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淺談大數(shù)據(jù)時代半導(dǎo)體工藝技術(shù)發(fā)展的新模式

2017-07-10 01:41包禎美
科技風(fēng) 2017年7期
關(guān)鍵詞:工藝技術(shù)半導(dǎo)體大數(shù)據(jù)

摘 要:隨著網(wǎng)絡(luò)化發(fā)展的不斷深入, 大數(shù)據(jù)廣泛普及到生活中的方方面面,尤其是在大數(shù)據(jù)背景下,這對半導(dǎo)體工藝技術(shù)的發(fā)展影響也較為深遠。因此,本文就大數(shù)據(jù)視角下如何進行半導(dǎo)體工藝技術(shù)的發(fā)展及其未來發(fā)展的新模式進行了分析論述。

關(guān)鍵詞:半導(dǎo)體;工藝技術(shù);大數(shù)據(jù)

導(dǎo)體、半導(dǎo)體、絕緣體三者之間的電導(dǎo)率存在著如下關(guān)系:絕緣體>半導(dǎo)體>導(dǎo)體。而且,一定的溫度條件范圍下,溫度升高,半導(dǎo)體內(nèi)部的電荷載流子濃度也隨之升高,造成其電導(dǎo)率降低,半導(dǎo)體的此種獨特的性質(zhì)使近四分之三的領(lǐng)域包括醫(yī)療衛(wèi)生、生產(chǎn)生活、科研教學(xué)等都廣泛使用半導(dǎo)體進行溫度測量。同時,因其良好的光學(xué)和電學(xué)性質(zhì),半導(dǎo)體還廣泛地應(yīng)用于無線電產(chǎn)品,LED照明,太陽能電池等光學(xué)和電學(xué)產(chǎn)品。因此,本文就大數(shù)據(jù)時代背景下如何提升半導(dǎo)體工藝技術(shù)水平進行了分析探討。

一、半導(dǎo)體材料的歷史發(fā)展

半導(dǎo)體具有獨特的屬性,廣泛應(yīng)用于各個領(lǐng)域,隨著信息時代迅猛發(fā)展與科技的飛速進步,各個行業(yè)領(lǐng)域要求材料和器件具有多種功能。因此研究開發(fā)具有多種功能的新型半導(dǎo)體勢在必行。

單晶體的鍺與硅是早期使用的半導(dǎo)體材料。首個制造晶體管與固態(tài)器件的半導(dǎo)體材料就是鍺,但因為鍺的性能有限且難于加工,不能制造出人們理想中的產(chǎn)品,所以幾乎沒人繼續(xù)使用。Si有廣泛的來源,同時兼?zhèn)渲圃旃に嚭唵?、可加工性強的特性,利用其成套的制造方法可得到成本低集成度高的?yōu)質(zhì)半導(dǎo)體材料。所以硅一直被人們應(yīng)用,是現(xiàn)代應(yīng)用最廣的半導(dǎo)體材料之一。由于Si傳輸速度較慢且功能單一,化合物半導(dǎo)體應(yīng)運而生?;衔锇雽?dǎo)體是至少由兩種元素組成的具有半導(dǎo)體性質(zhì)的一種化合物。化合物半導(dǎo)體產(chǎn)品因其能耗低、速度快等優(yōu)點而被廣泛應(yīng)用到各個行業(yè)?;衔锇雽?dǎo)體工藝起步晚且不成熟,在某些性能上雖不如Si,但其制造的器件所具有的速度較快,工作溫度高,頻率響應(yīng)較好且符合集成光電子學(xué)的需求等優(yōu)點足以使之在短時間內(nèi)成為半導(dǎo)體市場的新寵

二、大數(shù)據(jù)時代背景下半導(dǎo)體材料在21世紀的發(fā)展現(xiàn)狀

目前,市場上主要的半導(dǎo)體材料有三種,分別是單晶硅、化合物半導(dǎo)體和具有二者共同性質(zhì)的混合型半導(dǎo)體,這些半導(dǎo)體材料主要用來生產(chǎn)傳統(tǒng)的大中小微型電子產(chǎn)品,由于太陽能光電池和LED節(jié)能燈的興起,半導(dǎo)體材料的市場也因此擴大。下文將介紹當前核心半導(dǎo)體材料及其加工工藝。

(一)主流半導(dǎo)體材料的介紹

目前SiC制造出的產(chǎn)品已能滿足其在500℃以上環(huán)境中使用的需求。但如今GaN的RF技術(shù)也飛速發(fā)展著,在功率性能上甚至已經(jīng)超過了Sic。Sic在市場上的地位已經(jīng)岌岌可危。SiGe化合物半導(dǎo)體材料-隨著科技的蓬勃發(fā)展,MBE、CBE等技術(shù)也隨之成熟,這為能從Si襯底上結(jié)出Ge-Ci合金,得到Si/SiGe異質(zhì)結(jié)提供了前提條件。SiGe HBT被稱為第二代Si新技術(shù),它有著比Ⅲ-Ⅴ族化合物更大的優(yōu)點,目前SiGe的目標為把技術(shù)推向市場。但仍需繼續(xù)研究如何提高其性能。

