焦曉光, 王永志
(激光探測技術研發(fā)中心, 上海 200090)
拉通型APD增益因子計算模型與驗證
焦曉光, 王永志
(激光探測技術研發(fā)中心, 上海 200090)
根據APD增益因子經驗公式和拉通型APD的結構特點,提出了一種新的適用于拉通型APD的增益因子計算模型,并進行了實驗驗證。實驗表明,在偏置電壓從0到接近擊穿電壓的全范圍內,應用該計算模型對拉通型APD增益因子的估算是準確的。
增益因子; 擊穿電壓; 偏置電壓
拉通型APD(雪崩光電二極管)具有較高的靈敏度、較寬的動態(tài)范圍和較好的溫度特性,在主動、半主動激光導引頭[1]、遠距離激光雷達和激光通信等領域廣泛使用[2-3]。
APD是一種內光電效應器件,并且具有內增益特性,1個光子可以產生10~100對電子空穴對,在其內部即可獲得較大的增益。APD工作在反向偏壓下,當反向偏壓越高,結區(qū)的電場強度越高,電子空穴對被電場加速,獲得動能,與晶格發(fā)生碰撞,就會產生新的二次電離的電子空穴對,新的電子空穴對在電場的作用下再次被加速,與晶格碰撞產生更多的電子空穴對,形成“雪崩”倍增。
典型APD的反向偏壓越接近擊穿電壓,增益迅速增大。而拉通型APD的增益隨著反向偏壓增大有明顯的分段特征。
目前,本文從拉通型APD的半導體結構出發(fā),分析了反向偏壓對APD增益的影響,提出了增益因子計算模型,并開展了試驗驗證。
1.1 拉通型APD結構
拉通型APD主要包括吸收層、過渡層、倍增層和接觸層等四層基本結構[4],如圖1所示。為了提升APD的帶寬和噪聲性能,在基本結構的基礎上會增加緩沖層、電荷層等匹配層,這些匹配層對APD的增益影響不大,本文中暫不考慮這些匹配層的影響。
圖1中,分四個區(qū)域:吸收層為P型重摻雜區(qū),記為P+,厚度較薄,其主要功能是實現吸收光子,產生光生電子空穴對;過渡層接近本征半導體的P型弱摻雜區(qū),記為P(π),厚度較厚,其主要功能是進一步吸收光子,產生光生電子空穴對,同時加速電子;倍增層為P型輕摻雜區(qū),記為P,厚度較薄,主要功能實現電子倍增;接觸層為N型重摻雜區(qū),記為N+,厚度較薄,主要功能與P區(qū)形成P-N+結,為電子倍增提供高電場。
1.2 工作過程
拉通型APD工作在反向偏壓下,如圖1所示。電子的移動主要由電場決定,工作反向偏壓下拉通型APD的電場分布如圖2所示[4]。
其工作過程:光子入射到吸收層上,把電子從價帶激發(fā)到導帶,形成光生電子空穴對,在電場作用下,電子加速,在P-N+結區(qū)與晶格碰撞,產生二次電離電子空穴對,P-N+結區(qū)的電場強度較高,新產生的電子空穴對再次與晶格碰撞,不斷循環(huán),形成“雪崩”倍增。
隨著反向偏壓越來越高,接近P-N+結的擊穿電壓,P-N+結區(qū)雪崩倍增發(fā)生,APD的增益迅速增大;同時耗盡區(qū)越來越寬,在P-N+結被擊穿之前,P及P(π)區(qū)被完全耗盡,即P區(qū)被拉通。之后隨著反向偏壓升高,APD增益開始緩慢增大,直到反向偏壓接近標稱的APD擊穿電壓時,APD的增益迅速增大。
典型的拉通型APD增益曲線如圖3所示,M代表APD的內增益,具有明顯的分段特性。
2.1 APD增益因子經驗公式
APD的內增益是由雪崩增益決定的,而雪崩過程主要是電離碰撞過程,可通過計算電離積分來獲得,其增益滿足[5]:
(1)
式中:M為APD的增益;WD為耗盡區(qū)寬度;αn為N區(qū)的電離率;αp為P區(qū)的電離率;x為位置。
其中,耗盡區(qū)寬度和電離率主要與反向偏壓、材料摻雜情況有關。僅考慮倍增區(qū)時,N區(qū)電離率與P區(qū)電離率接近時,增益因子簡化為
(2)
式中:α為電離率。
式(2)中,αWD與反向偏壓和擊穿電壓的比值有關,滿足經驗公式αWD=(U/UBR)n。因此,APD增益因子的經驗公式為[6]
(3)
式中:U為反向偏壓;UBR為擊穿電壓;n為結構指數,主要與材料和摻雜有關。
2.2 拉通型APD增益因子計算模型
2.2.1 拉通前后電場分析
拉通型APD之所以呈現分段特征,是由于拉通前后的電場分布有明顯區(qū)別。
在P區(qū)尚未耗盡之前(拉通前),P-N+結的電阻遠遠大于P區(qū);隨著反向偏壓增大,P-N+結的電場不斷增強,P區(qū)電場可忽略不計。電場分布如圖4所示。
