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環(huán)形贗諧勢中二次諧波研究

2021-11-03 11:49:40張糧成李學(xué)超
關(guān)鍵詞:間隔光學(xué)量子

張糧成,李學(xué)超

(安徽理工大學(xué) 力學(xué)與光電物理學(xué)院,安徽 淮南 232001)

關(guān)鍵字:二次諧波產(chǎn)生;迭代方法;密度矩陣;波函數(shù);藍移

20 世紀(jì)60 年代,紅寶石激光束實驗證實了二次諧波產(chǎn)生效應(yīng),打開了非線性光學(xué)的研究[1]。之后半導(dǎo)體材料非線性光學(xué)特性相繼展開,各種人工微結(jié)構(gòu)制造得到了重大突破[2]。20 世紀(jì)90 年代,光學(xué)參量放大器以及脈沖光學(xué)參量振蕩器得以制造[3-4]。當(dāng)今,非線性光學(xué)在光學(xué)領(lǐng)域中逐漸成為成熟的分支[5]。

納米制造技術(shù)的不斷發(fā)展,現(xiàn)實中可以制造各種各樣的低維半導(dǎo)體量子系統(tǒng),從此非線性光學(xué)效應(yīng)逐漸成為學(xué)者研究的熱點,例如二次諧波產(chǎn)生、光吸收、光整流、折射率變化、三次諧波產(chǎn)生[6]。在光學(xué)特性和非線性光學(xué)特性中,半導(dǎo)體材料與體材料具有顯著不同的特點[7-8]。低維半導(dǎo)體量子系統(tǒng)進一步提高非線性光學(xué)特性[9-10]。在非線性光學(xué)特性中,改變量子系統(tǒng)的形狀與大小和增加外場(電場、磁場、強激光場等等)是大量研究者普遍使用的方法。例如:Khordad 研究位置相關(guān)的有效質(zhì)量對立方量子點的線性和非線性光學(xué)性質(zhì)的影響[11];Vaseghi 等研究通過外部因素進行控制球形量子點的光學(xué)整流和三次諧波生成[12];Bejan等研究在電場和偏心率影響下橢圓量子環(huán)的光學(xué)性質(zhì)[13];Kilica 等討論二維量子偽點系統(tǒng)中激光誘導(dǎo)的非線性光整流[14];Martínez-Orozco 等討論磁場對摻雜GaAs 量子阱中非線性光學(xué)整流和二次諧波和三次諧波的影響[15];Mahrsia 等研究在靜水壓力和溫度作用下,具有潤濕層的垂直耦合透鏡狀I(lǐng)nAs/GaAs 量子點中的非線性光整流[16]等等?;诘途S半導(dǎo)體量子系統(tǒng)的成功制造,人們開展了許多光電器件應(yīng)用研究,例如高速光電調(diào)制器、半導(dǎo)體光學(xué)放大器等等。本文研究了環(huán)形贗諧勢中二次諧波產(chǎn)生。

1 相關(guān)理論

1.1 理論模型

定態(tài)薛定諤方程可以寫成

其中:ψ是系統(tǒng)波函數(shù);E是系統(tǒng)能量。在有效近似質(zhì)量的條件下,三維環(huán)形贗諧勢系統(tǒng)中哈密頓量用球極坐標(biāo)表示如下[16-17]

其中:m*是電子的有效質(zhì)量;r,θ和φ分別代表著球極坐標(biāo)中的模長、極角和方位角;? 是普朗克常量。環(huán)形贗諧勢V(r)如下

式中:V0代表著化學(xué)勢;r0是贗諧勢的零點;β是環(huán)形勢的無量綱參數(shù)。

在球坐標(biāo)下的定態(tài)薛定諤方程可以表示為

上式中波函數(shù)ψ(r,θ,φ)可以分離變量寫為

方程式(5)代入到方程式(4)中,可以得到下面的三個方程

其中,

公式(7)和公式(8)中參量l′和m分別表示角動量和磁量子數(shù)。

這里的L,a和b表達式如下

公式(6)的歸一化解為

這里A的表達式為

式中l(wèi)′和ξ未必是整數(shù),但它們要滿足一個條件:其差一定是整數(shù),方程式(8)的歸一化解為

方程式(9)歸一化波函數(shù)為,

1.2 二次諧波產(chǎn)生系數(shù)

二次諧波產(chǎn)生系數(shù)在密度矩陣和迭代方法兩種方法求解下可以得出[19]。假定,電磁場的頻率ω激發(fā)三維環(huán)形贗諧勢的系統(tǒng),E(t)=E0cos(iωt)=,密度矩陣算子ρ隨時間變化的薛定諤方程如下[20]

上式中:H0表示在沒有E(t)影響下的哈密頓量;ρ(0)是不受干擾情況下的密度算子;偶極躍遷矩陣M其矩陣元為Mij=<ψi|r|ψj>;Γij表示弛豫率。這個系統(tǒng)電極化可以表示如下

與此同時,式(18)五個系數(shù)分別代表著五個非線性光學(xué)的主要系數(shù),其中二次諧波產(chǎn)生系數(shù)是,運用迭代方法也可以獲得

