通訊作者:趙鵬,1988年6月,男,漢族,陜西米脂人,現(xiàn)任職于榆林學(xué)院信息工程學(xué)院,中級實(shí)驗(yàn)師,碩士研究生。研究方向:大規(guī)模集成電路設(shè)計(jì)/數(shù)?;旌显O(shè)計(jì)。
摘要:集成電路實(shí)際的發(fā)展水平同其技術(shù)與產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀密切相關(guān),但是在我國的極端制造能力這一領(lǐng)域中,巨大規(guī)模集成電路實(shí)際的發(fā)展水平作為這一領(lǐng)域中十分重要的判定標(biāo)準(zhǔn)之一。對于集成電路這一技術(shù)未來的發(fā)展趨勢與發(fā)展路徑展開了分析,對于國家集成電路這一技術(shù)的發(fā)展做出展望,希望可以給大家?guī)韼椭?/p>
關(guān)鍵詞:集成電路技術(shù);發(fā)展趨勢;工藝技術(shù)
一、前言
現(xiàn)階段,科學(xué)技術(shù)與軟件技術(shù)這些先進(jìn)的技術(shù)得到快速的發(fā)展,這和集成電路這一技術(shù)的發(fā)展與運(yùn)用具有非常密切的關(guān)系。集成電路這一技術(shù)不只是信息技術(shù)未來發(fā)展的基礎(chǔ),并且也是互聯(lián)網(wǎng)技術(shù)未來的發(fā)展方向,被稱為20世紀(jì)時(shí)期最為偉大的一項(xiàng)工程技術(shù)[1]。國家正處在經(jīng)濟(jì)轉(zhuǎn)型的重要階段,集成電路這一技術(shù)未來的發(fā)展關(guān)乎著傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)的轉(zhuǎn)型升級與我國經(jīng)濟(jì)、社會的發(fā)展,也是現(xiàn)階段產(chǎn)業(yè)與科技發(fā)展過程中的關(guān)鍵所在[2]。立足于此,本篇文章對于集成電路這一技術(shù)中的每項(xiàng)指標(biāo)與發(fā)展趨勢展開進(jìn)一步探究。
二、集成電路這一工藝水平的指標(biāo)
集成電路就是運(yùn)用半導(dǎo)體的工藝技術(shù),把二極管、晶體管以及電容和電感元件這些電路需要的元器件,在一個(gè)或者是幾個(gè)微小的半導(dǎo)體晶片或者是介質(zhì)基片上進(jìn)行集成制作,同時(shí)建立完整的電路結(jié)構(gòu),以及在管殼中把制作完成的電路做好封裝,這樣產(chǎn)生的具備電路功能的微型結(jié)構(gòu)被稱為集成電路[3]。集成電路作為我國經(jīng)濟(jì)發(fā)展中的一項(xiàng)基礎(chǔ)產(chǎn)業(yè),其自身的工藝水平在很大程度上決定了集成電路領(lǐng)域的產(chǎn)業(yè)水平,以下就詳細(xì)地介紹評估集成電路這一工藝的幾項(xiàng)指標(biāo)。
(一)集成度
集成電路具有的集成度就是在IC芯片上所擁有的晶體管數(shù)量,在IC芯片面積一樣的條件下,集成度就會越高,也就說明集成出的元件數(shù)量越多,電路功能也會隨之強(qiáng)大,芯片具有的速度、牢靠性以及功耗性都有顯著的提高,并且芯片所需要的成本也會大幅度下降,所占有的重量與體積也會隨之減少[4]??梢钥闯?,集成電路是評估IC技術(shù)的一項(xiàng)重要指標(biāo)。
(二)特征尺寸
針對電子元器件而言,其自身的特征尺寸就是半導(dǎo)體器件所包含的最小尺寸。借助縮小特征尺寸,可以進(jìn)一步提高IC芯片具有的集成度,完善其具有的性能[5]。光刻技術(shù)的不斷發(fā)展也是集成電路中特征尺寸縮小的主要前提,現(xiàn)如今光刻技術(shù)得到了快速進(jìn)步,集成電路中特征尺寸也隨之變得更小,就現(xiàn)階段而言,0.18 μm、0.15微米和0.13 μm類別的集成電路都做到了規(guī)?;纳a(chǎn),但是在市場中,65 nm與90 nm類別的集成芯片也做出了完整的產(chǎn)品。
(三)晶片直徑
