李捷 張心澤
摘要:在眾多電子設(shè)備中,如:雷達(dá)探測(cè)、檢測(cè)儀器、通信等,鎖相環(huán)頻率合成器作為接收機(jī)的核心部件,其的性能直接影響著電子設(shè)備的整體性能,尤其是相位噪聲,直接關(guān)系著頻率穩(wěn)定性,影響著電子設(shè)備的精確度。對(duì)此,積極改善相位噪聲,提高鎖相環(huán)頻率合成器的穩(wěn)定性,滿足人們對(duì)電子技術(shù)的高質(zhì)量需求,具有重要意義。文章對(duì)相位噪聲的改善方式展開探析。
關(guān)鍵詞:鎖相環(huán);頻率合成器;相位噪聲;改善方式
1 鎖相環(huán)頻率合成器的簡(jiǎn)單概述
當(dāng)前,頻率合成器的常見(jiàn)實(shí)現(xiàn)方式主要包含三種:直接模擬(DAS)、鎖相環(huán)頻率合成(PLL)以及直接數(shù)字頻率合成(DDS)。頻率合成器主要以高精準(zhǔn)的晶體振蕩器為基準(zhǔn),利用合成技術(shù),產(chǎn)生一系列擁有一定的頻率間隔且高清度的頻率源,因此,頻率合成器又被分為直接合成器與鎖相環(huán)合成器[1]。
2 鎖相環(huán)頻率合成器的結(jié)構(gòu)與相位噪聲
在三種頻率合成方式中,PLL相比于DAS、DDS,雜散抑制更高,頻譜更純凈。與DDS相比,PLL的頻段更加寬泛;相比于DAS,PLL的結(jié)構(gòu)更加簡(jiǎn)單。因?yàn)榉N種優(yōu)勢(shì),在我國(guó)通信、雷達(dá)、儀表等電子設(shè)備中,鎖相環(huán)頻率合成器的應(yīng)用較為廣泛。在鎖相環(huán)合成器中,其主要采用PLL展開頻率合成,而單環(huán)鎖相環(huán)最為簡(jiǎn)單,只需要在壓控振蕩器、鑒相器兩者間連接的鎖相環(huán)反饋電路之上添加整數(shù)分頻器,即可形成整數(shù)頻率合成器。分頻系數(shù)變動(dòng),則壓控振蕩器將產(chǎn)生的輸出信號(hào)頻率相應(yīng)不同,因?yàn)椋摲N合成器的頻率為所參考信號(hào)的整數(shù)倍頻率,因此,其被叫做整數(shù)頻率合成器。
不過(guò),PLL也存在一定缺陷,即相位噪聲更大。相位噪聲的存在,電子設(shè)備性能受到影響,如:在通信設(shè)備中,相位噪聲影響,話路信噪比因此下降,增大了誤碼率;在雷達(dá)設(shè)備中,相位噪聲的存在,雷達(dá)對(duì)掃描目標(biāo)的分辨率下降;若相位噪聲進(jìn)入接收機(jī),將形成較強(qiáng)干擾信號(hào),產(chǎn)生倒混頻,增大接收機(jī)的噪聲系數(shù)[2]。基于此,在電子技術(shù)不斷發(fā)展的時(shí)代,改善相位噪聲,成為鎖相環(huán)頻率合成器不斷不斷研發(fā)的重點(diǎn)。
3 鎖相環(huán)頻率合成器結(jié)構(gòu)相位噪聲的完善措施
3.1 雙鎖相環(huán)的混頻結(jié)構(gòu)
雙鎖相環(huán)的混頻結(jié)構(gòu)主要是由2個(gè)鎖相環(huán)、1個(gè)混頻器構(gòu)成,其中,主環(huán)與輔環(huán)之間的輸出頻率有如下關(guān)系:Fout=FPD1*N1+FPD2*N2,在式子中,F(xiàn)PD1為主環(huán)鑒相頻率,F(xiàn)PD2為輔環(huán)鑒相頻率,N1為主環(huán)分頻比,N2為輔環(huán)分頻比。
在雙鎖相環(huán)運(yùn)行中,主鎖相環(huán)的輸出信號(hào)主要作為L(zhǎng)O信號(hào),與輔鎖相環(huán)的相環(huán)信號(hào)開展下變頻,而混頻器輸出低頻率IF信號(hào),以此降低主鎖相環(huán)的N1。FPD1與頻率步進(jìn)等同,如此,只需要改變N1,就可跳頻。輔相環(huán)所輸出頻率是定頻信號(hào),因此,在選擇FPD2時(shí),可隨意選擇。
計(jì)算雙鎖相環(huán)相位噪聲,公式如下:
N1=N2=Fout/(FPD1+FPD2)
最小相位噪聲為:PNtotel=PNSYNTH+10*log(Fout)+10log[Fout/(FPD1+FPD2)]
而單鎖相環(huán)合成器的相位噪聲為:PNtotel=PNSYNTH+10*log(Fout)+10log(Fout/FPD)
單鎖相環(huán)鑒定頻率FPD與主鎖相環(huán)鑒定頻率相同,將單鎖相環(huán)相位噪聲公式減去雙鎖相環(huán)的相位噪聲公式,得出的值為相位噪聲的改善值,為:
△PN=10log[(FPD+FPD2)/+FPD]=10log(1+FPD2/FPD)
