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和利時MACS-K系統(tǒng)在特種氣體三氟化氮生產(chǎn)中的應用

2021-09-16 00:19:11李靖張少斌徐蓬勃
今日自動化 2021年7期
關(guān)鍵詞:電解法

李靖 張少斌 徐蓬勃

[摘? ? 要]介紹三氟化氮氣體的用途、生產(chǎn)工藝及和利時MACS-K系統(tǒng)的特點,主要闡述MACS-K自動控制系統(tǒng)在電解法生產(chǎn)三氟化氮中的網(wǎng)絡結(jié)構(gòu)、各工段控制要點,以及系統(tǒng)的應用特色,總結(jié)了在硬件設計和軟件設計中的注意事項。

[關(guān)鍵詞]三氟化氮;電解法;MACS-K

[中圖分類號]TQ320.5;TP273 [文獻標志碼]A [文章編號]2095–6487(2021)07–00–03

Application of Hollysys Macs-k System in Production of Special Gas Nitrogen Trifluoride

Li Jing,Zhang Shao-bin,Xu Peng-bo

[Abstract]This paper briefly introduces the use of nitrogen trifluoride gas, the production process and the characteristics of Hollysys macs-k system, mainly expounds the network structure of macs-k automatic control system in the electrolytic production of nitrogen trifluoride, the control points of each section, and the application characteristics of the system, and sums up the matters needing attention in hardware design and software design.

[Keywords]nitrogen trifluoride; Electrolysis method; MACS-K

1 三氟化氮氣體的用途和生產(chǎn)工藝

三氟化氮(NF3)在常溫下是一種無色、無臭、性質(zhì)穩(wěn)定的氣體,是一種強氧化劑。NF3在微電子工業(yè)中作為一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體,在離子蝕刻時裂解為活性氟離子。高純NF3具有優(yōu)異的蝕刻速率和選擇性(對氧化硅和硅),在蝕刻時,在蝕刻物表面不留任何殘留物,是非常良好的清洗劑,同時在芯片制造、高能激光器方面也得到了大量的應用。

目前,NF3的制備方法主要有直接化合法和氟化氫銨熔融鹽電解法2種。在直接化合法生產(chǎn)NF3的過程中不產(chǎn)生爆炸性氣體,生產(chǎn)比較安全,但是化學合成的過程不易控制,雜質(zhì)含量比較多,其工藝設備比電解法設備復雜。電解法生產(chǎn)NF3過程中,HF和F2得不到充分利用,不可避免地會造成環(huán)境污染、原料浪費,但其所用生產(chǎn)設備成本低,產(chǎn)品效率高。直接化合法和電解法各有優(yōu)缺點,目前,日本與我國國內(nèi)生產(chǎn)高純NF3的廠家大多采用NH4HF2熔融鹽電解法。

2 和利時MACS-K系統(tǒng)特點

和利時集團作為中國領(lǐng)先的自動化系統(tǒng)解決方案供應商,在工業(yè)自動化領(lǐng)域已深耕多年。其過程自動化系統(tǒng)產(chǎn)品服務于核電,火電,新能源,煉化,化工,冶金,建材,制藥等多過程工業(yè),成功實施4萬多個項目。

HOLLiAS MACS-K系統(tǒng)是和利時公司于2013年正式推出的大型分布式控制系統(tǒng),系統(tǒng)具有可靠性和易用性特點。支持P-P(點對點結(jié)構(gòu))、C/S(客戶機/服務器結(jié)構(gòu))、P-P和C/S(混合結(jié)構(gòu))三種網(wǎng)絡構(gòu)架。吸收了安全系統(tǒng)的設計理念,基于以太網(wǎng)和ProfiBus-DP現(xiàn)場總線構(gòu)架,方便接入多種工業(yè)以太網(wǎng)和現(xiàn)場總線。

