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X射線管屏數(shù)字成像的研究與分析

2017-03-27 08:16:05王占富宋智文
科技創(chuàng)新與應(yīng)用 2017年4期
關(guān)鍵詞:X射線設(shè)備

王占富+宋智文

摘 要:文章從管屏數(shù)字成像原理、設(shè)備主要構(gòu)成、設(shè)備參數(shù)選擇和實(shí)際測(cè)試等方面介紹了管屏數(shù)字成像。并通過實(shí)際參數(shù)實(shí)驗(yàn)將X射線管屏數(shù)字成像設(shè)備的成像質(zhì)量調(diào)整到了最佳狀態(tài)。

關(guān)鍵詞:X射線;數(shù)字成像;設(shè)備

1 管屏X射線數(shù)字成像設(shè)備主要工作原理

X射線數(shù)字成像是以數(shù)字化的面陣探測(cè)器作為X射線的信號(hào)檢測(cè)器,該種探測(cè)器的外層是對(duì)X射線光子具有高吸收率的晶體屏,它吸收X射線并轉(zhuǎn)換成可見光;轉(zhuǎn)換的可見光信號(hào)再由非晶硅光電二極管轉(zhuǎn)換成電荷;形成的電荷經(jīng)過不斷積累最后由薄膜晶體管TFT集成電路讀出,并完成模擬信號(hào)到數(shù)字信號(hào)的轉(zhuǎn)換。

外層的光子轉(zhuǎn)換屏越厚,轉(zhuǎn)換的可見光就越多,但同時(shí)系統(tǒng)能夠記錄的最小細(xì)節(jié)尺寸會(huì)隨之增大;光電二極管的間距被叫做數(shù)字圖像的像素間距,間距越大,電荷轉(zhuǎn)換效率越高,但它又限制著系統(tǒng)能夠辨別的最小細(xì)節(jié)尺寸,過大的像素間距會(huì)導(dǎo)致一些細(xì)小特征無(wú)法成像或辨認(rèn)。

2 管屏X射線數(shù)字成像設(shè)備構(gòu)成

2.1 X射線機(jī)

采用高頻率、高穩(wěn)定的微處理器控制的恒壓320kV X射線機(jī)系統(tǒng)。配COMET金屬陶瓷MXR-320kV/23 X射線管,其雙焦點(diǎn) 1.0/0.4mm,焦點(diǎn)功1800W/800W,最高工作電壓320kV,管電壓50~320kV連續(xù)可調(diào),自動(dòng)恒功率操作。其特點(diǎn):工作頻率40KHZ,抗干擾,紋波小,高穩(wěn)定性連續(xù)工作時(shí)間長(zhǎng)等優(yōu)點(diǎn)。

2.2 圖像系統(tǒng)

采用美國(guó)珀金埃爾默XRD 0822AP平板X射線探測(cè)器,具有88 d B的動(dòng)態(tài)范圍以及高達(dá)每秒100幀的幀頻(fps)、具有多種讀出方式。探測(cè)器適用從60kev-15MeV的寬泛的射線能級(jí)并可選配多種射線防護(hù)及閃爍體。圖像亮度和對(duì)比度連續(xù)可調(diào)并能夠充分滿足圖像觀測(cè)要求。

二套光柵分別安裝在X射線管和平板探測(cè)器上,其中X射線管前的光柵是氣動(dòng)控制光閘,為的是進(jìn)管時(shí)保護(hù)平板探測(cè)器不受射線直接照射;而平板前的光柵是電動(dòng)控制光閘,且水平方向的上、下和垂直方向的左、右均可實(shí)現(xiàn)分別單獨(dú)控制,為的是更好的屏蔽部分圖像系統(tǒng)的輸入屏,使局成像清晰準(zhǔn)確,從而提高成像的質(zhì)量。

2.3 工控機(jī)

工控機(jī)用于采集檢測(cè)的圖像信息,進(jìn)行圖像處理并對(duì)檢測(cè)圖像進(jìn)行技術(shù)評(píng)定,例如一條環(huán)形焊縫動(dòng)態(tài)圖像的連續(xù)觀察或靜態(tài)圖像的多次截取以及圖像對(duì)比度的調(diào)整等,加上產(chǎn)品令號(hào)、編號(hào)、時(shí)間、操作人員等多項(xiàng)信息的同屏顯示等等??傊ㄟ^軟件的處理,可實(shí)時(shí)觀測(cè)到時(shí)檢測(cè)圖像內(nèi)部的各項(xiàng)信息。檢測(cè)結(jié)果可儲(chǔ)存并刻錄在光盤之上以便長(zhǎng)期保存和日后的查閱。

