封云鵬, 朱望純, 尚玉玲, 高海英
(1.桂林電子科技大學(xué) 電子工程與自動(dòng)化學(xué)院,廣西 桂林 541004;2.桂林電子科技大學(xué) 教學(xué)實(shí)踐部,廣西 桂林 541004)
由于芯片制程技術(shù)的突飛猛進(jìn)(7 nm)和封裝技術(shù)的提升(SIP),元器件邁向封裝小、處理性能強(qiáng)(主頻高達(dá)4 GHz)、電源電壓低(1 V)、電流大(20 A)的方向發(fā)展;PCB也向著尺寸小、元器件密度大和布線密度大的方向發(fā)展[1]。倘若元器件的供電電壓不穩(wěn)定、PCB的過孔承載電流大、半導(dǎo)體芯片產(chǎn)生的熱量不能及時(shí)有效地散發(fā)出去,元器件壽命與性能會(huì)降低,甚至?xí)o法正常工作[2]。
由于PCB上元器件密度的增大、功耗的增大、疊層數(shù)目的增加,熱特性將不能離開電特性仿真,電特性的分析也不能孤立于器件溫度場的變化。溫度的升高就會(huì)帶來導(dǎo)體的電阻率和導(dǎo)電率的變化,進(jìn)一步會(huì)影響PCB上電源網(wǎng)絡(luò)上的電壓和電流,最終導(dǎo)致PCB供電系統(tǒng)出現(xiàn)問題[3]。特別是功率特別大的電子元器件工作時(shí)會(huì)引起元器件周圍的溫度劇烈波動(dòng),從而使PCB材料本身的電阻發(fā)生改變,也會(huì)影響到PCB上電流和電壓的分布[4]。電流集中在某個(gè)地方,可能會(huì)導(dǎo)致那個(gè)地方溫度劇烈變化,影響周圍電子元器件的正常工作。蘇浩航等用ANSYS SIWAVE做過類似的仿真,并未診斷出PCB存在故障,并且未得到其他的仿真參數(shù),未做出故障前與故障后的對(duì)比實(shí)驗(yàn)[5]。為了定量地了解熱源給PCB帶來的影響,需要對(duì)PCB同時(shí)進(jìn)行電分析和熱分析,找出板子設(shè)計(jì)的潛在風(fēng)險(xiǎn),通過采取相應(yīng)措施進(jìn)行規(guī)避。
為此,以DDR3 SODIMM PCB為例進(jìn)行電熱協(xié)同仿真,以獲取整板的電壓、電流、溫度等參數(shù),并參考JEDEC的設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)以滿足設(shè)計(jì)要求[7]。DDR3 SODIMM是一塊高密度的8層板,板子的元器件密度大,由16片512 MiB鎂光的DDR3存儲(chǔ)顆粒和其他的222個(gè)元器件組成。DDR3的讀寫速度可達(dá)到800~1 600 Mibit/s,超頻時(shí)甚至達(dá)到2133 Mibit/s[6]。因此,其對(duì)時(shí)序要求很高并在布線時(shí)盡量走等長線,需要繞蛇形線;控制走線誤差在±0.381 mm左右,繞線難度很大,還要對(duì)關(guān)鍵信號(hào)線保持3 W(3倍線寬)間距,這也會(huì)導(dǎo)致各層的布線密度很大。DDR3對(duì)電源電壓的直流壓降也有更嚴(yán)苛的要求(1.5±0.075) V,一旦直流壓降超標(biāo),會(huì)導(dǎo)致讀寫數(shù)據(jù)出現(xiàn)錯(cuò)誤,嚴(yán)重時(shí)整板的內(nèi)存顆粒無法工作。整板有16片DDR3存儲(chǔ)顆粒,數(shù)據(jù)傳輸快,也意味功耗大,再加上其他的元器件,它的PCB設(shè)計(jì)就需要對(duì)布局、熱量的流通、溫度還有其他因素需要綜合考慮。
