趙蕓赫
(首都師范大學(xué)附屬中學(xué) 北京 100048)
馬宇翰
(中國工程物理研究院研究生院 北京 100193)
2020年北京市普通高中學(xué)業(yè)水平等級性考試適應(yīng)性測試物理卷的第14題描述了一道關(guān)于負(fù)折射率材料的成像問題.筆者注意到這道題目引發(fā)了不少物理教師和學(xué)生的熱議,問題原文如圖1所示.
圖1 北京市普通高中學(xué)業(yè)水平等級性考試適應(yīng)性測試第14題
對于該問題情境,學(xué)生依據(jù)題意及圖2的示例,可判斷出本題的答案為D.
圖2 符合題意的光線3和4所對應(yīng)的成像光路
可以看到,該題在激發(fā)學(xué)生關(guān)注科學(xué)前沿,培養(yǎng)學(xué)生科學(xué)思維方面起到了很好的促進(jìn)作用.考慮到本題背景所涉及的“負(fù)折射率材料”的研究歷史與前沿進(jìn)展,大家對于本題的爭論點,以及這個問題中可以繼續(xù)深挖的與中學(xué)物理教學(xué)相結(jié)合的內(nèi)容,本文將對如下3個問題進(jìn)行討論:(1)問題中所涉及的負(fù)折射率材料是否存在?(2)根據(jù)題目中答案D所顯示的光線方向,部分同學(xué)認(rèn)為這意味著此種材料的相對折射率的絕對值小于1(從圖中看來,折射角大于入射角),即光在該材料中的光速超過在真空中的光速,如何解釋?(3)這種負(fù)折射率材料的成像與中學(xué)物理中所涉及的正折射率材料的成像(如透鏡的成像)有什么區(qū)別?
圖3 光在正/負(fù)均勻折射率介質(zhì)中的折射規(guī)律
但在Veselago的研究發(fā)表后的近30年內(nèi),由于人們在自然界中并沒有找到Veselago所設(shè)想的ε和μ同時為負(fù)值的材料,對于負(fù)折射率材料的研究也漸漸被擱淺.
1996-1998年間,美國加州大學(xué)圣迭戈分校的Smith等人,在微波實驗中采用Pendry所提出的以一定間距周期排列的銅棒狀陣列結(jié)構(gòu)[2,3],首次實現(xiàn)了在同一塊材料里,讓ε和μ同時為負(fù)值.進(jìn)一步地,Smith等人利用這種復(fù)合材料觀察到了負(fù)折射現(xiàn)象,從實驗中證實了左手材料折射率的測量值確實是負(fù)值[4].
緊接著,2003年,首先是美國Boeing Phantom Works小組的Parazzoli等人重復(fù)并改進(jìn)了Smith等人的實驗,他們的實驗數(shù)據(jù)和模擬計算非常吻合,都顯著而清晰地展示了負(fù)折射現(xiàn)象[5].與此同時,美國MIT的Houck小組從實驗上得到了不同入射角下測量到的負(fù)折射率是一致的,這一結(jié)果完全符合斯涅耳定律[6].
至此,在21世紀(jì)初的這些實驗從現(xiàn)象和定量的角度驗證了Veselago的理論預(yù)言.后來隨著人工光子晶體結(jié)構(gòu)研究的發(fā)展,愛荷華州大學(xué)的S. Foteinopouloud等提出了不借助金屬,完全利用電介質(zhì)材料組成的光子晶體來實現(xiàn)左手材料.此后,在人工光子晶體中實現(xiàn)負(fù)折射的現(xiàn)象也得到了科學(xué)家們的實驗驗證[7].
在此之后,對于負(fù)折射率材料的研究主要集中在可見光波段,2007年,美國加州技術(shù)研究所的H.J.Lezec設(shè)計完成了一種金屬-絕緣體-金屬的特別波導(dǎo)結(jié)構(gòu),實現(xiàn)了該設(shè)計方式在光譜為藍(lán)綠光譜區(qū)域中的負(fù)折射現(xiàn)象[8],而后其他科學(xué)家也相繼實現(xiàn)了在不同可見光波段的負(fù)折射率現(xiàn)象[9].
實際上,根據(jù)已有的實驗報道,現(xiàn)有的左手材料折射率都小于-1.那么首先從這個問題的題設(shè)角度來說,未特殊說明點光源S所處的介質(zhì)為真空條件,因此,只要滿足該負(fù)折射率材料的折射率絕對值與光源S的背景介質(zhì)折射率之比小于1的條件,就可以實現(xiàn)光線4的折射方向.在這種情況下,也就不存在介質(zhì)中光速超過真空中光速的悖論.例如,光源所在環(huán)境折射率為n1=2,入射介質(zhì)的折射率為n2=-1.5.
