北京京東方顯示技術(shù)有限公司 盛大德 王立夫 龐華山 武占英 毛繼禹
Mura一詞源于日本,在平板顯示領(lǐng)域中,已將Mura作為用來(lái)表示顯示器一種典型顯示缺陷的一個(gè)專(zhuān)業(yè)術(shù)語(yǔ)[2]。Mura檢查機(jī)(結(jié)構(gòu)圖見(jiàn)圖1)檢出原理為通過(guò)檢測(cè)光源在PR膠上膜面的平整度的檢查,由檢查區(qū)CCD采集圖像數(shù)據(jù)傳輸至PC進(jìn)行處理和缺陷分析,區(qū)分出Mura區(qū)與非Mura區(qū),最終形成圖像(見(jiàn)圖2)。檢查光源根據(jù)Photo各工藝區(qū)分使用反射或透射,光源參數(shù)的合理正確設(shè)置成為確保Mura檢查機(jī)檢出率的關(guān)鍵因素。
圖1 Mura機(jī)結(jié)構(gòu)
圖2 Mura圖像
1.確定響應(yīng)變量Y為Photo BM 檢出率
響應(yīng)變量Y名稱(chēng)度量單位數(shù)據(jù)類(lèi)型(連續(xù)or離散) 當(dāng)前水平 目標(biāo)水平 特性(望大、望小、望目)BM Mura檢出率 - 連續(xù) 60% 90% 望大
2.影響因素X確定為RGB三種光源
3.使用Minitab軟件生成試驗(yàn)方案,采用全因子實(shí)驗(yàn),通過(guò)實(shí)驗(yàn),錄入檢出率Y:
4.試驗(yàn)生成,結(jié)果解讀
模型整體:P=0.002<0.05,總體有效;
模型彎曲:P=0.405>0.05,不存在彎曲;
判定標(biāo)準(zhǔn):
(檢查方差分析表中的總效果,看模型項(xiàng)對(duì)應(yīng)的P值,p>0.05,則模型無(wú)效)
(檢查方差分析表中的彎曲項(xiàng), P值應(yīng)大于0.05,說(shuō)明無(wú)彎曲項(xiàng))
(檢查方差分析表中的失擬現(xiàn)象, P值應(yīng)大于0.05,說(shuō)明無(wú)失擬)
標(biāo)準(zhǔn)差估計(jì)值:S=0.015;
(S值不宜看其絕對(duì)大小,多用于模型比較,具有較小S值的模型較好)
多元全相關(guān)系數(shù):R-sq=99.50%;
調(diào)整多元全相關(guān)系數(shù):R-sq(調(diào)整)=98.01%;
(與多元全相關(guān)系數(shù)相差大,存在改進(jìn)空間)
預(yù)測(cè)多元全相關(guān)系數(shù):R-sq(預(yù)測(cè))= 58.04%;
(預(yù)測(cè)值與調(diào)整值相差大,預(yù)測(cè)能力差)
(多元全相關(guān)系數(shù)R-sq和修正的多元全相關(guān)系數(shù)R-sq(adj)均越接近于1越好, 兩者之差越小越好)
R、G 、B 、R*G為顯著因子,其他均為非顯著因子;
判定標(biāo)準(zhǔn):(查看各系數(shù)對(duì)應(yīng)的p值,> 0.05,表明不顯著,≤0.05,說(shuō)明顯著。)
判斷標(biāo)準(zhǔn):Minitab繪制直線以表明如果效應(yīng)為零時(shí)點(diǎn)所落的預(yù)期位置;因此距離越遠(yuǎn),因子影響越顯著。由上圖可知。
①R、G、B、R*G顯著影響因子;其他為非顯著影響因子;
②根據(jù)正態(tài)分布情況以及散點(diǎn)圖需優(yōu)化模型,剔除非顯著因子。
5.模型縮減再次實(shí)驗(yàn),剔除非顯著因子
S 0.015 0.011 ↑0.01 R-sq 99.50% 99.47% ↓0.03%R-sq(adj) 98.01% 99.11% ↑1.1%R-sq(預(yù)測(cè)) 58.04% 98.96% ↑40.92%
1.縮減模型的S值較之前上升0.01;理論上S值應(yīng)該越小越好;
2.縮減模型的R-Sq下降0.03%;
3.R-Sq(adj)上升1.1%;
理論上R-Sq和R-Sq(adj)兩個(gè)值應(yīng)該越大且越接近“1”為好;
4.縮減模型的R-Sq(預(yù)測(cè))較之前上升40.92%,模型預(yù)測(cè)的準(zhǔn)確度有所上升;
5.綜上所述,縮減模型的總體效果比縮減前的效果更好。
判斷標(biāo)準(zhǔn):Minitab繪制直線以表明如果效應(yīng)為零時(shí)點(diǎn)所落的預(yù)期位置;因此距離越遠(yuǎn),因子影響越顯著。由上圖可知。
①R、G、B、R*G顯著影響因子;其他為非顯著影響因子;
②根據(jù)正態(tài)分布情況以及散點(diǎn)圖需優(yōu)化模型,剔除非顯著因子;
結(jié)論:模型無(wú)明顯異常;可進(jìn)行下一步實(shí)驗(yàn);
6.通過(guò)響應(yīng)優(yōu)化器結(jié)果解讀,發(fā)現(xiàn)當(dāng)R變小,G,B增大情況下檢出率最高,并找到最優(yōu)參數(shù)組合:R 0.0 G200 B200情況下時(shí),檢出率=94.45%
7.驗(yàn)證試驗(yàn)參數(shù),實(shí)驗(yàn)成功
選擇最優(yōu)參數(shù)組合(R 0.0 G200 B200)
檢測(cè)基板231張(含限度樣本73張+缺陷基板40張+ok基板118張)進(jìn)行測(cè)試,缺陷檢出率96.5%,為確保實(shí)驗(yàn)準(zhǔn)確性,通過(guò)Macro設(shè)備進(jìn)行逐一最終確認(rèn)。結(jié)論實(shí)驗(yàn)達(dá)到預(yù)期效果。
[1]倪計(jì)民,杜倩穎,周英杰,劉疆,楊挺然.DoE在高壓共軌柴油機(jī)優(yōu)化設(shè)計(jì)中的應(yīng)用[J].內(nèi)燃機(jī)學(xué)報(bào),2009,27(03):231-236.
[2]嚴(yán)成宸.TFT-LCD的Mura缺陷檢測(cè)技術(shù)研究[D].合肥工業(yè)大學(xué),2017.