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淺冷油回收C4解吸塔控制系統(tǒng)動態(tài)模擬研究

2020-03-06 16:55:16張家鏢
石油化工 2020年1期
關(guān)鍵詞:吸收劑背壓塔頂

鄒 弋,林 凡,張家鏢

(1. 中國石化 北京化工研究院,北京 100013;2. 福建聯(lián)合石油化工有限公司,福建 泉州 362800;3. 中化泉州石化有限公司,福建 泉州 362103)

煉廠干氣含氫氣、甲烷、乙烷、乙烯、丙烷、 丙烯等大量輕質(zhì)烴類的氣體,以前多是火炬直接放空或當(dāng)燃料燒掉,造成了資源的嚴(yán)重浪費(fèi)。中國石化北京化工研究院[1-6]開發(fā)的淺冷油吸收法回收煉廠干氣工藝是回收干氣中乙烷、乙烯、丙烷、丙烯等高附加值氣體的有效方法。淺冷油吸收技術(shù)是以C4為吸收劑在15 ℃的操作溫度區(qū)間回收干氣中的C2及以上餾分,以汽油為再吸收劑吸收和回收尾氣中甲烷氫所夾帶的吸收劑,使用富C4的吸收劑輸送至解吸塔,將C2組分從富C4吸收劑中解吸得到C2提濃氣(C2s),再以解吸后的貧C4(C4+)為吸收劑循環(huán)使用[7-11]。工藝所得C2s可作為乙烯裝置的原料,進(jìn)一步加工制得高附加值的聚合級乙烯和丙烯產(chǎn)品。干氣回收裝置平穩(wěn)運(yùn)行的同時(shí),還需維持全廠燃料氣的供求平衡,所以干氣回收裝置的生產(chǎn)負(fù)荷常年均有波動,現(xiàn)階段的干氣回收技術(shù)往往集中于研究回收率、產(chǎn)品純度和雜質(zhì)組成等方面,對于關(guān)鍵單元在擾動存在情況下的抗波動性研究較少。

本工作基于Aspen Hysys流程模擬軟件中Dynamic動態(tài)模擬模塊,建立了帶有二級冷凝器的C4解吸塔的動態(tài)模型,對于在系統(tǒng)外部一直處于波動狀態(tài)時(shí),C4解吸塔是否可在一定波動范圍內(nèi)穩(wěn)定運(yùn)行進(jìn)行了研究,并探討了控制操作波動范圍的有效方法。

1 實(shí)驗(yàn)部分

1.1 工藝流程

模擬數(shù)據(jù)來源于中國石化北京化工研究院自主研發(fā)的淺冷油吸收法應(yīng)用于煉廠飽和干氣回收技術(shù)項(xiàng)目,目標(biāo)是回收煉廠不飽和干氣中的C2,C3組分。模擬對象是該工藝流程中的C4解吸塔,C4解吸塔的主要作用是將回收的C2,C3組分從富C4吸收劑中解吸,工藝流程見圖1。

圖1 工藝流程Fig.1 Process flow drawing.

由圖1可知,F(xiàn)EED為含有的C2,C3組分的富C4吸收劑,經(jīng)流量控制器FIC-101控制進(jìn)入C4解吸塔(C-101)。為了節(jié)省冷媒水的消耗量,C-101塔頂采用2級冷卻器。塔頂氣相首先經(jīng)過冷凝器(E-101),冷卻介質(zhì)為33 ℃循環(huán)水,不設(shè)溫控,將塔頂氣相冷卻至40 ℃以下,凝液進(jìn)入C-101塔回流罐(V-101);剩余氣相進(jìn)入過冷器(E-102),冷卻介質(zhì)為7 ℃的冷媒水,經(jīng)溫度控制器TIC-102調(diào)節(jié)冷媒水用量,將氣相過冷至15 ℃后,凝液進(jìn)入C-101塔塔頂凝液罐(V-102),不凝氣為C2s排出界區(qū)。其中,V-102與V-101之前存在6 000 mm位差,位差提供的靜壓頭使V-102罐底液相可以順暢流入V-101中,另設(shè)置3 000 mm的靜液封是防止V-101和V-102中的氣相互竄。V-102中液相進(jìn)入V-101混合后,通過回流泵(P-102)輸送至C-101塔頂,V-101內(nèi)液位通過液位控制器LIC-102和FIC-102串級控制維持在50%。C-101塔壓通過壓力控制器PIC-101調(diào)節(jié)V-102罐頂管線閥實(shí)現(xiàn),維持壓力為2.61 MPa(表壓,下同)。塔釜設(shè)有再沸器(E-103),通過溫度控制器TIC-101調(diào)節(jié)蒸汽流量維持E-103返回溫度為126.2 ℃,塔釜液位依靠液位控制器LIC-101調(diào)節(jié),維持液位為50%。

