楊雪蕾 趙斌 馮飛 周海梅 楊恒 李昕欣

摘?要?基于微機(jī)電系統(tǒng)（Micro-electro-mechanical system， MEMS）技術(shù)設(shè)計(jì)制造了一種含有橢圓微柱陣列的半填充微色譜柱，此微色譜柱內(nèi)壁以孔徑約2 nm、具有大比表面積的介孔二氧化硅（Mesoporous silica，MS）薄膜為固定相。在相同進(jìn)樣量下，采用程序升溫模式進(jìn)行測(cè)試，以介孔二氧化硅為固定相的微色譜柱，可實(shí)現(xiàn)烷烴（C5～C10）的基線分離，其中戊烷與溶劑（雜質(zhì)）峰分離度達(dá)3.6，與以二甲基硅油（Polydimethylsiloxane，PDMS）為固定相的微色譜柱相比，辛烷理論塔板數(shù)提高了46%，可達(dá)14458 plates， 壬烷的峰面積提高了349.8%。

關(guān)鍵詞?介孔二氧化硅; 半填充微色譜柱; 微機(jī)電系統(tǒng)

1?引 言

氣相色譜（GC）是一項(xiàng)應(yīng)用廣泛的分析檢測(cè)技術(shù)，常用于醫(yī)療診斷、環(huán)境監(jiān)測(cè)和石油煉制等領(lǐng)域[1～3]。傳統(tǒng)的商業(yè)氣相色譜儀由于體積大、質(zhì)量重、功耗高，難以滿足實(shí)時(shí)、現(xiàn)場(chǎng)的檢測(cè)需求。為了進(jìn)一步適應(yīng)各種檢測(cè)要求和檢測(cè)環(huán)境，氣相色譜系統(tǒng)的微型化成為重要的發(fā)展方向之一[4～7]。其中，氣相色譜柱的微型化是氣相色譜系統(tǒng)微型化的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。

微機(jī)電系統(tǒng)（Micro-electro-mechanical system， MEMS）技術(shù)為氣相色譜柱的微型化提供了關(guān)鍵的技術(shù)支持[8～11]。20世紀(jì)70年代末，美國(guó)斯坦福大學(xué)Terry等[12]制造出基于MEMS技術(shù)的硅基微型氣相色譜柱，開(kāi)啟了MEMS技術(shù)用于氣相色譜柱微型化的研究?；贛EMS技術(shù)制造的氣相微色譜柱具有體積小、功耗低、分析時(shí)間短的優(yōu)點(diǎn)[13，14]。影響氣相微色譜柱分離性能的關(guān)鍵因素是內(nèi)部結(jié)構(gòu)[15]和固定相[16]。目前，按照內(nèi)部結(jié)構(gòu)將氣相微色譜柱主要分為三類： 開(kāi)口微色譜柱、半填充微色譜柱和填充微色譜柱。其中，半填充微色譜柱兼具開(kāi)口微色譜柱柱壓降低和填充微色譜柱比表面積大的優(yōu)點(diǎn)，在微型化研究中受到了廣泛關(guān)注。2009年，美國(guó)弗吉利亞大學(xué)Ali等[17]設(shè)計(jì)了一種含有方形微柱陣列的半填充微色譜柱，首次提出了半填充微色譜柱的概念。2017年，為進(jìn)一步的增大表面積，提高分離性能，Shakeel等[18]設(shè)計(jì)了含有密排圓形微柱陣列的半填充微色譜柱，但該色譜柱在提升表面積的同時(shí)帶來(lái)柱壓降增大的困擾。2018年，本研究組在前期工作中設(shè)計(jì)了含有橢圓微柱陣列的半填充微色譜柱[19]，該結(jié)構(gòu)在增加了表面積的同時(shí)，實(shí)現(xiàn)了柱壓降的降低。