(二)半導(dǎo)體材料制備工藝

最近幾年來,各種各樣的先進技藝常被應(yīng)用于半導(dǎo)體材料的制造中,例如MBE、VCE、HVPE等。兼容手段利用外延生長法,使Si片表面外延長出幾微米薄膜,進而生產(chǎn)各種半導(dǎo)體基片。半導(dǎo)體材料技術(shù)由于兼容技術(shù)的出現(xiàn)有了很大的發(fā)展,兼容技術(shù)合并了兩種材料的獨特性質(zhì),使其性能更加優(yōu)良。據(jù)專家預(yù)言,未來半導(dǎo)體兼容技術(shù)的主要應(yīng)用市場將會是光電兼容IC。由于IC電路的特征尺寸越來越小,對集成電路襯底的主要原料-單晶硅的制造要求也越來越高。右圖為將來細微化工藝技術(shù)的發(fā)展預(yù)測表。

三、大數(shù)據(jù)時代背景下我國半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展及新模式

雖然我國已步入大數(shù)據(jù)時代,但仍有很多人不了解大數(shù)據(jù)的發(fā)展形式,有效增加大數(shù)據(jù)的應(yīng)用對我國各行各業(yè)的影響是十分重要的,且對各行各業(yè)起著引導(dǎo)作用。本文對大數(shù)據(jù)的發(fā)展形勢進行了簡單的介紹。

其一,突破科學(xué)理論。迅猛發(fā)展的大數(shù)據(jù)和互聯(lián)網(wǎng)一樣,對各行各業(yè)來說都是一個全新的挑戰(zhàn),其在相關(guān)技術(shù)的普及和突破上都是十分明顯的。

其二,建立數(shù)據(jù)科學(xué)和聯(lián)盟。是大數(shù)據(jù)在將來成為一門專業(yè)是其發(fā)展過程中的必經(jīng)之路,它會被越來越多的人熟識,除此之外,和大數(shù)據(jù)相關(guān)的行業(yè)職位也會越來越多,數(shù)據(jù)共享將會成為一個企業(yè)的產(chǎn)業(yè)中心。

其三,數(shù)據(jù)的資源化。資源化即社會和企業(yè)更多的關(guān)注已經(jīng)屬于戰(zhàn)略資源的大數(shù)據(jù)內(nèi)容,使大數(shù)據(jù)更加引人注意,因此,為獲得市場的主導(dǎo)權(quán),企業(yè)將開啟大數(shù)據(jù)資源的戰(zhàn)略計劃。

其四,深度結(jié)合云計算。云計算為處理大數(shù)據(jù)提供了強有力的支持,二者是密不可分的,其與云計算的深度結(jié)合始于2013年,由于大數(shù)據(jù)的迅速發(fā)展,大數(shù)據(jù)與云計算二者之間的關(guān)系會越來越密切。

其五,數(shù)據(jù)管理成為企業(yè)的核心競爭力。企業(yè)對大數(shù)據(jù)的理解決定著該企業(yè)的發(fā)展。而且,大數(shù)據(jù)的處理會對企業(yè)的經(jīng)營方式與管理效率產(chǎn)生直接的影響。除此之外,大數(shù)據(jù)技術(shù)還能使企業(yè)對自身進行充分的認知并指導(dǎo)企業(yè)向更好的方向發(fā)展,不容小覷。

四、結(jié)語

總行,不難發(fā)現(xiàn),隨著網(wǎng)絡(luò)信息技術(shù)的發(fā)展,尤其是大數(shù)據(jù)的影響下,我國半導(dǎo)體工藝技術(shù)的發(fā)展面臨著新的環(huán)境,一方面要如何融入大數(shù)據(jù)進行技術(shù)創(chuàng)新,提升半導(dǎo)體工藝技術(shù)水平,另一方,還要延伸半導(dǎo)體技術(shù)的價值功能,廣泛應(yīng)用生活中的各方面,這樣才能掛鉤更好的實現(xiàn)大數(shù)據(jù)和半導(dǎo)體工藝技術(shù)的發(fā)展和融合,為推動社會發(fā)展創(chuàng)造一些有益的條件。

參考文獻:

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作者簡介:包禎美,女,本科,畢業(yè)院校于重慶工商大學(xué),工作于中國振華集團永光電子有限公司(國營第八七三廠)。

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