1.2 穩(wěn)態(tài)模擬數(shù)據(jù)

穩(wěn)態(tài)模擬的物料平衡數(shù)據(jù)見表1。經(jīng)C-101分離后塔頂?shù)玫紺2s,塔頂產(chǎn)品期望C4及以上組分不高于6.07 %(x)。塔釜產(chǎn)品期望丙烷含量不高于0.47%(x)。

表1 物料平衡數(shù)據(jù)Table 1 Material balance data

1.3 動態(tài)模型

動態(tài)模型涉及的邊界物料為原料、C2s和C4+吸收劑3股。在動態(tài)模擬過程中,常把設(shè)備分為流導(dǎo)設(shè)備和非流導(dǎo)設(shè)備。本工作涉及的非流導(dǎo)設(shè)備為罐,一般認(rèn)為不產(chǎn)生壓降;流導(dǎo)設(shè)備主要包括塔、換熱器和閥門。閥門通過規(guī)定閥門系數(shù)(Cv或Cg)得到流量與壓降平方根的關(guān)系。塔一般規(guī)定氣相流過每塊塔板時(shí)都會產(chǎn)生相應(yīng)的壓降,而壓降與氣相組成有關(guān)系。換熱器不僅需要流量與壓降的關(guān)系,還需要總傳熱系數(shù)與換熱面積的乘積,本工作換熱器實(shí)際換熱系數(shù)經(jīng)HTRI軟件核算??刂葡到y(tǒng)的PID參數(shù)整定對于整個(gè)動態(tài)模型的真實(shí)性、可操作性和抗波動性至關(guān)重要,本工作涉及的控制儀表只采用比例控制和積分控制,屬于反饋式控制方式。

2 結(jié)果與討論

2.1 上游波動的影響

上游波動主要來源為:1)原料來源處短時(shí)間內(nèi)發(fā)生較大變化,界區(qū)無法及時(shí)作出反應(yīng);2)界區(qū)閥組由于長時(shí)間沖蝕造成損壞,導(dǎo)致閥門動作時(shí)偏差較大。上游波動發(fā)生時(shí),可造成進(jìn)料量的周期性波動。為設(shè)置上游擾動,本工作在動態(tài)模擬過程中為進(jìn)料物流設(shè)置一個(gè)閥位擾動,波動范圍是正常閥位的85%~115%,導(dǎo)致進(jìn)料物流的流量波動范圍為正常進(jìn)料的78.18%(x)~151.62%(x)。圖2為進(jìn)料量波動工況下各組分隨時(shí)間的變化。由圖2可知,塔頂產(chǎn)品C2s流量(x)波動范圍為104.6%~120.9%;塔頂產(chǎn)品中C4含量(x)波動范圍為97.1%~106.4%;塔釜產(chǎn)品C4+流量(x)波動范圍為107.6%~123.3%;塔釜產(chǎn)品丙烷含量(x)波動范圍為98.3%~104.7%。綜上所述,塔頂和塔釜產(chǎn)品組成基本可以維持在預(yù)期值5%以內(nèi),由此可見,C4解吸塔的塔釜容積、再沸器和溫度控制可以降低上游原料波動的影響,在較小的波動范圍內(nèi)穩(wěn)定操作,對連續(xù)生產(chǎn)影響較小。