據(jù)此繪出圖1,展示了相位噪聲完善值與鑒相頻率間的比值關(guān)系,比值越大,則相位噪聲的改善作用越大。不過(guò),該種結(jié)構(gòu)下,也擁有如下缺陷:其一,雙鎖相環(huán)下,輔環(huán)的輔助下,主環(huán)分頻比下降,但是,若頻率步進(jìn)較小,主環(huán)相位噪聲相應(yīng)提升。其二,與單鎖相環(huán)相比,雙鎖相環(huán)的器件較多,甚至是前者的一倍,與電子設(shè)備發(fā)展方向不符。其三,輔環(huán)信號(hào)在通過(guò)混頻器之后,極易為輸出信號(hào)引入雜散,影響電子設(shè)備的正常運(yùn)行。
3.2 鎖相環(huán)加分頻器結(jié)構(gòu)
鎖相環(huán)加分頻器結(jié)構(gòu),也是一種完善相位噪聲的方式,只需要在鎖相環(huán)結(jié)構(gòu)后添加分頻器即可。輸出信號(hào)相位噪聲的公式如下:
PNtotel=PNSYNTH+10*log(FPD)+20*log(N/X)
Fout=FPD*N/X
根據(jù)上述公式可知,若FPD與X之間同比例增加,輸出頻率并不會(huì)變化,而輸出的相位噪聲卻呈現(xiàn)出下降狀態(tài)。并且,X擴(kuò)大一倍,則FPD同樣擴(kuò)大一倍,PNtotel降低3dB。
不過(guò),該種結(jié)構(gòu)也擁有不足之處。因?yàn)?,此種方案的應(yīng)用,鎖相環(huán)輸出頻率間接提升,依照原理可知,將導(dǎo)致鎖相環(huán)芯片選擇、研制難度增大。同時(shí),與雙鎖相環(huán)結(jié)構(gòu)相似,若頻率步進(jìn)較小,輸出頻率較高,則相位噪聲仍然相對(duì)較高,為電子設(shè)備運(yùn)行帶來(lái)影響。
3.3 DDS激勵(lì)鎖相環(huán)結(jié)構(gòu)
DDS激勵(lì)鎖相環(huán)結(jié)構(gòu)具體如圖2所示,作為一種完善相位噪聲的方式,其主要利用DDS為鎖相環(huán)參考頻率。在該結(jié)構(gòu)運(yùn)行在電子設(shè)備中時(shí)。若鎖相環(huán)分頻比保持不變,僅需要改變DDS輸出頻率,就能夠?qū)崿F(xiàn)跳頻。如此,在較低分頻比狀態(tài)下,頻率步進(jìn)相應(yīng)較低。并且,鎖相環(huán)能夠直接增大DDS輸出頻率,還能濾除DDS應(yīng)用雜散,實(shí)現(xiàn)低噪聲、寬頻率、高雜散抑制的頻率合成。當(dāng)然,該種結(jié)構(gòu)并非完美無(wú)缺,若DDS的雜散進(jìn)入環(huán)路低通帶,則鎖相環(huán)無(wú)法濾除,進(jìn)而影響電子設(shè)備的健康運(yùn)行[3]。
4 總結(jié)
總而言之,在鎖相環(huán)合成器應(yīng)用中,相位噪聲難以避免,影響了電子設(shè)備的精準(zhǔn)性,阻礙了電子設(shè)備的效用發(fā)揮。而在相位噪聲完善中,若采用雙鎖相環(huán)結(jié)構(gòu),則相位噪聲會(huì)降低10log(1+FPD2/FPD),且合成器的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,極易實(shí)現(xiàn),不過(guò),器件也增大一倍,較小步進(jìn)難以實(shí)現(xiàn),混頻器也易雜散。利用鎖相環(huán)結(jié)合分頻器結(jié)構(gòu),相位噪聲降低10log(X),且合成器結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,不易引入雜散,不過(guò),難以實(shí)現(xiàn)較小步進(jìn)。而DDS激勵(lì)鎖相環(huán)應(yīng)用中,DDS輸出頻率增大一倍,相位噪聲相應(yīng)降低3dB,小步進(jìn)也容易實(shí)現(xiàn),不過(guò),若雜散進(jìn)入通帶,將難以去除。總之,結(jié)構(gòu)不同,相位噪聲改善不同,優(yōu)缺點(diǎn)相應(yīng)不同。對(duì)此,在頻率合成器實(shí)際設(shè)計(jì)中,應(yīng)嚴(yán)格依照系統(tǒng)要求,選擇最佳結(jié)構(gòu),完善相位噪聲,充分發(fā)揮合成器的效果。
參考文獻(xiàn):
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[2]孫家星, 孫越強(qiáng), 杜起飛. 鎖相環(huán)頻率合成器最優(yōu)環(huán)路帶寬的選取[J]. 固體電子學(xué)研究與進(jìn)展, 2016, 36(6):457-459.
[3]低噪聲鎖相環(huán)頻率合成器的研究與設(shè)計(jì)[D]. 南京郵電大學(xué), 2018(7):34-34.