劉學(xué)斌 盛正強 古戰(zhàn)文 劉任松 李小女
摘 要:陶瓷配飾磚是現(xiàn)代裝修中不可或缺的裝飾材料,目前,常見的生產(chǎn)方法是把不同色的成品磚水刀切割后按照預(yù)先設(shè)計圖案進行圖案拼接,其切割量大、拼接復(fù)雜、效率低。本文通過在已燒成瓷質(zhì)磚表面印刷底釉層,然后在釉層表面噴墨打印裝飾圖案,經(jīng)二次干粒布料、定位電鍍、燒成、拋光、磨邊等工藝,制得一種裝飾效果較理想的陶瓷配飾磚。
關(guān)鍵詞: 陶瓷配飾磚;底釉;噴墨打??;二次干粒布料;定位電鍍
1 引言
傳統(tǒng)配飾磚大多是在陶瓷成品磚表面通過貼花、堆干粒、手繪等裝飾并在較低溫度下燒制而成。近年來,配飾磚應(yīng)用已擴展到地面裝飾,主要是以陶瓷磚為基礎(chǔ)材料,經(jīng)過水刀切割、拼接,組合成較大面積的拼花圖案,用于酒店大堂、大廳等高級建筑地面裝飾。隨著陶瓷磚產(chǎn)量的增加及應(yīng)用范圍的擴大,配飾磚的需求量也在增加,一些以石材、玻璃、樹脂、金屬為基礎(chǔ)材料的配飾磚也不斷涌入陶瓷磚配飾領(lǐng)域[1~2]。
隨著陶瓷行業(yè)新技術(shù)、新材料的出現(xiàn),研究以陶瓷磚為基礎(chǔ)的配飾磚,避免了因材料性能不同而導(dǎo)致的裝修質(zhì)量問題和售后服務(wù)帶來的尷尬。為此,提高配飾磚產(chǎn)品裝飾效果和產(chǎn)量規(guī)模,成為建筑陶瓷行業(yè)的新課題。
近年來,瓷磚的3D數(shù)碼噴墨裝飾技術(shù),被越來a越多的陶瓷生產(chǎn)企業(yè)所采用,噴墨工藝能夠?qū)崿F(xiàn)凹凸浮雕面上的打印,為配飾磚的生產(chǎn)提供了先進的技術(shù)和設(shè)備保障,對配飾磚生產(chǎn)工藝中的創(chuàng)新、增加配飾磚產(chǎn)量及配套效果具有重要的意義。
本文將多色系、多組合的水刀切割拼花設(shè)計圖案,通過在已燒成陶瓷磚表面印刷底釉、噴墨裝飾圖案、二次干法施釉、燒成、定位電鍍、燒成、拋光等工藝實現(xiàn)陶瓷配飾磚的生產(chǎn)。并且申請發(fā)明專利“陶瓷配飾磚的制造工藝及通過該工藝制成的陶瓷配飾磚”[3],拓展了噴墨技術(shù)的應(yīng)用范圍,搭建了陶瓷配飾磚生產(chǎn)的工藝平臺,解決了配飾磚在應(yīng)用過程中出現(xiàn)的一系列質(zhì)量與技術(shù)問題,創(chuàng)新了配飾磚規(guī)模化生產(chǎn)新工藝,為陶瓷磚產(chǎn)品的配套發(fā)展奠定了工藝技術(shù)基礎(chǔ)。
2 試驗內(nèi)容
2.1 試驗材料
本試驗主要原材料有:
(1) 基礎(chǔ)磚:已燒成瓷質(zhì)磚;
(2) 底釉,其化學(xué)組成為:SiO2,60%~70%;Al2O3,5%~8%;B2O3,3%~7%;CaO,3%~9%;BaO,2%~8%;K2O+Na2O,3%~12%;
(3) 透明干粒:平均粒徑60~100目。
2.2 試驗工藝
本試驗工藝主要包括:(1)在已燒成瓷質(zhì)磚表面印刷底釉;(2)在底釉層上噴墨打印裝飾圖案;(3)在裝飾圖案層表面兩次布透明干粒、燒成,形成玻璃層凹槽;(4)在凹槽處定位電鍍金屬色、燒成;(5)對燒成后的制品進行拋光、磨邊處理,制成陶瓷配飾磚。
3 結(jié)果分析與討論
3.1 工藝路線的選擇
本文最初以一次燒成工藝進行試驗,由于產(chǎn)品收縮及燒成尺寸偏差,配飾磚始終得不到精準的對位,同時墨水高溫呈色能力弱。通過反復(fù)試驗研究,決定采用已燒成的瓷質(zhì)磚作為基礎(chǔ)磚進行試驗,工藝路線為:瓷質(zhì)基礎(chǔ)磚→80目印刷底釉→噴墨裝飾→干法施釉→低溫?zé)伞ㄎ浑婂儭伞鷴伖?、磨邊→干燥→包裝入庫。
3.1.1基礎(chǔ)磚的選擇
選用公司生產(chǎn)的炻瓷質(zhì)有釉白磚和瓷質(zhì)有釉白磚作為基礎(chǔ)磚進行基礎(chǔ)實驗,其結(jié)果如表1所示。
從表1中的試驗結(jié)果可以看出,方案6采用瓷質(zhì)有釉白磚作為基礎(chǔ)磚,通過干燥、噴釉、噴墨、燒成,能得到較好的裝飾效果。
3.1.2底釉施釉方式的選擇
根據(jù)上述試驗結(jié)果,我們對施釉方式進行優(yōu)化,采用印刷底釉的方式替代噴釉,這樣可以減少施釉水分的帶入,省去噴墨前的干燥環(huán)節(jié),實現(xiàn)在成品磚上施底釉后直接噴墨裝飾。試驗方案及結(jié)果如表2所示。
3.2 底釉配方的研究