2.2 背壓波動的影響

造成背壓波動的原因?yàn)椋?)由于受到更下游裝置壓控閥門損壞導(dǎo)致的周期性操作波動,即平穩(wěn)型波動;2)因下游裝置含有兩相流的管道,因管道設(shè)計(jì)考慮不足或生產(chǎn)負(fù)荷降低導(dǎo)致管道內(nèi)部形成活塞流,進(jìn)而因下游不暢導(dǎo)致的壓力驟升驟降,即驟變型波動。本工作在動態(tài)模擬過程中為系統(tǒng)背壓設(shè)置一個(gè)擾動,波動范圍為正常背壓(2.15 MPa)的83.7%~116.3%,最小值為1.80 MPa,最大值為2.50 MPa。兩種背壓波動形式不同的是,平穩(wěn)型波動在20 min的周期內(nèi)平穩(wěn)上升后再下降,近似于因操作波動導(dǎo)致的背壓波動;驟變型波動在20 min的周期內(nèi)急升至最高壓力后,穩(wěn)定約8 min后急劇下降至最低壓力,再穩(wěn)定約8 min后急劇上升,近似于因下游管道產(chǎn)生活塞流時(shí)的背壓波動情況。在背壓變化明顯的情況下,兩種波動形式的塔壓均未出現(xiàn)明顯波動,說明通過壓力控制器PIC-101控制C-101塔壓的設(shè)置,可較平穩(wěn)地維持塔壓穩(wěn)定,但塔頂和塔釜產(chǎn)品組成卻產(chǎn)生了較大的變化。圖3為背壓波動工況下各組分隨時(shí)間的變化。

圖2 進(jìn)料量波動工況下各組分隨時(shí)間的變化Fig.2 The composition changes with time in feed fluctuation.

圖3 背壓波動工況下各組分隨時(shí)間的變化Fig.3 The composition changes with time in back pressure fluctuation.

由圖3可知,在平穩(wěn)型波動情況下,塔頂產(chǎn)品C2s中C4組分含量最小值為5.40%(x),最大值為7.56%(x);在驟變型波動情況下,塔頂產(chǎn)品C4組分含量最小值為5.46%(x),最大值為8.25%(x)。在平穩(wěn)型波動情況下,塔釜產(chǎn)品丙烷含量最小值為0.45%(x),最大值為0.50%(x);在驟變型波動情況下,塔釜產(chǎn)品丙烷含量最小值為0.45%(x),最大值為0.51%(x)??梢?,兩種背壓波動情況對塔釜操作參數(shù)影響明顯大于上游原料波動情況,但驟變型背壓波動對塔釜產(chǎn)品的影響更大。雖然現(xiàn)有控制方案仍能在背壓波動情況下使系統(tǒng)的波動維持在一定范圍,但是此時(shí)的產(chǎn)品質(zhì)量已經(jīng)受到了影響。

2.3 數(shù)據(jù)與分析

2.3.1 擾動分析

精餾塔系統(tǒng)穩(wěn)定性的影響因素眾多,主要包括塔頂冷卻回流系統(tǒng)和塔釜加熱系統(tǒng)。圖4a為2種背壓波動情況下再沸器E-103入口流量、熱負(fù)荷和塔釜溫度隨時(shí)間變化情況。由圖4a可知,3組操作參數(shù)在兩種背壓波動情況下的波動范圍較為平穩(wěn)。圖4b為回流量和塔釜的操作波動情況。由圖4b可知,兩種背壓波動情況較為相似,但驟變型背壓波動范圍更大,塔頂回流量波動范圍為期望值(48 103 kg/h)的30.0%~157.4%,波動明顯過大。圖4c為塔頂氣相溫度、E-101出口溫度和E-102出口溫度隨時(shí)間變化情況。由圖4c可知,兩種背壓波動情況下,3個(gè)溫度點(diǎn)的溫度變化趨勢基本相當(dāng),但驟變型背壓波動更為明顯。由此可見,塔頂回流量的波動是導(dǎo)致塔釜液位波動的原因,因此解決塔頂回流波動問題是解決C-101操作穩(wěn)定性的關(guān)鍵。在無法消除背壓波動影響的情況下,只能通過控制回流波動來降低C-101精餾系統(tǒng)的波動,但無法從根本上消除波動。

圖4 背壓波動工況下各組分隨時(shí)間變化Fig.4 The composition changes with time in back pressure fluctuation.

