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臺積電將推出12nm新工藝:16nm進(jìn)化版

2017-03-23 20:17
中國信息化周報 2017年4期
關(guān)鍵詞:良率臺積電臺積

近日,臺積電正在針對此前的16nm工藝進(jìn)行改良,這個改良版很有可能將采用12nm工藝制程,這也與其持續(xù)針對每一代工藝進(jìn)行改良的策略相吻合。

在最近的一次財務(wù)會議上,有分析師詢問臺積電高層,是否真的有12nm,得到回應(yīng)稱確實在研究類似的東西,但沒有明確提及12nm,可能對于這個命名還不是很確定。12 nm工藝相比于現(xiàn)在的 16 nm來說,不僅擁有更高的晶體管集成度,而且在性能和功耗方面進(jìn)一步優(yōu)化,有較大的升級幅度。

芯片工藝往往決定著性能、功耗和發(fā)熱等因素,而目前達(dá)到量產(chǎn)級別的最先進(jìn)工藝已經(jīng)來到了10nm級別,月初發(fā)布的驍龍835采用了三星10nm制程工藝,而今年即將發(fā)布的新款iPhone則會采用臺積電10nm工藝。

目前已經(jīng)有諸多信息表示,無論是臺積電還是三星,在 10 nm制程工藝上都遭遇到良率問題,而這也直接導(dǎo)致采用改工藝的高通驍龍835、蘋果A10X、聯(lián)發(fā)科Helio X30等移動芯片供貨緊張,并且問題有可能會持續(xù)一整年。

臺積電的 16 nm工藝已經(jīng)發(fā)展了多個版本,包括FinFET、FinFET Plus等,若推出 12 nm工藝,不僅可以在市場上緩解 10 nm工藝帶來的訂單緊張問題,而且還可以在市場營銷上反擊三星、GlobalFoundries、中芯國際等對手的 14 nm工藝,避免訂單的流失。 目前擺在臺積電面前的問題是,10 nm工藝的良率還有待進(jìn)一步提升,臺積電的合作客戶產(chǎn)品包括蘋果A10X、A11、Helio X30、麒麟970等都存在一定的供需緊張問題。(張?zhí)m蘭)

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