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寬禁帶半導(dǎo)體的本征載流子濃度

2015-05-30 10:48:04田石劉國(guó)輝
科技創(chuàng)新與應(yīng)用 2015年2期

田石 劉國(guó)輝

摘 要:列舉了有代表性的寬禁帶半導(dǎo)體本征載流子濃度的理論公式,簡(jiǎn)要敘述了溫度與禁帶寬度變化的關(guān)系,討論了本征載流子濃度對(duì)電力電子器件參數(shù)特性的影響,并通過(guò)與硅材料的對(duì)比說(shuō)明了寬禁帶半導(dǎo)體的優(yōu)異性能。

關(guān)鍵詞:寬禁帶半導(dǎo)體;本征載流子;禁帶寬度;電力電子器件

半導(dǎo)體材料的發(fā)展已歷經(jīng)三代,即分別以硅(Si)和砷化鎵(GaAs)為代表的第一、第二代半導(dǎo)體材料,和以碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)為代表的第三代半導(dǎo)體材料,也稱寬禁帶半導(dǎo)體材料。由于其具有更寬的禁帶寬度、更高的擊穿電場(chǎng)強(qiáng)度、更高的熱導(dǎo)率、更高的電子飽和漂移速度等獨(dú)特的參數(shù)特性,因而在電力電子器件、光電器件、射頻微波器件、激光器和探測(cè)器等方面,顯示出廣闊的發(fā)展前景,已成為目前世界各國(guó)半導(dǎo)體研究的重點(diǎn)。在這其中,電力電子器件是在高電壓、大電流和高溫下工作的,本征載流子濃度等溫度敏感參數(shù)對(duì)器件的特性有著顯著的影響,而寬禁帶半導(dǎo)體材料比硅材料在這方面有著明顯的優(yōu)勢(shì),了解和把握這一點(diǎn),對(duì)于研究寬禁帶電力電子器件的參數(shù)特性顯得十分必要。

1 本征載流子濃度的理論公式

根據(jù)半導(dǎo)體物理學(xué),半導(dǎo)體的本征載流子濃度ni由下式給出:

2 溫度對(duì)禁帶寬度的影響

研究表明:隨著溫度的上升,禁帶寬度將隨之減小。文獻(xiàn)[2]、[4]給出了硅和其它半導(dǎo)體禁帶寬度與溫度之間關(guān)系的表達(dá)式:

文獻(xiàn)[2]給出了不同半導(dǎo)體材料禁帶寬度參數(shù),見(jiàn)表2。其中Eg(0)為00K時(shí)的禁帶寬度,α、β均為溫度變化系數(shù)。

3 Eg與ni對(duì)電力電子器件參數(shù)特性的影響

3.1 Eg對(duì)擊穿電壓的影響

在描述半導(dǎo)體的雪崩擊穿電壓VB與材料禁帶寬度Eg和雜質(zhì)濃度NB的關(guān)系時(shí),文獻(xiàn)[5]引用了S.M.Sze公式:

VB=60(Eg/1.1)1.5(NB/1016)-0.75 (8)

對(duì)于p+n結(jié),當(dāng)NB=1014cm-3時(shí),分別將Si的Eg=1.12eV、4H-SiC的Eg=3.23eV代入式(8),計(jì)算出Si的雪崩擊穿電壓為1900V,而4H-SiC的雪崩擊穿電壓可達(dá)9500V,是Si的5倍。

3.2 ni對(duì)pn結(jié)反向漏電流的影響

晶閘管等功率半導(dǎo)體器件,其pn結(jié)的反向漏電流決定了器件的高溫阻斷特性。在不考慮表面漏電流的情況下,反向漏電流由pn結(jié)的擴(kuò)散電流和空間電荷區(qū)的產(chǎn)生電流組成。對(duì)于p+n結(jié),反向漏電流密度的表達(dá)式為:

由式(9)看出:反向漏電流與本征載流子濃度緊密相關(guān),由于ni隨溫度而顯著變化,因而它決定了高溫時(shí)功率器件的漏電流。采用φ75ZP型整流管的數(shù)據(jù),并取423K時(shí)表1中式(4)、式(5)的ni值代入式(9),計(jì)算出Si器件的漏電流為78.7mA,而4H-SiC器件的漏電流僅為1.03×10-11mA;當(dāng)T=873K時(shí),計(jì)算出4H-SiC器件的漏電流也僅為0.6mA。

3.3 ni對(duì)器件耐壓極限和結(jié)溫極限的影響

絕大部分功率半導(dǎo)體器件都是依靠pn結(jié)的反向阻斷特性來(lái)承受耐壓的。對(duì)于襯底濃度為NB的pn結(jié)來(lái)說(shuō),ni=NB是非常重要的一個(gè)臨界值[6],當(dāng)ni>NB時(shí),pn結(jié)將失去反向阻斷能力。ni=NB時(shí)的溫度被規(guī)定為工作結(jié)溫的極限值[2]。根據(jù)擊穿電壓VB與摻雜濃度NB的關(guān)系,當(dāng)確定了擊穿電壓時(shí),就限定了最高的NB值,也就同時(shí)限定了最高的ni值及其所對(duì)應(yīng)的極限工作結(jié)溫。采用文獻(xiàn)[1]給出的p+n結(jié)擊穿電壓VB與摻雜濃度NB的關(guān)系式:

并采用公式(4)、(5)分別計(jì)算了Si和4H-SiC不同溫度下NB=ni時(shí)的VB值,列于表3。由表3看出,Si材料的pn結(jié)當(dāng)溫度大于600K的本征溫度時(shí)[5],已失去作為功率器件的阻斷高電壓的能力,而4H-SiC材料的pn結(jié)在873K時(shí),擊穿電壓的理論極限仍可達(dá)107V的數(shù)量級(jí)。

4 結(jié)束語(yǔ)

寬禁帶半導(dǎo)體有著更寬的禁帶寬度,在相同溫度下,有著遠(yuǎn)小于硅材料的本征載流子濃度,這將使寬禁帶電力電子器件具有遠(yuǎn)大于硅器件的擊穿電壓和更高的工作結(jié)溫,并具有遠(yuǎn)小于硅器件的漏電流??梢灶A(yù)見(jiàn),集諸多優(yōu)異特性于一身的寬禁帶半導(dǎo)體材料,必將帶來(lái)電力電子器件的一場(chǎng)深刻革命。

參考文獻(xiàn)

[1][美]巴利伽Baliga,B·J.功率半導(dǎo)體器件基礎(chǔ)[M].韓鄭生,陸江,宋李梅,等譯.北京:電子工業(yè)出版社,2013.

[2][德]盧茨Josef Lutz,etal.功率半導(dǎo)體器件-原理、特性和可靠性[M].卞抗等譯.北京:機(jī)械工業(yè)出版社,2013.

[3][俄]萊文斯坦(Levinshtein,M·E)etal.先進(jìn)半導(dǎo)體材料性能與數(shù)據(jù)手冊(cè)[M].楊樹(shù)人,殷景志譯.北京:化學(xué)工業(yè)出版社,2003.

[4]鄧志杰,鄭安生.半導(dǎo)體材料[M].北京:化學(xué)工業(yè)出版社,2004.

[5]陳治明,李守智.寬禁帶半導(dǎo)體電力電子器件及其應(yīng)用[M].北京:機(jī)械工業(yè)出版社,2009.

[6]潘福泉,關(guān)艷霞.再議pin器件的極限雪崩電壓[J].變頻技術(shù)應(yīng)用,2012,7(6):49-51.

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