半導(dǎo)體芯片主要是通過3個(gè)路徑將自身產(chǎn)生的熱量散發(fā)出去:封裝外殼的頂部到空氣,封裝底部的熱焊盤到電路板和封裝的電氣引腳到電路板。熱阻是電子元器件散熱中最常用的、最重要的一個(gè)固有參數(shù),也是描述電子元器件熱傳導(dǎo)特性的一個(gè)重要指標(biāo)。以半導(dǎo)體電路為例,熱阻是衡量芯片封裝將內(nèi)部管芯產(chǎn)生的熱量傳遞到電路板或者周圍環(huán)境的能力的一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)和能力[8]。定義為
(1)
熱阻值一般常用θ表示,其中:TJ為未封裝芯片表面的溫度;TX為熱傳導(dǎo)到某目標(biāo)點(diǎn)位置的溫度;P為輸入的發(fā)熱功率。電子設(shè)計(jì)中,只要電流流過電阻,就會(huì)產(chǎn)生電壓降。同理,熱量流經(jīng)熱阻,就會(huì)產(chǎn)生溫度差。熱阻大表示熱量不容易傳導(dǎo),因此元器件所產(chǎn)生的溫度就比較高,通過熱阻就可以判斷及預(yù)測電子元器件的發(fā)熱狀況。通常情況下,芯片的結(jié)溫溫度升高,芯片的正常使用壽命會(huì)減少,且發(fā)生故障的概率也會(huì)增高。當(dāng)溫度超過芯片的最高結(jié)溫時(shí),芯片就可能會(huì)損壞,合理使用過孔與電源平面,可以把熱傳導(dǎo)到平面層進(jìn)行散熱,同時(shí)也可以使用扇熱片或者風(fēng)扇。圖1為芯片熱阻的示意圖,其中:θJB為芯片表面到PCB的熱阻;θJC為芯片Die表面到封裝外殼的熱阻;θJA為芯片Die表面到周圍環(huán)境的熱阻,θJA=θJC+θCA。
圖1 芯片熱阻示意圖
直流壓降也叫IR-Drop。由于電源網(wǎng)絡(luò)同樣存在阻抗,會(huì)導(dǎo)致接收端的電壓相比源端更低[9]。集成電路的電源的容忍值通常在5%~10%,更為嚴(yán)苛的甚至在3%左右,這個(gè)值里面既包括電源噪聲,也包括直流壓降[10]。
電阻公式為
(2)
直流壓降與公式中的電導(dǎo)率ρ、走線長度l、橫截面積S有關(guān)。減少直流壓降常用的方式有:增加銅厚;增加過孔;減少走線長度;增加銅皮面積;預(yù)補(bǔ)償?shù)却胧?。需要注意,增加銅皮面積并一定不會(huì)對(duì)直流壓降有改善,因?yàn)殡娏鞑⒉皇蔷鶆虻姆植荚阢~皮表面,可通過Cadence Sigrity仿真得到電流的密度。
穩(wěn)定狀態(tài)時(shí),電壓分布方程為
(3)
其中:ρ(x,y,z)為受溫度影響的電阻率;φ(x,y,z)為電壓分布。
在穩(wěn)定狀態(tài)時(shí),固體或者流體的熱分布方程為
[k(x,y,z)(x,y,z)]=-P(x,y,z),
(4)
(5)
(6)
在任何導(dǎo)體的兩端施加一個(gè)電壓都會(huì)有電流流過。根據(jù)歐姆定律,
(7)
其中:σ為電導(dǎo)率,單位S/m;S為導(dǎo)體的截面積,單位m2;l為導(dǎo)體長度,單位m。
溫度對(duì)電性能的影響可以通過基于溫度變化的電阻率
ρ=ρ0(1+α(T-T0))
(8)