為了提高集成電路實(shí)際的集成度,通常是需要在一定程度上增加芯片的面積,然而需要予以重視的是,芯片的面積增加,會造成各個(gè)圓片中所包括的芯片數(shù)量相應(yīng)的減少,進(jìn)而大大降低了生產(chǎn)的效率,造成成本的增加[6]。然而加大芯片的直徑則可以處理好這個(gè)問題,就當(dāng)下而言,集成電路的主流晶元尺寸是8英寸或者是12英寸,然而14英寸或14英寸以上的晶元尺寸開發(fā)和運(yùn)用才是發(fā)展的主要趨勢。
(四)封裝
IC封裝最開始是以插孔封裝的方式,為了滿足電子設(shè)備對于高密性組裝提出的需求,在表面安裝封裝這一技術(shù)已然慢慢代替了之前插孔封裝的方式。在部分的電子設(shè)備中,運(yùn)用表面封裝的方式可以更好地做到節(jié)省空間,改善性能,減少封裝的成本。對比之前封裝的方式而言,表面封裝能夠?qū)㈦娐钒宓馁M(fèi)用降低60%之多[7]。另外,近期系統(tǒng)級的封裝技術(shù)也在不斷地發(fā)展,系統(tǒng)級的封裝技術(shù)能夠進(jìn)一步改善系統(tǒng)的性能,減少開發(fā)所需的時(shí)間,對提高封裝效率與減少成本具有很大的作用。特別是在藍(lán)牙模塊與記憶卡這些成本較低、面積較小且時(shí)間較短的電子產(chǎn)品上,系統(tǒng)的封裝技術(shù)具有的運(yùn)用優(yōu)勢日漸突顯。如圖1所示。
三、集成電路這一技術(shù)現(xiàn)階段發(fā)展趨勢
(一)特征尺寸逐漸變小
就縱向上而言,伴隨各種先進(jìn)技術(shù)的快速發(fā)揮,集成電路芯片的集成度也逐漸提升,一般穩(wěn)定在每三年就可以提升4倍,然而加工特征的尺寸在持續(xù)的縮小,這也是俗稱的摩爾定律?,F(xiàn)階段集成電路的芯片市場競爭越發(fā)激烈,主動提高產(chǎn)品的性能與性價(jià)比才是長久發(fā)展的關(guān)鍵所在,并且也作為IC技術(shù)未來發(fā)展的一項(xiàng)驅(qū)動力[8]。然而減少特征尺寸則是可以提高集成度,進(jìn)而提高產(chǎn)生具有的性能與性價(jià)比。就當(dāng)下的情況而言,特征尺寸處在22 nm下的電路已然被生產(chǎn)了出來,集成電路也在慢慢地貼近與物理極限。應(yīng)該予以重視的是,在受工藝技術(shù)與經(jīng)濟(jì)接受能力的約束,應(yīng)該對于尺度極限做好界定,即使當(dāng)下并沒有準(zhǔn)確的定位,然而微型化發(fā)展還是發(fā)展的主要趨勢,集成電路自身的尺寸還是在遵循摩爾定律發(fā)展。特別是伴隨IC設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)的提升,IC規(guī)模主機(jī)在不斷地?cái)U(kuò)大,復(fù)雜程度也在不斷地提高,在集電芯片中,集成晶體管的數(shù)量也變得更多,集成電路的技術(shù)逐步由3G時(shí)代進(jìn)步到3T時(shí)代,存儲的數(shù)量也得到了提升。然而集成電路運(yùn)行的速度也會變得更快,數(shù)據(jù)實(shí)際的傳輸速度由交換帶寬進(jìn)步到兆位。在近些年來,IC技術(shù)所設(shè)計(jì)的規(guī)則變得更小,然而晶體管的價(jià)格也隨之降低,其也是集成電路的主要發(fā)展趨勢。
(二)系統(tǒng)的集成芯片,新技術(shù)和材料的出現(xiàn)
系統(tǒng)的集成芯片也被叫做SOC,其可以把微處理器以及模擬IP核與數(shù)字IP核的操控結(jié)構(gòu)這些功能進(jìn)行相互結(jié)合,這樣來提高電路系統(tǒng)在設(shè)計(jì)中的穩(wěn)定性,還可以有效地降低功耗,進(jìn)而處理好之前集成電路存在的能耗高和穩(wěn)定性較差的問題,在以后的發(fā)展中,勢必會引發(fā)將芯片作為核心的信息產(chǎn)業(yè)革命。在集成電路的各項(xiàng)材料中,鍺作為最先運(yùn)用的,隨后是硅。針對光電器這些特殊的集成電路而言,通常會采用部分化合物的半導(dǎo)體集成材料,像是硫化鎘與砷化稼等。對比別的材料而言,硅材料對于電學(xué)、物理這些性能與成本方面存在著很大的優(yōu)越性,同時(shí)也讓其變成現(xiàn)階段集成電路運(yùn)用的主流材料。硅單品的材料也處在快速發(fā)展的時(shí)期,硅圓片的直徑逐步增大,現(xiàn)階段已然實(shí)現(xiàn)了16英寸與18英寸的水平。如圖2所示。