另一方面，還可通過(guò)構(gòu)筑具有大比表面積的納米結(jié)構(gòu)材料作為固定相，增大柱內(nèi)表面積，提高分離性能。如金納米粒子[20]、二氧化硅納米粒子[21]和氧化鋁納米粒子[22]已被應(yīng)用于微色譜柱的研究中，并獲得了較好的分離效果。介孔二氧化硅（Mesoporous silica， MS）材料具有大的比表面積和有序的結(jié)構(gòu)，并且生產(chǎn)成本低，化學(xué)穩(wěn)定性和熱穩(wěn)定性好，這些優(yōu)點(diǎn)使得MS在分離、催化、傳感器等領(lǐng)域受到了廣泛關(guān)注[23]。本課題組在前期工作中完成了對(duì)介孔二氧化硅作為固定相載體[24]和介孔二氧化硅孔徑大小對(duì)分離性能的影響[25]的研究。在前期工作基礎(chǔ)上，基于MEMS技術(shù)制備了一種含有橢圓微柱陣列的半填充微色譜柱，進(jìn)一步對(duì)比研究了分別以介孔二氧化硅和二甲基硅油為固定相時(shí)的分離性能。

本研究以十六烷基三甲基溴銨（Cetyltriethylammnonium bromide，CTAB）為模板劑，采用溶膠-凝膠法合成介孔二氧化硅，再通過(guò)提拉法將介孔二氧化硅薄膜構(gòu)筑到具有橢圓微柱陣列的半填充微色譜柱表面，作為固定相（MS-Column）增大表面積，提高分離性能。與二甲基硅油（Polydimethylsiloxane， PDMS）為固定相的微色譜柱（PDMS-Column）對(duì)比，此微色譜柱實(shí)現(xiàn)了烷烴（C5～C10）的基線分離，其中戊烷和溶劑（雜質(zhì)）峰的分離度顯著提高，達(dá)到3.6; 辛烷理論塔板數(shù)提高了46%，達(dá)到14458 plates; 壬烷的峰面積提高了349.8%。

2?實(shí)驗(yàn)部分

2.1?儀器與試劑

Magellan 400場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡（美國(guó)FEI公司），加速電壓2 kV; GC2014色譜分析儀（日本Shimadzu 公司）。CTAB（美國(guó)Sigma-Aldrich公司）; 正硅酸乙酯（Tetraethoxysilane，TEOS，美國(guó)Aladdin公司）; PDMS（美國(guó)Aladdin公司）; 烷烴（C5～C10，包括戊烷（Pentane）、己烷（Hexane）、庚烷（Heptane）、辛烷（Octane）、壬烷（Nonane）、癸烷（Decane），質(zhì)量濃度1 g/L，上海安譜實(shí)驗(yàn)科技股份有限公司）。

2.2?含橢圓微柱陣列的氣相微色譜柱制造工藝

含橢圓微柱陣列的氣相微色譜柱的制作工藝流程如圖1所示。在500 μm厚的硅片上氧化2 μm的SiO2阻擋層，如圖1A; 將1.4 μm厚的LC100A光刻膠以3000 r/min旋涂在SiO2上進(jìn)行光刻（圖1B）; 通過(guò)反應(yīng)離子刻蝕技術(shù)（Reactive ion etching，RIE）刻蝕SiO2（圖1C）; 通過(guò)深反應(yīng)離子刻蝕（Deep reactive ion etching， DRIE）技術(shù)刻蝕出截面為250 μm×300 μm的深溝道和橢圓微柱陣列（圖1D）; 刻蝕完成后去除表面的SiO2阻擋層。然后以表面活性劑CTAB為模板劑，通過(guò)溶膠-凝膠法使得硅源TEOS在酸性環(huán)境下發(fā)生水解和縮聚，制備介孔二氧化硅膠體溶液[24]。經(jīng)提拉法將制作的二氧化硅膠體溶液沉積到微色譜柱內(nèi)表面，并在550℃高溫煅燒8 h，去除模板劑，最終產(chǎn)生介孔結(jié)構(gòu)（圖1E）; 通過(guò)陽(yáng)極鍵合工藝完成硅片和玻璃蓋板的鍵合，形成氣密的微溝道（圖1F）。