MACS-K系統(tǒng)的網(wǎng)絡架構(gòu)由三部分組成,從上到下依次為管理網(wǎng)(MNET)、系統(tǒng)網(wǎng)(SNET)、控制網(wǎng)(CNET)。其中系統(tǒng)網(wǎng)和控制網(wǎng)都是冗余配置,管理網(wǎng)為可選網(wǎng)絡。

3 NF3生產(chǎn)工藝的DCS結(jié)構(gòu)

NF3生產(chǎn)工藝流程:采用電解法制備NF3氣體,以氟化氫(HF)和氨為原料,在一定條件下混合反應,成為(NH4HF2)和HF的共溶液,再將共溶液輸送至電解槽進行電解,陰極氣體進入廢氣洗滌塔回收H2,陽極氣經(jīng)過預純化、冷阱、精餾等工藝得到高純NF3氣體。

以某公司的5400 t/a新材料項目(其中高純NF3氣體為3000 t/a)為例,該項目采用和利時MACS-K系統(tǒng)。將NF3生產(chǎn)主要分為2個域,0#域為電解域,主要包括電解南、電解北和混料三部分,1#域為綜合充裝域,主要包括預處理(HF回收及間歇冷阱),精餾、充裝幾個部分。

根據(jù)現(xiàn)場車間的位置,最終確定的DCS的網(wǎng)絡結(jié)構(gòu)如圖1所示。

可以看到,所有操作員電腦放到分控室中。0#域三部分,電解南,電解北,混料的控制機柜分布在各個車間,通過光纖連接到0#域的交換機上。1#域的控制柜放到分控室的機柜間,通過網(wǎng)線連接到1#域的交換機上。0#域和1#域的交換機再連接到1個三層交換機(L3Switch)上,這樣可以通過該三層交換機與其他域進行數(shù)據(jù)訪問,也可以通過該三層交換機將數(shù)據(jù)發(fā)送到OPC服務器、大屏等廠級監(jiān)控網(wǎng)絡。

每個車間的機柜室設置單獨的電源柜為系統(tǒng)供電,在分控室機柜間設置網(wǎng)絡柜放置交換機、光纖收發(fā)器等通信設備。

4 NF3MACS-K系統(tǒng)中各個域系統(tǒng)組成及方案

4.1 電解域DCS

4.1.1 混料工段

由液氨罐區(qū)的液氨經(jīng)氨氣化器氣化,然后經(jīng)過吸附過濾得到純凈的NH3送到混料反應釜。由氟化氫罐區(qū)來的HF經(jīng)氟化氫氣化器送到混料反應釜,在反應釜中,兩種物質(zhì)進行反應后生成NH4HF2和HF的共溶液,送到電解車間。

該部分作為一個控制站,部分重要測點如液氨罐區(qū),氟化氫罐區(qū)的溫度、壓力、液位采用冗余模塊,避免模塊故障采集不到數(shù)據(jù)。主要的控制為單PID控制,如混料反應釜的轉(zhuǎn)料槽電加熱模塊控制;氟化氫氣化器電加熱模塊控制;反應釜氟化氫進料流量調(diào)節(jié)閥控制;反應釜溫度控制等。另外就是一些保護聯(lián)鎖,主要是液氨儲罐的液位聯(lián)鎖,溫度聯(lián)鎖;氟化氫儲罐的液位聯(lián)鎖,壓力聯(lián)鎖。

4.1.2 電解工段

混料車間送來的NH4HF2溶液在電解槽中進行電解,電解過程中陰極氣體進入廢氣洗滌塔回收H2,陽極產(chǎn)生NF3氣體,但含有其他成分雜質(zhì),需要下步工序進行處理。