(三)新領(lǐng)域的運(yùn)用
當(dāng)下正處于信息時(shí)代,然而集成電路在這一時(shí)代下也迎來了全面的發(fā)展,特別是伴隨集成電路各項(xiàng)重要技術(shù)的逐漸完善,其在每一領(lǐng)域的運(yùn)用也越發(fā)的廣泛,在智能手機(jī)、智能電視以及聯(lián)動安防這些領(lǐng)域中的運(yùn)用與發(fā)展也是非常值得期待的。伴隨智能手機(jī)的廣泛運(yùn)用和發(fā)展,現(xiàn)代化手機(jī)芯片的設(shè)計(jì)技術(shù)也獲得了更多的關(guān)注,其中最為主要是適應(yīng)計(jì)算,運(yùn)用適應(yīng)計(jì)算技術(shù)可以進(jìn)一步刷新芯片的實(shí)線線路,對比現(xiàn)階段固有的芯片而言,單個(gè)的芯片也能夠完成幾個(gè)芯片的功能,并且能夠更好的提高芯片的速度,減少成本與消耗。另外,在視覺修復(fù)以及火車站的安防系統(tǒng)和人臉識別這些領(lǐng)域,集成電路這一技術(shù)的運(yùn)用也更為廣泛,開始逐漸進(jìn)入到人們的工作和生活中。如圖3所示。
四、對于集成電路這一技術(shù)市場未來的展望
伴隨智能化城市建設(shè)的發(fā)展與信息消費(fèi)的逐漸升溫,國家集成電路這一技術(shù)市場在眾多有利因素的推動下,獲得了長久的發(fā)展。不管是智能化的交通、電網(wǎng)以及工業(yè)操控這些方面,還是說在金融、汽車以及醫(yī)療這些行業(yè)中的電子運(yùn)用都獲得了很好的發(fā)展,并且,還促進(jìn)了操控器、處理器以及傳感器這些專用電路發(fā)展所提出的要求[9]。我國集成電路這一技術(shù)產(chǎn)業(yè)也實(shí)施了兼并或是重組,在半導(dǎo)體這一行業(yè)中,投資人與企業(yè)在其中一些領(lǐng)域?qū)嵤┎①徥菫榱俗龅诫p贏。例如,國家存儲器這一領(lǐng)域中,現(xiàn)階段已經(jīng)縮減到3家重要的企業(yè),提升了企業(yè)的利潤率,這也彰顯出制造能力與規(guī)模效應(yīng)具有的集中性。國家集成電路如果要做到強(qiáng)大,不只是應(yīng)該加強(qiáng)對于技術(shù)的研發(fā),還應(yīng)該間兼并重組,進(jìn)而讓企業(yè)可以快速的成長,減短研發(fā)所需的時(shí)間,這也是現(xiàn)階段國家的集成電路企業(yè)能夠快速崛起的最佳選擇。集成電路相關(guān)的投入應(yīng)該有固定的閾值,如果規(guī)模未達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)就難以取得顯著的效果,所以,國家集成電路應(yīng)該把能夠運(yùn)用的資源集中,加強(qiáng)整合的力度,進(jìn)而增強(qiáng)企業(yè)綜合的競爭能力。在集成電路制造滿足應(yīng)用的體量,就可以達(dá)成盈利。國家集成電路這一技術(shù)市場以后的發(fā)展應(yīng)該根據(jù)現(xiàn)狀,進(jìn)一步促進(jìn)資源的整合,同時(shí)把整合的資源投放到優(yōu)勢的企業(yè)上,進(jìn)而創(chuàng)建出在去全球范圍內(nèi)擁有競爭能力的集成電路的主要企業(yè),這樣才可以促進(jìn)集成電路相關(guān)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。
五、結(jié)語
總而言之,放眼近期世界的電子信息技術(shù)與產(chǎn)業(yè)的發(fā)展歷程不難看出,集成電路作為現(xiàn)階段電子信息技術(shù)的中心與發(fā)展的前提,關(guān)乎著我國經(jīng)濟(jì)與社會的發(fā)展,也是一種基礎(chǔ)性和戰(zhàn)略性的產(chǎn)業(yè)。本篇文章簡要的分析了集成電路的基本概念,對于集成電路的工藝水平指標(biāo)實(shí)施了歸納和總結(jié),最后,再放眼其以后的發(fā)展趨勢,以便于更好地推動集成電路這一技術(shù)的不斷發(fā)展。
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