計(jì)算,求得導(dǎo)體在不同溫度下的電阻率,從而計(jì)算出新的供電電壓。其中:ρ0表示溫度為T0時(shí)的電阻率;α表示物體的電阻率受到溫度影響后的因子,為導(dǎo)體的溫度斜率補(bǔ)償系數(shù)??紤]到電阻率受溫度變化而變化的固有特性ρ(x,y,z)以及電流流過導(dǎo)體會(huì)產(chǎn)生熱量,整理PCB上的電熱之間關(guān)系,如圖2所示。
圖2 電熱場之間轉(zhuǎn)換關(guān)系
為了獲取電仿真參數(shù)的分布與熱仿真參數(shù)的分布,需要利用Cadence Sigrity對(duì)PCB上各種仿真參數(shù)進(jìn)行提取,對(duì)式(3)~(8)非線性方程組進(jìn)行求解。
以DDR3 SODIMM PCB為例,板上的主要供電電壓為1.5 V;板上的元器為金手指,DDR3內(nèi)存顆粒和其他分立元器件。圖3和圖4分別為DDR3 SODIMM電路的版圖設(shè)計(jì)和層疊設(shè)計(jì)。
圖3 DDR3 SODIMM版圖設(shè)計(jì)
圖4 DDR3 SODIMM層疊設(shè)置
表1、2分別為DDR3 SODIMM PCB的元器件功耗情況、過孔的直徑與電流的關(guān)系。整板的主要電壓為1.5 V,最大的動(dòng)態(tài)電流為8 A。
表1 板上元器件的功耗
表2 過孔與電流的關(guān)系
仿真實(shí)驗(yàn)的設(shè)計(jì)步驟:
1)打開Cadence Sigrity的PowerDC套件,建立仿真工程;
2)導(dǎo)入DDR3 SODIMM PCB;
3)設(shè)置PCB層疊結(jié)構(gòu)、初始化材料參數(shù)和焊盤參數(shù)、設(shè)置激勵(lì)以及穩(wěn)定狀態(tài)情況下的電參數(shù)和熱參數(shù)的邊界條件;
4)進(jìn)行穩(wěn)態(tài)時(shí)的分析,獲取電源分配網(wǎng)絡(luò)的電壓與電流等分布,并通過功率消耗分布來計(jì)算熱分布;
5)將電分析中的焦耳熱更新到穩(wěn)定狀態(tài)的熱分析,并且獲得受到熱分布和溫度影響后的電導(dǎo)率;
6)更新導(dǎo)體材料的電導(dǎo)率,并判斷是否達(dá)到收斂條件;
7)指定的溫度與電壓的分布收斂條件,迭代直到滿足收斂條件后停止,得到電參數(shù)與熱參數(shù)。
圖5 電熱協(xié)同仿真的流程
設(shè)計(jì)的溫度收斂參數(shù)為25 ℃,且在無自然風(fēng)的條件下;設(shè)置的電壓收斂參數(shù)為1.5 V;查閱鎂光的數(shù)據(jù)手冊,獲取DDR3的θJB=26.2 ℃/W,θJC=0。為了提高仿真精度,采用Cadence Sigrity 3D FEM算法和自適應(yīng)網(wǎng)格剖分算法對(duì)3D平面導(dǎo)體mesh進(jìn)行切割。
通過電熱協(xié)同仿真得到如圖6所示的結(jié)果。發(fā)現(xiàn)電源的電壓分布在1.398~1.499 V出現(xiàn)了明顯的電壓降,未達(dá)到板子上元器件正常工作所需的電壓。為了解決直流壓降問題,通常使用加大電源銅皮寬度的方法,由于DDR3 SODIMM 屬于高密度板,且各層的走線密度特別大,最初的設(shè)計(jì)為6層,沒有空間進(jìn)行加寬銅皮或者把銅皮由1盎司加厚到2盎司,為了保證信號(hào)傳輸?shù)馁|(zhì)量(給相鄰層作為參考平面),同時(shí)也能解決電壓降的問題,決定對(duì)PCB單獨(dú)再加一層作為電源平面,那就達(dá)到了7層,考慮加工設(shè)計(jì)的需求,多層PCB為偶數(shù)層,那必須加兩層,這樣才能電源銅供電更穩(wěn)定。同時(shí)純熱仿真(不考慮電參數(shù)對(duì)熱參數(shù)的影響)比電熱協(xié)同仿真溫度低了3 ℃,也驗(yàn)證了電與熱之間相互影響的關(guān)系。圖7(a)為純熱仿真得到的整板溫度分布參數(shù),圖7(b)為電熱協(xié)同仿真得到的整板溫度分布參數(shù)。