電解分南、北兩個車間,每個車間50個電解槽。每個車間分為2個控制站。電解過程中電解溫度大約為100~120 ℃,此溫度不僅保證電解液中離子能夠快速向電極移動,又保證氣體能迅速脫離電極表面,快速溢出電解液。電解電壓為6.7~7.2 V,電流密度大約為0.01~0.32 A/mm。所以DCS主要監(jiān)控參數(shù)為每個電解槽的溫度、電流、電壓等。主要控制為整流柜自動升壓控制,每個電解槽對應一個整流柜,整流柜通過Modbus-RTU方式進行通信及控制。本控制方案共涉及100套整流柜。每個電解槽分待用、收集1、收集3、大電流、小電流、放空6個生產(chǎn)狀態(tài),根據(jù)生產(chǎn)狀態(tài)的不同,相應的控制方式及報警信息作出相應的調(diào)整。主要聯(lián)鎖為電解槽溫度過高或過低聯(lián)鎖開關(guān)循環(huán)水流量電磁閥。

4.2 綜合充裝域DCS

4.2.1 預處理工段

電解工段送來的含有雜質(zhì)的NF3氣體先進入冷卻器進行HF回收,然后通過平衡罐,負壓罐進入液氮冷卻的冷阱塔中,NF3等高沸點產(chǎn)物在﹣150 ℃的冷阱中液化,低沸點雜質(zhì)排出后送三廢工段處理,再將冷阱自然升溫,在﹣100 ℃左右回收NF3,送到初品罐區(qū)。

該工段分為2個控制站,每個控制站控制10套冷阱塔。共設有20套冷阱塔,各冷阱塔生產(chǎn)過程分備用、預冷、收集、待壓氣、壓氣、返氣、排污7種工作狀態(tài)。根據(jù)不同的工作狀態(tài),連鎖控制各個進出口閥門,并在不同狀態(tài)下提供不同的數(shù)據(jù)顏色顯示及不同報警值的報警。人機交互上通過閥門集中控制,數(shù)據(jù)集中監(jiān)控的方式進行整理匯總。該工段的主要控制為各冷阱的工作狀態(tài)控制;各冷阱塔液氮溫度調(diào)節(jié);各冷阱塔釜底溫度調(diào)節(jié);各冷阱塔塔頂柱上溫度調(diào)節(jié),各冷阱塔塔頂抽真空壓力調(diào)節(jié)等。

4.2.2 精餾工段

初品罐區(qū)送來的初品NF3依次通過裂解塔—緩沖罐—水洗塔(新鮮水)—還原塔(堿液)—堿洗塔(堿液)—除水塔—預冷器—精品罐,得到純化好的NF3氣體。

在此過程中去除了大部分的N2O,N2F2,CO2等雜質(zhì),可以滿足半導體電子工業(yè)生產(chǎn)的需要。

該工段為1個控制站,通過對初品氣進行精餾提純處理后產(chǎn)生成品氣。在精餾過程中,氣體需要在各塔器中停留一段時間,各塔器需要保持一定的溫度、壓力,滿足氣體的反應條件。所以DCS主要監(jiān)控參數(shù)為各個塔器的溫度、壓力等,主要的控制為單PID控制,如裂解塔上部、中部、下部溫度控制;除水塔冷氮氣進口溫度調(diào)節(jié);裂解塔進口壓力調(diào)節(jié)等。另外水洗塔與補水泵的控制方式為:兩臺水洗塔與兩臺補水泵分別采用二取一的方式進行選擇,然后連鎖控制水洗塔進液閥門調(diào)整水洗塔液位。

4.2.3 充裝分析

由精品罐來的提純過的NF3通過隔膜壓縮機灌裝到鋼瓶中,或送到其他工段作為原料氣使用。分析工段主要通過分析儀器對產(chǎn)品氣進行采樣分析,包括電解分析,純化分析,酸度檢測,色譜檢測,水分檢測。

該工段為1個控制站,其中充裝部分主要為手動單體控制,通過簡單的連鎖保護實現(xiàn)閥門的緊急關(guān)閉。另外就是隔膜壓縮機的聯(lián)鎖保護,真空泵組的聯(lián)鎖保護。