在P區(qū)完全耗盡后(拉通后),N+區(qū)也接近耗盡,P-N+結的電場強度已接近極限,此時反向偏壓的增加主要使P區(qū)電場增加,P-N+結的電場增加量極少。電場分布如圖5所示。
2.2.2 拉通型APD增益因子計算公式
根據拉通前的電場分布,拉通型APD的增益因子與式(3)相同,即
(4)
式中:MRAPD為增益因子;URAPD為反向偏壓;UBR′為P-N+結的擊穿電壓;Urth為拉通電壓。
根據拉通后的電場分布,拉通之后,增加的方向偏壓主要用于增強耗盡區(qū)的電場,結區(qū)的電場增加極小。假設結區(qū)增加的電勢與耗盡區(qū)增加的電勢之比為K,考慮APD的增益主要由結區(qū)電場決定,仍與式(3)類似,則拉通后的增益因子滿足:
(5)
式中:K為拉通后結區(qū)電勢增加量與耗盡區(qū)電勢增加量之比。
式(4)和式(5)即為拉通型APD的增益因子計算公式。
3.1 拉通型APD增益曲線測試
選取First Sensor公司型號為QA4000和AD1100-9的兩款拉通型APD作為測試對象,其中QA4000為四象限探測器,是1 064 nm增強型,AD1100-9為單象限探測器,是905 nm增強型。
使用衰減片和光闌獲得極弱的入射光,采用高壓模塊為APD提供反向偏壓,采用nA級電流表監(jiān)測APD輸出的光電流。不斷調整反向偏壓,記錄電流表的讀數。
APD的增益因子定義為輸出光電流與輸入光電流之比,當反向偏壓為0時的光電流即為輸入光電流,即
(6)
式中:MI為增益因子;IU為反向偏壓下輸出的光電流;I0為輸入光電流。
根據式(6)即可獲得增益曲線(M-U)。
3.2 結果分析
QA4000的M增益曲線測試結果與M增益計算結果(根據式(4)和式(5),選取三點對三個參數進行求解得到Urth=46,K=0.002 25,n=7),如圖6所示。
AD1100-9 M增益曲線測試結果與M增益計算結果(與QA4000參數計算方式相同),如圖7所示。
本文提出的拉通型APD增益因子計算模型
能夠覆蓋反向偏壓工作的全范圍,且與實測數據符合度較高。利用這一計算模型,可以有效簡化拉通型APD增益因子的測試,同時也可為拓展拉通型APD反向偏壓控制范圍和優(yōu)化控制范圍提供理論指導。
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Experimental Model and Verification of a Gain Factor for Reach-through APD
JIAOXiao-guang,WANGYong-zhi
(Laser R&D Center of Detection Technology, Shanghai 200090, China)
A novel calculation model of gain factor for reach-through APD is proposed based on the empirical formula of APD gain factor and the structure of reach-through APD. Experimental verification is carried out. By progressively changing the bias voltage from zero to near-breakdown voltage, the model is experimentally demonstrated to be applicative for gain factor estimation of reach-through APD in the range.
gain factor; breakdown voltage; bias voltage
1671-0576(2017)01-0033-04
2016-09-30
焦曉光(1985-),男,工程師,碩士,主要從事激光雷達及光電探測器方面研究;王永志(1987-),男,工程師,博士,主要從事激光雷達及非線性光學等方面研究。
O437.1; TN929.1
A