2.3?不同固定相的氣相微色譜柱測(cè)試條件

分離實(shí)驗(yàn)采用火焰離子化檢測(cè)器（Flame ionization detector， FID）進(jìn)行檢測(cè)。對(duì)烷烴（C5～C10）樣品測(cè)試時(shí)，樣品溶解在二硫化碳（CS2）中，濃度為1 g/L，載氣為N2，進(jìn)樣器和檢測(cè)器溫度為250℃，自動(dòng)進(jìn)樣量為1 μL，分流比為5∶1，測(cè)試的色譜柱溫度控制采用程序升溫模式。MS-Column 的溫度參數(shù)為在60℃保持3 min，再以50℃/min的升溫速率升至170℃并保持恒溫。PDMS-Column 的溫度參數(shù)為30℃保持3 min，再以30℃/min的升溫速率升至70℃并保持恒溫。

3?結(jié)果與討論

3.1?氣相微色譜柱的結(jié)構(gòu)

封裝后的微色譜柱芯片的照片如圖2A所示，芯片尺寸為4.5 cm×3.0 cm，溝道總長(zhǎng)度為2 m，在進(jìn)、出口處用環(huán)氧樹(shù)脂封裝有兩根內(nèi)徑為250 μm的不銹鋼毛細(xì)管。用于涂覆PDMS和介孔二氧化硅的微色譜柱溝道內(nèi)部結(jié)構(gòu)和尺寸完全相同，其掃描電鏡圖如圖2B所示，微色譜柱的溝道內(nèi)有排列規(guī)則整齊的橢圓微柱陣列，溝道寬250 μm、深300 μm，每排有4根微柱，橢圓微柱截面半長(zhǎng)軸和半短軸分別為30和10 μm，微柱中心距離溝道側(cè)壁47 μm，柱中心間距在短軸與長(zhǎng)軸方向上分別為52和80 μm。構(gòu)筑在微色譜柱溝道表面的介孔二氧化硅薄膜層的平面和截面的掃描電鏡圖如圖2C和2D所示，介孔二氧化硅的孔徑約2 nm，薄膜厚度約32 nm。

3.2?氣相微色譜柱的COMSOL軟件仿真與分析

溝道內(nèi)氣體流場(chǎng)的均勻性會(huì)對(duì)氣相微色譜柱分離性能產(chǎn)生影響： 當(dāng)流速不均勻時(shí)，氣體組分會(huì)從多條不同長(zhǎng)度的路徑通過(guò)色譜柱，導(dǎo)致“峰展寬”，使得柱效和分離度降低。使用COMSOL Multiphysics 5.2a軟件對(duì)所設(shè)計(jì)的含有橢圓微柱陣列的微色譜柱進(jìn)行仿真，并將其結(jié)果與含有圓微柱陣列的微色譜柱進(jìn)行對(duì)比，圓微柱陣列尺寸與文獻(xiàn)[25]中圓柱陣列微色譜柱的尺寸相同，圓微柱截面半徑為20 μm，每排有3根微柱，微柱中心距離溝道側(cè)壁55 μm，柱中心間距在X軸與Y軸上分別為80和70 μm。通過(guò)計(jì)算可知，含有橢圓微柱陣列的微色譜柱的表面積和有效寬度相較于含有圓微柱陣列的微色譜柱分別提高了29%和30%。仿真結(jié)果如圖3所示。圖3A和3C分別為相同柱壓下含有圓微柱陣列和橢圓微柱陣列的微溝道內(nèi)載氣流場(chǎng)仿真圖，

圖3B和3D分別為溝道內(nèi)距入口相同距離處載氣線速度曲線圖。對(duì)比可知，相同距離內(nèi)含有橢圓微柱陣列的微色譜柱最大流速差為38%，含有圓柱陣列的微色譜柱最大流速差為72%，即含有橢圓微柱陣列的微色譜柱具有更均勻的流速。含有橢圓微柱陣列的微色譜柱不僅可以增大表面積，還具有更優(yōu)的流場(chǎng)分布，本實(shí)驗(yàn)采用含有橢圓微柱陣列微色譜柱。