圖6 出現(xiàn)電壓降的電壓分布圖
圖7 純熱仿真與電熱協(xié)同仿真的溫度分布
通過添加電源層,得到圖8所示的各種電參數(shù)仿真結(jié)果。由圖8(a)可知,供電電壓從金手指的底部進(jìn)入,電源平面的電壓一直維持在1.492 72~1.494 89 V,無直流壓降問題,滿足DDR3的供電要求;由圖8(b)可知,電流從底部進(jìn)來,均勻分布在電源平面層;由圖8(c)可知,電源平面功率損耗很?。挥蓤D8(d)可知,在金手指的底部出現(xiàn)的單位功率大一點(diǎn),因?yàn)殡娫磸慕鹗种傅牡撞窟M(jìn)入到電源平面,入口的平面相對(duì)較窄,并且自下到上功率分布均勻;由圖8(e)可知,內(nèi)徑為0.25 mm的過孔能夠承載250 mA的電流,未出現(xiàn)過孔電流過大的情況;整板的電參數(shù)正常。
圖8 電仿真結(jié)果
通過電熱協(xié)同仿真,得到圖9所示各種熱參數(shù)的仿真結(jié)果。由圖9(a)可知,整個(gè)電源平面的溫度分布在25.209 7~25.290 3 ℃,在金手指的下面溫度略高,從下到上溫度慢慢降低;由圖9(b)可知,電源平面的熱輻射分布從金手指的底部向四周流動(dòng),在內(nèi)存顆粒之間略顯偏高;由圖9(c)可知,電源平面的熱通量也是金手指下面偏高,在內(nèi)存顆粒周圍略顯低;由圖9(d)可知,聚變電流密度在整板分布均勻,整板的熱參數(shù)正常。
圖9 熱仿真結(jié)果
通過添加電源平面,解決了直流壓降的問題,得到了整板的電熱協(xié)同仿真的主要參數(shù)的3D顯示圖,如圖10所示。由圖10(a)可知,整板的電壓都集中在1.493 V左右;未出現(xiàn)很大的壓降,滿足JEDEC的DDR3電壓(1.5±0.075)V設(shè)計(jì)要求;由圖10(b)可知,未出現(xiàn)單位電流很大的區(qū)域;由圖10(c)可知,整板的溫度分布均勻,都在集中25.22 ℃左右;未出現(xiàn)局部發(fā)熱的區(qū)域,不需要加散熱片與風(fēng)扇。DDR3 SODIMM PCB通過電熱協(xié)同仿真,發(fā)現(xiàn)潛在的直流壓降問題,通過添加2個(gè)電源平面層,解決這一問題,通過電熱協(xié)同仿真發(fā)現(xiàn),整板的電參數(shù)與熱參數(shù)正常,滿足JEDC的設(shè)計(jì)要求。
圖10 整板的電熱協(xié)同仿真3D結(jié)果
通過闡述半導(dǎo)體器件發(fā)熱的機(jī)理、熱的傳遞、直流壓降問題、電熱之間轉(zhuǎn)換的關(guān)系,設(shè)計(jì)電熱仿真實(shí)驗(yàn),獲得PCB的電參數(shù)與熱參數(shù),發(fā)現(xiàn)設(shè)計(jì)中存在的潛在隱患,并且合理采取相應(yīng)的措施,解決了整板的電與熱的設(shè)計(jì)問題,為PCB的電參數(shù)與熱參數(shù)設(shè)計(jì)提供強(qiáng)有力的參考。