梁 宸, 張懷亮, 彭 玲
(中南大學(xué) 機(jī)電工程學(xué)院 ,湖南 長沙 410083)
照明光源是圖像采集系統(tǒng)中關(guān)鍵的組成部分之一,其作用是利用待測物的光學(xué)特性,使光線以一種有利于突出目標(biāo)物特征的方式進(jìn)入相機(jī),便于提取目標(biāo)的有用信息,簡化圖像處理難度,提高檢測效率與準(zhǔn)確率。
目前關(guān)于間接照明光源的設(shè)計(jì)主要集中在兩個方面,第一種是透鏡自由曲面的設(shè)計(jì),另一種是反射曲面的設(shè)計(jì)。關(guān)于透鏡設(shè)計(jì)方面,上海大學(xué)的吳仍茂等人根據(jù)能量守恒定律建立偏微分方程,求解得到一種用于光學(xué)光刻中的軸外照射的自由形狀透鏡陣列[1]。浙江大學(xué)的陳恩果等人使用單純形算法對單個透鏡照明系統(tǒng)結(jié)構(gòu)進(jìn)行了優(yōu)化,使投影面照度均勻度高達(dá)95 %[2]。南方科技大學(xué)的王凱等人提出一種改進(jìn)的三維不連續(xù)自由曲面透鏡設(shè)計(jì)方法,可有效提高隧道內(nèi)的光照均勻度[3]。在光源的反射曲面設(shè)計(jì)方面,解放軍電子工程學(xué)院的李登高等人根據(jù)圓形目標(biāo)面的旋轉(zhuǎn)對稱結(jié)構(gòu)建立自由曲面的偏微分方程,采用遺傳算法對曲面輪廓進(jìn)行結(jié)構(gòu)優(yōu)化,目標(biāo)面照度均勻度提高了35 %,能量利用率提高了11 %,同時利用偏微分方程建立了一種反饋優(yōu)化設(shè)計(jì)方法,優(yōu)化設(shè)計(jì)后照度均勻性提高了近30 %[4,5]。復(fù)旦大學(xué)的劉正權(quán)利用微分方程進(jìn)行數(shù)值計(jì)算,照度均勻,且能量利用率可高達(dá)94 %[6]。江南大學(xué)的高培麗等人利用有限元法,根據(jù)微分幾何理論建立自由曲面反射面數(shù)學(xué)模型并求解出曲面模型數(shù)值解,目標(biāo)區(qū)域照度均勻度可高達(dá)80 %[7]。
現(xiàn)階段對旋轉(zhuǎn)對稱的自由曲面設(shè)計(jì)方法較多,且大多集中在點(diǎn)光源或者旋轉(zhuǎn)對稱的陣列光源設(shè)計(jì)上,對非旋轉(zhuǎn)對稱結(jié)構(gòu)的光源設(shè)計(jì)相對較少。這些方法大多建立在光源處于中心位置的基礎(chǔ)上,但應(yīng)用在機(jī)器視覺上大多會對相機(jī)形成遮擋,影響圖像采集系統(tǒng)正常工作。
照明系統(tǒng)的最終目的是為了使待測目標(biāo)獲得明亮且均勻的光照條件,使圖像采集系統(tǒng)可以得到便于處理的清晰圖像。因此,目標(biāo)物上的照度值及照度均勻性就是照明設(shè)計(jì)中最重要的兩個因素。
LED條形光源是由陣列點(diǎn)光源構(gòu)成的,單個LED點(diǎn)光源大多都能滿足光源方向一致性這個特點(diǎn),當(dāng)LED芯片的光束角等于120°時,其光線在各個方向上均勻發(fā)射,此時光源可以視為朗伯體,光源的光強(qiáng)分布滿足朗伯余弦定理。絕大多數(shù)光源并非理想朗伯體,但其光強(qiáng)分布曲線具有連續(xù)性,可看作近朗伯體,其光強(qiáng)分布公式可以表示為
I(θ)=I0cosmθ
(1)
式中I(θ)為光源在發(fā)射角度為θ方向上的光強(qiáng),I0為中心光強(qiáng),即發(fā)射角度為0,m為與LED輻射半功率角θ1/2有關(guān)的輻射模式數(shù)。
忽略光源在傳播過程中的能量損失,單個點(diǎn)光源在微小目標(biāo)面上的照度計(jì)算公式為
式中E為照度,I為點(diǎn)光源光軸方向的光強(qiáng),θ為光源到目標(biāo)微元面的光線與光軸之間夾角,α為微面元法線與光線之間的夾角,l為光源與微元面的距離。
以目標(biāo)面上照度最小值與照度均值的比值作為照度均勻度來衡量照明系統(tǒng)的照明質(zhì)量。即
采用4個條形光源作為基礎(chǔ)光源構(gòu)建反射曲面設(shè)計(jì)間接照明光源,并假設(shè)反射曲面材料為完全漫反射材料,反射曲面設(shè)計(jì)為軸對稱曲面,對稱軸分別為x軸和y軸。建立如圖1所示坐標(biāo)系。圖1中α為光軸與z軸之間的夾角,β為反射面法線與光線之間的夾角,β1為目標(biāo)面法線與反射光線之間的夾角,θ為光線與光軸之間的夾角,θ1為反射光線與反射面法線之間的夾角。