若考慮點光源S所處的介質(zhì)為真空的情形,這時就需要從波的群速度與相速度的角度來解釋.其實在中學(xué)階段,對于波來說并未區(qū)分這兩個概念,這是因為群速度和相速度只有在非單頻波通過頻散介質(zhì)中才有差別,而在中學(xué)物理范圍內(nèi)通常不涉及這種情況.
本文一開始所列出題目的分析中,只定性地討論了成實像的光路要滿足的條件.現(xiàn)在,本文基于折射定律來具體計算和討論物S的像S′的位置,進(jìn)而分析對于這樣一塊負(fù)折射率平行板材料而言更為細(xì)致的成像規(guī)律.
首先,如圖4所示,光的入射點和出射點分別為A和A′,入射角和折射角的大小分別為θ1和θ2.過S和S′的虛線為光軸,與光入射介質(zhì)的界面交點為B,與光出射介質(zhì)的界面交點為B′.
圖4 物S經(jīng)負(fù)折射率平板介質(zhì)成像光路圖(另一條關(guān)于光軸對稱的光線未作出)
圖4中,SB=L,AB=h1,A′B′=h2,B′S′=x,介質(zhì)的厚度為d,根據(jù)幾何關(guān)系有
(1)
再利用折射定律,可得
(2)
最終得到物像距SS′=L+d+x為
(3)
因此,根據(jù)圖4可知,物體S在介質(zhì)后方成實像的條件就是SS′>L+d,代入即得
(4)
(5)
上式意味著,當(dāng)
(6)
此外,如圖5所示,若物體沿著平行于介質(zhì)表面移動,則像也會在介質(zhì)后沿著相同方向移動等大的距離.
圖5 物體沿平行于介質(zhì)表面移動時像的移動
這表明,這種負(fù)折射率介質(zhì)與我們熟知的正折射率介質(zhì)制成的球面透鏡不同,后者一般只有一個光軸.2003年美國西北大學(xué)的研究組用類似結(jié)構(gòu)的光子晶體實現(xiàn)了負(fù)平板介質(zhì)的成像,他們?yōu)榱蓑炞C這種透鏡不像傳統(tǒng)透鏡那樣具有一個確定的主光軸,將光源向上移動了4 cm,結(jié)果像也同樣向上移動了相同的距離.這一現(xiàn)象可以在圖6所示的實驗結(jié)果中明顯地看出[10].
圖6 負(fù)折射率材料平板成像實驗
總的來說,當(dāng)處于折射率為n2>0的正折射率介質(zhì)中的物體經(jīng)過這樣一種折射率n2<0的負(fù)折射率材料質(zhì)制成的平板(以下簡稱“負(fù)平板介質(zhì)”)后,與經(jīng)過一正折射率材料制成的平板(以下簡稱“正平板介質(zhì)”)所不同的是,其具有如下5條成像規(guī)律:
(4)無論“負(fù)平板介質(zhì)”成實像或是虛像時,物距與像距并不是一一對應(yīng)的關(guān)系,一個物距所對應(yīng)的像距是一個范圍,“正平板介質(zhì)”成虛像特點與之相同.在這個范圍內(nèi)“負(fù)平板介質(zhì)”成實像時都能承接到該物體的清晰的像.
(5)這種“負(fù)平板介質(zhì)”的光軸不止一個,所有垂直于介質(zhì)表面的直線都可以視為光軸.“正平板介質(zhì)”在這一點上與之相同,而與我們熟知的正折射率介質(zhì)制成的球面透鏡不同.
圖7 物體所發(fā)出的不同入射角度的光經(jīng)過不同折射率組合的介質(zhì)后的光路圖
在前三節(jié)中,本文從近期北京普高學(xué)業(yè)水平等級性考試適應(yīng)性測試中的一道物理試題出發(fā),對其所涉及的關(guān)于“負(fù)折射率”材料的背景,這種材料的前沿研究和應(yīng)用前景,并以負(fù)折射率平板介質(zhì)為例,對其成像規(guī)律進(jìn)行了分析討論.
其實,關(guān)于負(fù)折射率介質(zhì)還有可以進(jìn)一步拓展考核的方向,例如其全反射性質(zhì)、更多以其制成的不同幾何形狀的透鏡的成像規(guī)律等等,這些都是值得探討和引發(fā)師生深入思考的問題.本文的討論與分析為將“負(fù)折射率介質(zhì)”這一新情境融入中學(xué)物理光學(xué)部分的教學(xué)提供參考.