分析部分通過對分析管路各電磁閥的順序控制,實現(xiàn)分析管路的置換及采樣操作。該部分的控制較為復雜,基本都是順序自動控制,采用SFC語言實現(xiàn)。精品罐自動采樣見圖2,可見控制步數(shù)非常多;純化分析自動進樣等。

5 和利時MACS-K系統(tǒng)在NF3生產(chǎn)中的應用總結(jié)

5.1 硬件設計

和利時MACS-K系統(tǒng)具有“域”構(gòu)架,所以在設計過程中可以根據(jù)現(xiàn)場車間的布局,工藝流程情況合理地分域,這樣每個工程相對獨立。不同的工程可以通過上層交換機相互訪問,而且方便續(xù)建工程并入老系統(tǒng)。

DCS設計采用雙路供電,一路UPS電源,一路廠用電電源,兩路電源先進入電源柜,再由電源柜分配給各個系統(tǒng)機柜供電。雙路供電保證了在某一路出現(xiàn)故障的時候,不會影響到DCS正常運行。

DCS具有完備的冗余技術(shù),包括設備冗余和工作性能冗余;各級網(wǎng)絡通信設備,控制站的控制器,所有電源設備;Profibus-DP鏈路也都是冗余設計。

和利時MACS-K系統(tǒng)還具有對各種通訊協(xié)議的全面包容及開放的特點,如DP,Modbus,OPC等各種通信,以上文介紹的5400 t/a新材料項目為例,電解車間的整流柜,綜合充裝的報警器采用Modbus通信,綜合充裝車間與西門子PLC采用DP通信。經(jīng)過長時間的運行,非常穩(wěn)定。

基于硬件系統(tǒng)的先進性,設計過程中計算好系統(tǒng)負荷,電源負荷,網(wǎng)絡負荷,根據(jù)這些布置模塊,通信設備,所以滿足三氟化氮生產(chǎn)中的連續(xù)性,安全性的需要。

5.2 軟件設計

在軟件設計過程中,初期IO測點的布置及分配需考慮完整。

根據(jù)工藝情況,合理地進行分站,具有聯(lián)鎖關(guān)系的設備盡量放到一個控制站;互為備用的重要設備分布到不同的模塊,同一電氣設備的點盡量分布在一起。這樣無論是現(xiàn)場接線,還是在軟件組態(tài)過程中都比較方便。

和利時MACS-K系統(tǒng)的組態(tài)軟件功能強大,對整套裝置能進行常規(guī)PID控制、復雜控制、邏輯順序控制、批量控制、以及各種數(shù)據(jù)的采集處理等。支持CFC,SFC,LD,ST四種編程語言,可以在同一工程中結(jié)合使用。在組態(tài)過程中,像充裝分析工段的自動充裝程序,分析的自動采樣程序可以采用SFC語言編寫,可以清晰地反應每一步的設備動作情況。像設備的聯(lián)鎖,PID控制等可以采用CFC語言編寫,邏輯分明,方便調(diào)試維護。

6 總結(jié)

某公司的5400 t/a新材料項目(其中高純?nèi)獨怏w為3000 t/a),該NF3生產(chǎn)工段物理點4000左右,設計了9套控制站,已經(jīng)正常運行將近3年的時間,客戶反應控制系統(tǒng)簡便易用,方便穩(wěn)定。目前正在積極進行二期項目建設中。

“中國制造2025”提到新一代信息技術(shù)產(chǎn)業(yè)著力提升集成電路設計水平。集成電路、芯片的制造需要NF3這種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體。和利時自控系統(tǒng)MACS-K系統(tǒng)作為自主可控的國產(chǎn)化控制系統(tǒng),在特種氣體的生產(chǎn)控制中將得到更廣泛的應用。

參考文獻

[1] 冀延治,王少波,李本東,等.三氟化氮制備方法綜述[J].艦船防化,2007(1):44-49.

[2] 彭立培,王少波,李紹波,等.三氟化氮純化方法綜述[J].艦船防化,2007(1):38-43.

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