2.3.2 改進(jìn)方案

背壓變化直接影響塔頂產(chǎn)品C2s的流量。由于塔壓控制器PIC-101為反饋控制器,存在一定滯后性,且背壓持續(xù)波動為壓力控制增加難度。設(shè)計(jì)時(shí),所選閥門的Cv會一定程度上降低塔頂C2s的流量。為了保證回流穩(wěn)定,將流量控制器FIC-102投用并與回流罐液位控制器LIC-102形成串級控制。模擬了改善后的控制方案在驟變型塔壓波動存在時(shí)的控制效果,并與未改善前的主要參數(shù)進(jìn)行比較,結(jié)果見圖5。

圖5 改進(jìn)的背壓波動工況下各組分隨時(shí)間變化Fig.5 The composition changes with time in back pressure fluctuation condition.

由圖5可知,改善后的控制方案較之前有了 明顯的改善,塔頂回流量波動范圍比改善前縮小49.0%,塔釜最低液位波動范圍比改善前縮小57.0 %,塔釜C2,C3輕組分波動范圍縮小53.8%。改善后的塔頂出口溫度波動范圍縮小74.7%;塔頂冷凝器E-101出口的溫度波動范圍縮小54.2%;塔頂過冷器E-102出口的溫度波動范圍比改善前縮小41.7%。在驟變型波動情況下,改善后的塔頂產(chǎn)品C2s流量波動范圍縮小19.4 %。塔頂產(chǎn)品C4組分含量波動范圍縮小53.7%。改善后塔釜產(chǎn)品波動范圍縮小50.2%。塔釜產(chǎn)品丙烷含量波動范圍縮小50.9%。

3 結(jié)論

1)分析了上游原料波動、下游平穩(wěn)型背壓波動和下游驟變型背壓波動3種上下游擾動形式對精餾塔的操作波動的影響。在下游驟變型背壓波動存在下,塔的操作波動最為明顯,塔頂和塔釜產(chǎn)品質(zhì)量波動范圍過大。淺冷油吸收工藝的C4解吸塔在3種擾動下均可以在一定波動范圍維持運(yùn)行,具有一定的抗擾動能力。

2)動態(tài)模擬可以有效反應(yīng)擾動存在下塔操作參數(shù)隨時(shí)間變化的規(guī)律,包括塔頂回流量、塔釜液位、塔釜液相組成、再沸器操作參數(shù)、回流罐液位、塔頂溫度分布、塔頂和塔釜產(chǎn)品流量和組分。

3)基于動態(tài)模擬結(jié)果,提出塔頂壓力控制閥PV-101依靠波動最低背壓選型和在塔頂回流罐液位控制投用流量串級控制2條有效的改進(jìn)措施。在驟變型背壓波動情況下,改進(jìn)后的塔頂產(chǎn)品流量的波動范圍縮小19.4%,塔頂產(chǎn)品組分含量波動范圍縮小53.7%;塔釜產(chǎn)品波動范圍較改善前縮小50.2%,塔釜產(chǎn)品組分波動范圍縮小50.9%。

4)上下游擾動對精餾塔的操作穩(wěn)定性、產(chǎn)品質(zhì)量和設(shè)備壽命都有不良影響。實(shí)際生產(chǎn)中應(yīng)該首先盡量消除裝置上下游的擾動,合理布置兩相流管道,避免出現(xiàn)活塞流影響系統(tǒng)平穩(wěn)運(yùn)行。

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