本文陶瓷配飾磚的底釉應(yīng)能夠承載噴墨打印、絲網(wǎng)印刷、干法施釉多種裝飾技法的實施,并且有助于墨水的發(fā)色,滿足坯釉匹配性能,燒失量要小,與釉面裝飾用的干粒有較好的匹配性能,不易形成釉面氣孔。
3.2.1底釉配方所用原料選擇
根據(jù)上述底釉性能分析,選擇的原料需符合以下特點:
(1) 燒成溫度較低,揮發(fā)物盡量少,并且揮發(fā)物在干粒完全熔融之前能基本排出,以減少釉層中的氣孔;
(2) 底釉有助于噴墨墨水的發(fā)色,氧化鈣和氧化鋅的組成比例相對高。
通過對生產(chǎn)中所用的釉料進行化學(xué)分析、熔融溫度、膨脹系數(shù)以及墨水發(fā)色性能的試驗,確定底釉用原料,其化學(xué)成份如表3所示。
3.2.2底釉對墨水呈色的影響
根據(jù)現(xiàn)有工藝條件和原料,選擇一種紋理豐富的文件圖案,不同底釉配方如表4所示,相應(yīng)的釉中彩色卡如圖1所示。
從實驗過程可以發(fā)現(xiàn),底釉配方為A、B、C、D、F對應(yīng)的釉中彩色卡在藍色、金黃、橘黃墨水中所產(chǎn)生的氣孔較少,而在黑色、棕色和粉紅色墨水中所產(chǎn)生的氣孔較多,而且氣孔較大。經(jīng)過正交實驗多次不同原料的選擇與配比,發(fā)現(xiàn)E配比組合對墨水的發(fā)色最穩(wěn)定,與現(xiàn)有墨水色系能相互匹配,并優(yōu)于現(xiàn)有底釉的發(fā)色,沒有明顯封閉氣孔,達到預(yù)期效果。
3.3 釉面氣孔產(chǎn)生的原因分析
從上述一系列試驗結(jié)果可以看出,陶瓷配飾磚生產(chǎn)工藝的選擇主要是圍繞釉層中氣孔產(chǎn)生原因進行改善。當(dāng)氣體在釉層中未能及時排除,就會出現(xiàn)閉口或開口氣孔;光穿過釉層,在氣孔處產(chǎn)生光線折射或反射,對釉層下部的色彩圖案產(chǎn)生影響,使圖案被類似白色的霧層所覆蓋,使釉層呈半乳濁狀態(tài),經(jīng)多個試樣的顯微觀察,氣孔主要來源于如下幾個方面[4~6]:
(1)所用基礎(chǔ)磚的影響
底磚為炻瓷質(zhì)時,因長時間暴露在空氣中,表面的微小氣孔,特別是開口氣孔重新吸附空氣中的水分,而在使用時未能充分干燥,這些吸附水隨著溫度的升高,水分子會由液態(tài)轉(zhuǎn)換成氣態(tài),體積迅速膨脹,沖破印刷底釉和墨水層,在底磚圖案區(qū)域產(chǎn)生一個個小白色圓點(如圖2所示),氣孔周圍的色彩比其它區(qū)域要深很多,形成了一個深色圓形邊緣,這是因為氣體沖破底釉導(dǎo)致該位置的釉層被沖開,積聚在周邊形成小圓圈。
(2)底釉的影響
底釉中的水分和有機物,是氣孔產(chǎn)生的重要因素。在燒成升溫過程中,隨著熱量的不斷聚集,底釉中的水分逐漸從液態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài),釉料中的有機物開始氧化,形成CO2氣體不斷排出。這些氣體雖然可以從上方覆蓋的透明干粒的縫隙中逃逸出去,但當(dāng)?shù)子灾械乃趾陀袡C物過量、升溫速度不合理、窯爐上下溫差不匹配、干粒厚度過大時,這些氣體來不及完全排出,被永久地封閉在透明釉層中(如圖3所示),形成氣孔。
(3)透明干粒的影響
透明干粒布施參數(shù)不當(dāng)也會造成釉層中的封閉氣孔,這些氣孔往往呈現(xiàn)不規(guī)則外形;當(dāng)干粒的粉體流動性不好、顆粒松散、顆粒間存在較多間隙時,在燒成過程中,隨溫度的升高,熱量的聚集,加之磚體較厚傳熱慢,底釉中的水分、氣體及干粒中所帶入的氣體來不及排出,而表面干粒已經(jīng)形成液相,靠近基礎(chǔ)磚內(nèi)部的底釉層氣體未能沖破干粒表面液相層,從而形成了不規(guī)則的氣孔。從圖4、圖5側(cè)面顯微圖可以清晰地看到,釉中所封閉的氣體多在底磚表面的底釉層產(chǎn)生。
4 結(jié)論
(1)選擇吸水率小的瓷質(zhì)有釉白磚作為基礎(chǔ)磚,可以簡化生產(chǎn)工藝流程,減少釉面氣孔的產(chǎn)生。
(2)底釉配方、干粒性能、干粒布施工藝及燒成制度等對釉面氣孔的產(chǎn)生有重要影響。
(3)通過底釉配方的研制,滿足了坯釉匹配性能,提高了墨水發(fā)色能力,使深色、艷色墨水發(fā)色能力強、色域廣,給產(chǎn)品花色開發(fā)提供了保障。
(4)選用絲網(wǎng)印刷底釉替代淋、噴底釉的工藝,解決了底磚表面施釉技術(shù)關(guān)鍵,降低了施釉水分,減少了生產(chǎn)線改造費用,縮短了成果轉(zhuǎn)化周期。
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