3 系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)分析

在X射線成像檢測(cè)中,空間分辨率、對(duì)比度是兩個(gè)非常重要的指標(biāo),前者描述了X射線轉(zhuǎn)換媒質(zhì)的性能,后者被用來(lái)衡量獲取的圖像質(zhì)量。

3.1 空間分辨率

空間分辨率表征了系統(tǒng)能夠記錄的最小細(xì)節(jié)尺寸,通常用LP/mm(每毫米線對(duì)數(shù))表示,可以用專門制作的線對(duì)卡在X射線下曝光成像來(lái)測(cè)試系統(tǒng)的空間分辨率。

3.2 圖像對(duì)比度

圖像的對(duì)比度決定了在射線透照方向上可識(shí)別的圖像細(xì)節(jié)的尺寸,是評(píng)價(jià)圖像質(zhì)量的重要指標(biāo)。在X射線檢測(cè)系統(tǒng)中,圖像的對(duì)比度通常是指圖像與背景的灰度之差。

對(duì)比度不僅僅與探測(cè)器有關(guān),還關(guān)系到成像系統(tǒng)的各個(gè)環(huán)節(jié),影響的主要參數(shù)除了射線在工件中的衰減系數(shù)外,散射也是影響對(duì)比度的主要原因。非晶硅面陣探測(cè)器的轉(zhuǎn)換屏都設(shè)置成又柱狀閃爍晶體排列而成,使射線在閃爍體內(nèi)只能沿直線傳播,可以有效降低散射線對(duì)對(duì)比度的影響。

4 實(shí)際測(cè)試

在實(shí)際使用中,我們選擇已知有缺陷的樣管進(jìn)行了大量實(shí)驗(yàn),通過調(diào)整X射線電壓、電流、曝光量、焦距等參數(shù),將X射線管屏數(shù)字成像設(shè)備的成像質(zhì)量調(diào)整到了最佳狀態(tài)。

管子尺寸:51*7;電壓:226kV;電流:3.55mA;焦點(diǎn):0.4;像質(zhì)計(jì)在膠片測(cè) 13號(hào)像質(zhì)計(jì);像質(zhì)計(jì)可識(shí)別5根;積分次數(shù):50次;采集幀速99ms;可清晰發(fā)現(xiàn)一個(gè)氣孔缺陷。(圖1)

積分次數(shù)和采集幀速也是決定射線經(jīng)由探測(cè)器調(diào)制后強(qiáng)度大小的一個(gè)因素,積分次數(shù)和采集幀速越大,強(qiáng)度越大,且呈線性關(guān)系。另外增加探測(cè)器的積分時(shí)間,會(huì)大大降低噪聲,也是常用的一種降噪的有效處理手段,降噪實(shí)際就是使圖像更平滑,降噪技術(shù)即是各種平滑技術(shù)。采取的手段就是對(duì)圖像采用某種方式求平均,但是由于噪聲和信號(hào)通常呈現(xiàn)相似特征,所以平滑降噪的同時(shí)會(huì)是圖像模糊,甚至?xí)?dǎo)致降噪毫無(wú)意義。但積分次數(shù)增大的同時(shí)會(huì)延長(zhǎng)成像時(shí)間,對(duì)工作速度有一定影響。經(jīng)過我們的多次測(cè)試與對(duì)比。將積分次數(shù)定位30以上,采集幀速根據(jù)管材壁厚決定。管子壁厚越厚,采集幀速越高。

管子尺寸:51*7;電壓:178kV;電流:4.45mA;焦點(diǎn):0.4;像質(zhì)計(jì)在膠片測(cè);12號(hào)像質(zhì)計(jì);像質(zhì)計(jì)可識(shí)別5根;積分次數(shù):50次;采集幀速99ms;可清晰發(fā)現(xiàn)內(nèi)凹。(圖2)

5 結(jié)束語(yǔ)

該設(shè)備采用了國(guó)際最先進(jìn)的非晶硅平板探測(cè)器數(shù)字成像技術(shù),成像質(zhì)量清晰,檢測(cè)靈敏度高,滿足NB/T47013、ASME等相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)及法規(guī)要求。主要用于:組裝成屏(管子直徑:Φ20~Φ76mm)成排(包括換管、插管)焊口、半元件管子焊口、短直管焊口(工業(yè)電視無(wú)法實(shí)施檢測(cè))。

參考文獻(xiàn)

[1]張俊生,王明泉,郭永亮,等.影響X射線數(shù)字成像系統(tǒng)分辨率的因素分析[J].CT理論與應(yīng)用研究,2011,02:227-234.

[2]張祥春,蔡良續(xù),張鷺.X射線數(shù)字透射成像圖像質(zhì)量影響因素分析[J].無(wú)損檢測(cè),2011,09:72-75.

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