劉劍鋒
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關(guān)于畫(huà)法幾何學(xué)中直線的跡點(diǎn)求解方法分析
劉劍鋒
(湖南科技學(xué)院 電子與信息工程學(xué)院,湖南 永州 425199)
文章對(duì)空間直線任意位置的跡點(diǎn)求解方法進(jìn)行了分析和歸納,重點(diǎn)是從幾何學(xué)的角度對(duì)利用定比性求解側(cè)平線的跡點(diǎn)加以證明,為后續(xù)學(xué)習(xí)人員直接引用定比性求解直線跡點(diǎn)提供理論依據(jù)。
跡點(diǎn);側(cè)平線;定比性;求解
跡點(diǎn)是指直線和投影面的交點(diǎn)。直線和水平投影面的交點(diǎn)稱(chēng)為水平跡點(diǎn),和正面投影的交點(diǎn)稱(chēng)為正面跡點(diǎn),和側(cè)面投影的交點(diǎn)稱(chēng)為側(cè)面跡點(diǎn),分別用M、N、S表示。在《畫(huà)法幾何及機(jī)械制圖》、《畫(huà)法幾何學(xué)》、《機(jī)械制圖》等眾多機(jī)械專(zhuān)業(yè)教材中對(duì)于跡點(diǎn)這一內(nèi)容描述的篇幅較少,其中并未對(duì)跡點(diǎn)的求解過(guò)程加以詳細(xì)講解[1-3]。但是在相關(guān)習(xí)題集中關(guān)于跡點(diǎn)的題型相對(duì)較多較全,導(dǎo)致學(xué)生在做題過(guò)程中存在諸多疑惑[4-5]。經(jīng)查閱相關(guān)文獻(xiàn),很少有關(guān)于跡點(diǎn)的詳細(xì)求解過(guò)程,尤其是利用定比性求解[6-7]。因此,將跡點(diǎn)的求解過(guò)程明朗化, 對(duì)幫助學(xué)生理解和增加學(xué)習(xí)積極性具有現(xiàn)實(shí)意義。
畫(huà)法幾何中,按照空間直線對(duì)基本投影體系的相對(duì)位置關(guān)系,可將直線分為三大類(lèi):一般位置直線、投影面平行線和投影面垂直線,后兩類(lèi)又稱(chēng)為特殊位置直線,根據(jù)投影面的不同,特殊位置直線又可分為水平線(∥水平面)、正平線(∥正平面)、側(cè)平線(∥側(cè)平面)和鉛垂線(⊥水平面)、正垂線(⊥正平面)、側(cè)垂線(⊥側(cè)平面)。
一般位置直線的跡點(diǎn)求解常用的方法是根據(jù)點(diǎn)的兩面投影確定跡點(diǎn)位置,求解過(guò)程相對(duì)簡(jiǎn)單。
圖1為一般位置直線的H/V兩面投影,它的跡點(diǎn)詳細(xì)求解過(guò)程如下:
(1)如圖2所示,分別延長(zhǎng)空間線段AB在水平投影面的投影ab與投影軸OX相交于點(diǎn)n,延長(zhǎng)空間線段AB在正立投影面的投影a¢b¢與投影軸OX相交于點(diǎn)m¢;
(2)根據(jù)點(diǎn)的投影特性可知,點(diǎn)的兩面投影的連線垂直于投影軸,如圖3所示,分別過(guò)點(diǎn)n、m¢作垂直于OX的垂線;
圖1.一般位置直線
圖2.步驟一
圖3.步驟二
圖4.步驟三
(3)在水平投影面延長(zhǎng)ab與投影軸連線相交于點(diǎn)M,在正立投影面延長(zhǎng)a¢b¢與投影軸連線相交于點(diǎn)N。其中跡點(diǎn)M在水平面的投影m與之重疊,因此m帶括號(hào),跡點(diǎn)N在正立面的投影n¢與之重疊,因此n¢帶括號(hào),如圖4所示。
投影面平行線分為水平線、正平線、側(cè)平線三種,求解過(guò)程如下:
(1)水平線。根據(jù)水平線的定義可知,水平線平行于水平投影面,與其他兩個(gè)投影面傾斜,它的跡點(diǎn)分別在正立投影面和側(cè)立投影面上,跡點(diǎn)標(biāo)記是N點(diǎn)和S點(diǎn)。圖5是水平線在H/V兩面投影體系中的投影,若采用點(diǎn)的投影規(guī)律求解跡點(diǎn),則需要引入三面投影體系才能求解,如圖7所示。
圖5.水平線
圖6.正平線
圖7.水平線的跡點(diǎn)
(2)正平線。根據(jù)正平線的定義可知,正平線平行于正立投影面,與其他兩個(gè)投影面傾斜,它的跡點(diǎn)分別在水平投影面和側(cè)立投影面上,跡點(diǎn)標(biāo)記是M點(diǎn)和S點(diǎn)。圖6是正平線在H/V兩面投影體系中的投影,若采用點(diǎn)的投影規(guī)律求解跡點(diǎn),則同樣需要引入三面投影體系才能求解,如圖8所示。