3.3?分析測(cè)試結(jié)果

烴類混合氣體的分離檢測(cè)在石油化工、勘探等行業(yè)中應(yīng)用廣泛，高效的分離該類混合氣體是氣相色譜領(lǐng)域關(guān)注的問(wèn)題之一。為研究以介孔二氧化硅為固定相含有橢圓微柱陣列的微色譜柱（MS-Column）的分離性能，選擇烷烴C5～C10樣品進(jìn)行了測(cè)試，并和涂覆PDMS固定相的含有橢圓微柱陣列的微色譜柱（PDMS-Column）進(jìn)行對(duì)比，測(cè)試溫度條件如2.3節(jié)所述。

首先測(cè)試了兩種微色譜柱MS-Column和PDMS-Column的Van Deemter曲線，橫坐標(biāo)為溝道內(nèi)氣體的流速，縱坐標(biāo)為理論塔板高度（Height equivalent of theoretical plate， HETP）。根據(jù)辛烷理論塔板高度和載氣流速的關(guān)系繪制Van Deemter曲線，如圖4所示。由圖4可知，MS-Column的理論塔板高度小于PDMS-Column，即采用介孔二氧化硅做固定相提高了微色譜柱的柱效; MS-Column的最優(yōu)載氣流速為8.6 cm/s，PDMS-Column的最優(yōu)載氣流速為12.1 cm/s。對(duì)比兩種微色譜柱在最優(yōu)流速下的分離性能，當(dāng)MS-Column和PDMS-Column內(nèi)氣體流速的實(shí)際流速分別為8.6 cm/s和12.1 cm/s時(shí)，兩種色譜柱分離C5～C10的圖譜如圖5所示。從分離效率來(lái)看，MS-Column中辛烷的理論塔板數(shù)為14458 plates， 比PDMS-Column中辛烷的最高理論塔板數(shù)提高了46%。從分離度來(lái)看，如圖5A和5B所示，PDMS-Column未能將戊烷和溶劑（雜質(zhì)）峰分離開(kāi); 而如圖5C和5D所示，MS-Column實(shí)現(xiàn)了C5～C10之間的基線分離，戊烷和溶劑（雜質(zhì)）峰的分離度達(dá)3.6。表1中列出了此實(shí)驗(yàn)條件下兩種微色譜柱的峰面積。經(jīng)對(duì)比可知，構(gòu)筑介孔二氧化硅后，峰面積大幅提高，其中壬烷峰面積提高了349.8%。上述結(jié)果表明，由于構(gòu)筑介孔二氧化硅，MS-Column的表面積遠(yuǎn)大于PDMS-Column，在相同柱長(zhǎng)條件下，MS-Column具有更高的分離效率、分離度和柱容量。

4?結(jié) 論

基于MEMS技術(shù)設(shè)計(jì)制作了一種含有橢圓微柱陣列的微色譜柱，與含有圓微柱陣列的微色譜柱相比，含有橢圓微柱陣列的微色譜柱表面積增加了29%，且具有更均勻的流場(chǎng)分布，這有利于提高微色譜柱的分離效率。構(gòu)筑介孔二氧化硅作為含有橢圓微柱陣列的微色譜柱的固定相，大幅增加柱內(nèi)表面積。與涂覆PDMS固定相的微色譜柱相比，構(gòu)筑介孔二氧化硅后微色譜柱具有更好的分離性能，實(shí)現(xiàn)了對(duì)烷烴C5～C10的基線分離，對(duì)辛烷的分離效率達(dá)14458 plates，且能大幅提高分離組分的峰面積，其中壬烷峰面積提高了349.8%。以大比表面積介孔二氧化硅為固定相的微色譜柱分離性能優(yōu)越，在氣相色譜系統(tǒng)微型化中具有廣泛的應(yīng)用前景。

References

1?MENG Hu， ZHAO Jing-Hong， DUAN Chun-Feng， HAO Liang， GUAN Ya-Feng. Chinese J. Anal. Chem.， 2014， 42（7）： 931-936

孟 虎， 趙景紅， 段春鳳， 郝 亮， 關(guān)亞風(fēng). 分析化學(xué)， 2014， ?42（7）： 931-936

2?XU Jian-Ling， SHENG Lian-Xi， WANG Han-Xi， LIU Yuan-Yuan， ZHANG Tian. Chinese J. Anal. Chem.， 2014， ?42（10）： 1513-1517

