺γ 譜儀的能量分辨率;q0、q1、q2是擬合常數(shù),由本底和其他能量的γ射線的康普頓散射產(chǎn)生。
任何類似60Co有完整衰變且有兩個及以上高分支比的γ衰變模式的核素,都可以用γ-γ符合方式測量放射性。高分支比γ 級聯(lián)衰變模式越多,且能量在高純鍺γ 譜儀能量沉積效率較大的能區(qū)(40~1 000 keV)內(nèi),γ-γ 符合效應(yīng)越顯著。暗物質(zhì)和中微子實(shí)驗所關(guān)心的核素中,232Th-late 中的208Tl 存在583 keV 和2 615 keV 的γ 級 聯(lián) 衰 變、238U-late 中的214Bi 存 在609 keV 和768.30 keV、609 keV 和1 120 keV 兩種γ 級聯(lián)衰變。由于要求兩個高純鍺γ譜儀同時探測到,外來本底距離探頭較遠(yuǎn),很難滿足這個條件,因而外來本底被抑制,這是用γ-γ 符合方式測量核素放射性的優(yōu)點(diǎn)。在取數(shù)時間內(nèi),γ-γ符合計數(shù)方法的靈敏度取Feldman-Cousin方法[17]在觀測值和本底均為0 時,90%置信度的上限值。模擬直徑1 mm、高度1 mm 的小樣品,對不同的取數(shù)時間,針對單探頭γ譜儀、雙探頭γ譜儀非γ-γ符合以及γ-γ符合的計數(shù)方法,靈敏度對比如圖9 所示,X軸是測量時間,Y軸是樣品放射性活度的上限值。以目前探測器的本底水平,雙探頭γ 譜儀γ-γ 符合計數(shù)方法,在20 d 左右的取數(shù)時間相比于單探頭γ 譜儀靈敏度開始提升,進(jìn)一步加長取數(shù)時間靈敏度提升約2倍。針對雙探頭γ譜儀,γ-γ符合計數(shù)方法比非γ-γ符合計數(shù)方法在長時間取數(shù)更有靈敏度優(yōu)勢。在某些特殊測量情況,如液體樣品或非高真空器件,不能對測量腔體抽真空時,214Bi的本底將上升約20倍,但γ-γ 符合計數(shù)方法有效抑制外來本底,這時γ-γ 符合方式在2 d取數(shù)時間即可達(dá)到更好靈敏度。
圖9 低放射性樣品三種測量方法在90%置信度的上限值 (a)60Co,(b)208Tl,(c)214BiFig.9 γ-γ upper limits@90%C.L.for low radioactive sample using three measurement methods (a)60Co,(b)208Tl,(c)214Bi
結(jié)合效率提升和本底抑制,雙探頭高純鍺γ 譜儀靈敏度和單探頭相比,對不同核素預(yù)期可以有2~4倍的提升。對雙探頭高純鍺γ譜儀,分析了樣品對探頭彼此間的本底相互影響,得到了樣品活度的計算公式。對存在γ級聯(lián)衰變的核素,雙探頭高純鍺γ譜儀可以利用γ-γ符合方式測量材料放射性,這種方式對尺度較小的樣品,靈敏度隨測量時間有顯著提升。
作者貢獻(xiàn)聲明姚玉坤:負(fù)責(zé)JP1 靈敏度升級的可行性分析、JP3的型號選擇并參與屏蔽體設(shè)計;張濤:負(fù)責(zé)屏蔽體的設(shè)計、招標(biāo)采購工作;孟月、王思廣:負(fù)責(zé)JP1靈敏度升級的研究指導(dǎo)、經(jīng)費(fèi)籌措、場地規(guī)劃等統(tǒng)籌工作;程晨、諶勛、劉江來、錢志成、司琳、武蒙蒙:負(fù)責(zé)Geant4蒙特卡羅模擬軟件的代碼撰寫和調(diào)試、JP1和JP2的樣品測量和性能參數(shù)刻度等工作。