圖1 空間坐標(biāo)系
對反射曲面離散化,將x坐標(biāo)及y坐標(biāo)分別等分為n份和m份,即x1,x2,…,xn,y1,y2,…,ym。
光源對應(yīng)反射面照度為
式中 (xa,ya,za)為反射曲面P上的某點(diǎn)a的坐標(biāo)值,d為光源點(diǎn)之間的距離,θi,j為第(i,j)個點(diǎn)光源發(fā)出的到達(dá)目標(biāo)點(diǎn)a光線與光軸的夾角。
采用4個對稱光源作為基礎(chǔ)光源,對應(yīng)反射面照度為
Ep(xa,ya,za)=Epa(xa,ya,za)+Epa(-xa,ya,za)+
Epa(ya,xa,za)+Epa(-ya,xa,za)
(5)
目標(biāo)面上某點(diǎn)照度為
(6)
式中l(wèi)為反射點(diǎn)與目標(biāo)面上某點(diǎn)t的距離。BRDF為雙向反射分布照度函數(shù),用于描述反射光線的分布。
將反射曲面離散為m×n塊,得到目標(biāo)面上某點(diǎn)t的照度公式為
式中θ為曲面法線與反射點(diǎn)與目標(biāo)點(diǎn)連線的夾角。
為獲得曲面結(jié)構(gòu)參數(shù),將反射曲面和目標(biāo)面分別分割為眾多離散面,反射曲面分別關(guān)于x軸、y軸以及對角線對稱,求解出反射曲面上x方向的離散點(diǎn)坐標(biāo)值即可根據(jù)反射面的對稱結(jié)構(gòu)構(gòu)建反射曲面。當(dāng)目標(biāo)面照度均勻度最大時即為最佳反射曲面1。在目標(biāo)面上均勻選取p個點(diǎn),采用遺傳算法求解,目標(biāo)函數(shù)為
式中E為目標(biāo)點(diǎn)照度,可由式(7)獲得。自變量為曲面坐標(biāo),根據(jù)曲面的軸對稱結(jié)構(gòu),將三維曲面轉(zhuǎn)換為二維曲線,在x-z平面上,當(dāng)x>0時,等間距設(shè)置n個點(diǎn),坐標(biāo)值分別為(x1,0,z1),(x2,0,z2),…,(xn,0,zn),x坐標(biāo)變量為初始點(diǎn)x1及間距d,z坐標(biāo)變量為z1,z2,…,zn,共n+2個變量。條形光源長度為0.5 m,高度為0.3 m,傾角為45°。由光源幾何關(guān)系設(shè)定邊界條件
設(shè)置初始種群大小為NP=50,交叉概率Pc=0.8,變異概率Pm=0.001,終止條件為遺傳代數(shù)G=500或適應(yīng)度函數(shù)值在連續(xù)30代中無變化,對光源結(jié)構(gòu)參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化求解,結(jié)果如圖2所示。
圖2 優(yōu)化結(jié)果
通過遺傳算法優(yōu)化計(jì)算結(jié)果獲得最優(yōu)反射曲面,此時目標(biāo)面的照度均勻度為95.45 %,光源能量利用率為6.23 %。
根據(jù)曲面求解結(jié)果,條形光源高度設(shè)置為0.3 m,傾角為45°,光源實(shí)體模型如圖3所示。
圖3 實(shí)體模型
設(shè)置反射面為漫反射面,目標(biāo)面為完全吸收表面,仿真結(jié)果如圖4所示。
圖4 光源輻照度分析圖
左圖為光源在目標(biāo)面上的照度分布圖,右圖為x軸和y軸方向的照度分布圖,由左圖可以看出目標(biāo)面上照度近似均勻,右圖可以看出目標(biāo)面上中間區(qū)域與四周區(qū)域相比照度值偏小。目標(biāo)區(qū)域整體照度均勻度為88.36 %,與數(shù)值計(jì)算值相比降低約7.12 %,能量利用率為4.97 %,與數(shù)值計(jì)算值相比降低1.26 %,這是由于數(shù)值計(jì)算過程中以部
分點(diǎn)作為樣本獲取照度均值即最小值存在一定偏差,照明過程中存在一定能量損失造成的,照度分布情況與數(shù)值計(jì)算結(jié)果基本一致,可以驗(yàn)證算法的正確性。
本文利用非成像光學(xué)理論,設(shè)計(jì)了間接照明光源。建立了光源設(shè)計(jì)的數(shù)學(xué)模型,并求解獲得了最佳反射曲面參數(shù),該方法獲得目標(biāo)面照度均勻度高達(dá)95.45 %,能量利用率為6.23 %,并仿真驗(yàn)證了該算法的正確性。