圖8.正平線的跡點(diǎn)
(3)側(cè)平線。根據(jù)側(cè)平線的定義可知,側(cè)平線平行于側(cè)立投影面,與其他兩個(gè)投影面傾斜,它的跡點(diǎn)分別在水平投影面和正立投影面,跡點(diǎn)標(biāo)記是M點(diǎn)和N點(diǎn)。若采用點(diǎn)的投影規(guī)律求解跡點(diǎn),則需要引入三面投影體系才能求解。
由上述可知,投影面平行線的兩個(gè)跡點(diǎn)需要在三面投影體系中才能求解。那么能否在不引入三面投影體系的前提下求解?可以利用直線上點(diǎn)的定比性求解。
定比性指的是直線上點(diǎn)的投影必須在該直線的同面投影上,且點(diǎn)分線段長(zhǎng)度之比等于其投影長(zhǎng)度之比。定比性常用于解決直線上點(diǎn)的投影問(wèn)題。
以側(cè)平線為例,已知側(cè)平線AB的兩面投影分別為ab和a¢b¢,利用定比性求解它的正面跡點(diǎn)M和水平跡點(diǎn)N。
圖9所示為側(cè)平線AB在三投影面體系中的狀態(tài),它與水平投影和正面投影的跡點(diǎn)分別為M和N點(diǎn),圖10所示為側(cè)平線跡點(diǎn)的H/V兩面投影,圖11所示為利用定比性求解兩跡點(diǎn),圖12所示為沿X方向從右往左看側(cè)平線AB,做輔助線得交點(diǎn)E。
圖9.側(cè)平線的三面投影體系
圖10.側(cè)平線的跡點(diǎn)
圖11.定比性圖解側(cè)平線跡點(diǎn)
圖12.側(cè)平線的側(cè)視圖
圖13.鉛垂線的跡點(diǎn)
①在圖9中,以點(diǎn)B在直線AM上理解,根據(jù)直線上點(diǎn)的定比性,可得到圖11,并存在以下關(guān)系:
ac=a¢b¢, cd=b¢m¢
ab:bm=ac:cd=a¢b¢:b¢m¢
在圖9中,以點(diǎn)A在直線NB上理解,根據(jù)直線上點(diǎn)的定比性,可得到圖11,并存在以下關(guān)系:
ab=b¢c¢, na=c¢d¢
a¢b¢:n¢a¢=c¢b¢:d¢c¢=ab: na
②結(jié)合圖9和12從幾何的角度可證明如下關(guān)系:
∵△BEA∽△MbB
∴EB:bm=AE:Bb
又∵EB=ab, AE=a¢b¢,Bb=b¢m¢
∴ab:bm=a¢b¢:b¢m¢
同理△BEA∽△Aa¢N
可得EB:a¢A=AE:Na¢=ab:na=a¢b¢:n¢a¢
因此,側(cè)平線的跡點(diǎn)存在圖10中的定比關(guān)系,同樣水平線和正平線也能用定比性進(jìn)行求解。
投影面垂直線分為鉛垂線、正垂線、側(cè)垂線三種,求解投影面垂直線跡點(diǎn)的方法需要引入到三面投影體系,根據(jù)點(diǎn)的投影特性進(jìn)行求解。如圖13-15所示,分別是鉛垂線的跡點(diǎn)、正垂線的跡點(diǎn)、側(cè)垂線的跡點(diǎn),由圖可知該類(lèi)型直線的跡點(diǎn)有且僅有一個(gè)。
圖14.正垂線的跡點(diǎn)
圖15.側(cè)垂線的跡點(diǎn)
文章對(duì)任意位置空間直線的跡點(diǎn)的求解均加以作圖解釋?zhuān)贸鲆韵陆Y(jié)論:
(1)一般位置直線和投影面平行線存在2個(gè)跡點(diǎn),投影面垂直線有且僅有1個(gè)跡點(diǎn);(2)一般位置直線的跡點(diǎn)可以在兩面投影直接圖解得到,而投影面平行線和投影面垂直線的跡點(diǎn)需引入三面投影體系,根據(jù)點(diǎn)的投影特性才能求解;(3)從幾何學(xué)的角度對(duì)利用定比性求解側(cè)平線跡點(diǎn)的原理加以證明,為后續(xù)人員的直接引用提供理論依據(jù)。
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(責(zé)任編校:宮彥軍)
2017-03-01
湖南科技學(xué)院教學(xué)改革研究項(xiàng)目(項(xiàng)目編號(hào)XKYJ2017053)。
劉劍鋒(1985-),男,湖南永州人,湖南科技學(xué)院機(jī)械專(zhuān)任教師,工程師,研究方向?yàn)闄C(jī)械制圖教學(xué)與機(jī)械結(jié)構(gòu)輕量化設(shè)計(jì)等。
TH126.2
A
1673-2219(2017)10-0075-02