(19)、(20)是電極化通過迭代法處理后得到的多階表達式,用迭代法處理方程式(17)表示為

通過以上方法得到二次諧波產(chǎn)生系數(shù)為

式中:能級差E21=?ω21=E2-E1,E31=?ω31=E3-E1。

2 結(jié)果與討論

使用GaAs/AlGaAs 半導(dǎo)體材料數(shù)值計算三維環(huán)形贗諧勢中二次諧波產(chǎn)生系數(shù)。計算的參量如下:m*=0.067m0(m0是自由電子的質(zhì)量),電子密度σv=5.0×1022m-3,真空介電常數(shù)ε0=8.85×10-12F·m-1,弛豫率Γij=1/0.14 ps[20]。數(shù)值計算中,贗諧勢零點r0、化學(xué)勢V0和無量綱參數(shù)β數(shù)值選取具有一般性,并且已有研究者采用類似數(shù)值[17,21]。為更好展現(xiàn)二次諧波峰值變化特點,在每張二次諧波系數(shù)圖中給出了一組對照數(shù)據(jù)(r0=10 nm、V0=20 meV、β=18)。

在V0=20 meV、β=18,r0分別得等于6、10和14 nm 時,二次諧波產(chǎn)生系數(shù)隨入射光子頻率變化曲線如圖1 所示。從圖中很清楚看到隨著r0數(shù)值不斷地增加,二次諧波峰值漸漸地向低能區(qū)域移動。隨著r0數(shù)值增加,量子約束減弱,系統(tǒng)能級間隔減小,導(dǎo)致二次諧波系數(shù)向低能區(qū)域移動。從環(huán)形贗諧勢分析如圖2,在V0=20 meV 情況下,三種不同r0數(shù)值情況下隨著r變化曲線??梢郧宄贸鲭S著r0數(shù)值增加,電子運動的范圍擴大了,同理反平方項也是如此。在圖1 中可以觀察到另一個重要的特征,r0數(shù)值在逐次增加同時,峰值也在不斷地增加。由解析式可知,電子偶極躍遷矩陣元(Mij)和不同狀態(tài)之間的能量間隔(?ωij)決定峰值。偶極躍遷矩陣元和能級間隔的改變都會對二次諧波產(chǎn)生的峰值造成一定影響。當(dāng)勢零點r0增加時,偶極躍遷矩陣元|M12M23M31|增大、能量間隔E21、E31減小,但是偶極躍遷矩陣元在影響二次諧波產(chǎn)生峰值中起到了決定性的影響。

圖1 在v0=20 meV,β=18 和三種不同r0值條件下二次諧波產(chǎn)生系數(shù)隨著入射光子頻率變化曲線

圖2 在V0=20 meV 三種不同r0值條件下隨著r 變化曲線

當(dāng)β=18、r0=10 nm 和V0分別等于10、15和20 meV 時,二次諧波產(chǎn)生系數(shù)與入射光子頻率的圖像如圖3。可以清楚看到,在V0不斷增加過程中二次諧波系數(shù)峰值出現(xiàn)藍移行為。隨著V0數(shù)值增加,量子約束增強,系統(tǒng)能級間隔E21、E31提高,導(dǎo)致二次諧波系數(shù)向高能區(qū)域移動。從環(huán)形贗諧勢分析如圖4,在r0=10 nm 情況下,三種不同V0數(shù)值情況下隨著r 變化曲線??梢郧宄贸鲭S著V0數(shù)值增加,電子運動的范圍減小,同理反平方項也是如此。同理是反平方項會更加一步限制電子運動區(qū)域。此外,還可以觀察隨著V0數(shù)值在不斷增加,峰值也在不斷地增加。由解析式可知,電子偶極躍遷矩陣元(Mij)和不同狀態(tài)之間的能量間隔(?ωij)決定峰值。偶極躍遷矩陣元和能級間隔的改變都會對二次諧波產(chǎn)生的峰值造成一定影響。當(dāng)化學(xué)勢V0增加時,偶極躍遷矩陣元|M12M23M31|減小、能量間隔E21、E31增大,但是偶極躍遷矩陣元在影響二次諧波產(chǎn)生峰值中起到了決定性的影響。

圖3 在β=18,r0=10 nm 和三種不同V0 值條件下二次諧波產(chǎn)生系數(shù)隨著入射光子頻率變化曲線

圖4 在r0=10 nm 三種不同V0 值條件隨著r 變化曲線

在V0=20 meV、r0=10 nm 和β分別等于4、18和32 條件下,隨著入射光子頻率增加,二次諧波系數(shù)也隨之改變,如圖5。從圖中可以清楚觀察到伴隨著β數(shù)值在不斷增加,二次諧波產(chǎn)生的共振峰慢慢地減少。當(dāng)無量綱參數(shù)數(shù)值的增加,矩陣元素在量子約束的強度條件下緩慢減小。通過公式(21)得到,偶極躍遷矩陣元|M12M23M31|數(shù)值減小,最終導(dǎo)致峰值逐漸減少。偶極躍遷矩陣元|M12M23M31|成為決定二次諧波產(chǎn)生變化的主要因素。因此,在實際應(yīng)用過程中若僅僅只想改變二次諧波峰值可以調(diào)節(jié)無量綱參數(shù)β來完成。

圖5 在V0=20 meV,r0=10 nm 和三種不同β 值條件下二次諧波產(chǎn)生系數(shù)隨著入射光子頻率變化曲線

3 小結(jié)

本文從理論研究了環(huán)形贗諧勢中二次諧波產(chǎn)生,重點是對二次諧波系數(shù)計算與分析。隨著V0和β數(shù)值增加,峰值在相適應(yīng)地減少,但r0卻恰恰相反,r0數(shù)值增加同時,峰值也在增加。以及,當(dāng)r0數(shù)值增加時,二次諧產(chǎn)生出現(xiàn)了紅移現(xiàn)象,V0正好相反,在V0數(shù)值變大時,出現(xiàn)了藍移現(xiàn)象。

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