徐建玲， 盛連喜， 王漢席， 劉元園， 張 田. 分析化學(xué)， ?2014， ?42（10）： 1513-1517

3?ZHAO Xiao-Ya， WANG Yue-Fei， YANG Fan， JIANG Zhen-Zuo， WANG Yan， YANG Long， PAN Zan-Hong. Chinese J. Anal. Chem.， 2016， ?44（7）： 1009-1014

趙曉亞， 王躍飛， 楊 帆， 江振作， 王 琰， 楊 龍， 潘贊紅. ?分析化學(xué)， ?2016， ?44（7）： 1009-1014

4?Overton E B， Dharmasena H P， Ehrmann U， Carney K R. ?Field Anal. Chem. Tech.， 2015， ?1（2）： 87-92

5?Haghighi F， Talebpour Z， Sanati-Nezhad A. Lab Chip， 2015， ?15（12）： 2559-2575

6?Alfeeli B， Narayanan S， Moodie D， Zellner P， McMillan M， Hirtenstein D， Rice G， Agah M. IEEE Sens. J.， 2013， ?13（11）： 4312-4319

7?Regmi B P， Agah M. Anal. Chem.， 2018， ?90（22）： 13133-13150

8?Sun J， Cui D， Chen X， Zhang L， Cai H， Li H. J. Chromatogr. A， 2013， ?1291： 122-128

9?Li Y， Du X， Wang Y， Tai H， Qiu D， Lin Q， Jiang Y. RSC Adv.， 2014， ?4（8）： 3742-3747

10?Bhushan A， Yemane D， Overton E B， Goettert J， Murphy M C. J. Microelectromech. Syst.， 2007， ?16（2）： 383-393

11?Zellner P， Renaghan L， Hasnain Z， Agah M. J. Micromech. Microeng.， 2010， ?20（4）： 045013

12?Terry S C， Jerman J H， Angell J B. IEEE T Electron Dev.， 1979， ?26（12）： 1880-1886

13?Michael S， Mcbrady A D， Brian D， Reid V R， Aleksandr N， Synovec R E， Olgica B. Anal. Chem.， 2006， ?78（16）： 5639-5644

14?Agah M， Wise K D. J. Microelectromech. Syst.， 2007， ?16（4）： 853-860

15?Alfeeli B， Narayanan S， Mcmillan M， Hirtenstein D， Rice G， Agah M. In Proc. IEEE Sens.， 2011， ?25（35）： 1097-1100

16?Azzouz I， Vial J， Thiébaut D， Haudebourg R， Danaie K， Sassiat P， Breviere J. Anal. Bioanal. Chem.， 2013， ?406（4）： 981-994

17?Ali S， Ashraf-Khorassani M， Taylor L T， Agah M. Sens. Actuators B， 2009， ?141（1）： 309-315

18?Shakeel H， Agah M. Sens. Actuators B， 2017， ?242： 215-223

19?Tian B， Zhao B， Feng F， Luo F， Zhou H， Ge X， Wu Y， Li X. J. Chromatogr. A， 2018， ?1565： 130-137

20?Shakeel H， Agah M. J. Microelectromech. Syst.， 2013， ?22（1）： 62-70

21?Dong W， Hamza S， John L， Rice G W， Heflin J R， Masoud A. Anal. Chem.， 2013， ?85（17）： 8135-8141

22?Haudebourg R， Vial J， Thiebaut D， Danaie K， Breviere J， Sassiat P， Azzouz I， Bourlon B. Anal. Chem.， 2013， ?85（1）： 114-120

23?TIAN Hua-Jun， XUE Yun， CHEN Qiao-Mei， WANG Yan， YAN Chao. Chinese Journal of Chromatography， 2017， 35（5）： 473-481

田華君， 薛 蕓， 陳巧梅， 王 彥， 閻 超. 色譜， 2017， 35（5）： 473-481

24?Luo F， Zhao B， Feng F， Hou L， You W， Xu P， Zhou H， Li X. Talanta， 2018， ?188： 546-551

25?Hou L， Feng F， You W， Xu P， Luo F， Tian B， Zhou H， Li X. J. Chromatogr. A， 2018， ?1552： 73-78