李雨,楊晨,劉定富*
(貴州大學化學與化工學院,貴州 貴陽 550025)
化學鍍鎳–磷合金由于具有均鍍能力好、硬度高、耐腐蝕性和耐磨性強等特性,已在工業(yè)領域中獲得較廣泛的應用[1-3]。鎳–磷合金有低磷(1%~4%)、中磷(5%~8%)和高磷(9%~12%)3種[4]。其中,高磷鎳–磷合金具有良好的耐蝕性和穩(wěn)定的非磁性,是一種良好的功能性鍍層,其應用和開發(fā)已得到迅速發(fā)展[5-7]。本文主要以化學鍍鎳沉積速率、鍍層磷含量、鍍層光澤度和鍍層微觀形貌為評價指標,通過正交優(yōu)化得到了沉積速率高于10 μm/h 的高磷酸性化學鍍鎳–磷合金工藝,制得光澤度大于200 Gs、P 質(zhì)量分數(shù)在12%以上、結(jié)構(gòu)均勻、致密的層狀鍍層,為實際生產(chǎn)提供一定的理論指導。
以55 mm×52 mm×2 mm 的45 碳鋼片為基體,工藝流程為:砂紙打磨─超聲除油─去離子水洗─20%(體積分數(shù))鹽酸活化─自來水洗─去離子水洗─化學鍍Ni–P 合金─去離子水洗─烘干。
鍍液pH 用體積分數(shù)為50%的氨水調(diào)節(jié)。添加劑有苯駢三氮唑(BTA)、苯并咪唑(BMI)、Ce(SO4)2·4H2O和氨三乙酸,所有試劑都為分析純。
1.3.1 沉積速率
采用稱重法,按下式計算沉積速率:
式中,m1、m2為試樣施鍍前后的質(zhì)量(g),A為試樣的施鍍面積(cm2),ρ為鍍層密度(取7.80 g/cm3),t為施鍍時間(h)。
1.3.2 光澤度
采用天津市其立科技有限公司生產(chǎn)的MN-60 型光澤度儀,在60°折射角下測定鍍層光澤度。
1.3.3 形貌和成分
采用日立Hitachi SU-1500 掃描電鏡(SEM)觀察鍍層的表面形貌,用與其配套的能譜儀(EDS)測定鍍層磷含量[8-9]。
往基礎鍍液中加入苯駢三氮唑(因素A)、苯并咪唑(因素B)、氨三乙酸(因素C)和硫酸高鈰(因素D)為添加劑,以鍍速、鍍層光澤度和P 含量為指標,按L9(34)正交表對鍍液組成進行正交優(yōu)化,結(jié)果列于表1。
表1 正交試驗結(jié)果Table 1 Results of orthogonal test
由表1 可知,不同添加劑的鍍速、Ni–P 鍍層光澤度和P 含量影響的強弱順序分別為:苯駢三氮唑 > 硫酸高鈰 > 苯并咪唑=氨三乙酸,苯并咪唑 > 硫酸高鈰 > 氨三乙酸 > 苯駢三氮唑,苯駢三氮唑 > 苯并咪唑 > 硫酸高鈰 > 氨三乙酸。
不同添加劑對化學鍍Ni–P 合金鍍層鍍速的影響如圖1 所示。隨鍍液中苯駢三氮唑質(zhì)量濃度的增大,鍍速先降低后升高;隨苯并咪唑質(zhì)量濃度的增大,鍍速先升高后降低,10 mg/L時達到最大;隨氨三乙酸質(zhì)量濃度增大,鍍速降低;隨Ce(SO4)2·4H2O 濃度增大,鍍速增大。因此,從鍍速方面考慮,4種添加劑的最優(yōu)組合為A1B2C1D3。
圖1 不同添加劑對鍍速的影響Figure 1 Influences of different additives on plating rate
圖2為不同添加劑對化學鍍Ni–P 合金鍍層光澤度的影響。從圖2 可知,提高鍍液中苯駢三氮唑的含量可提高鍍層光澤度;隨鍍液中苯并咪唑或硫酸高鈰含量的提高,鍍層光澤度先增大后減??;提高氨三乙酸的質(zhì)量濃度會使鍍層光澤度下降。因此,以鍍層光澤度為評價指標時,4種添加劑的最優(yōu)組合為A3B2C1D2。
圖2 不同添加劑對Ni–P 合金鍍層光澤度的影響Figure 2 Influences of different additives on glossiness of Ni–P alloy coating
添加劑對Ni–P 合金鍍層P 含量的影響如圖3 所示。從圖3 可知,隨鍍液中不同添加劑質(zhì)量濃度的升高,鍍層P 含量均在13%范圍內(nèi)增大。因此從鍍層P含量考慮,4種添加劑的最優(yōu)組合為A3B3C3D3。
圖3 不同添加劑對Ni–P 合金鍍層P 含量的影響Figure 3 Influences of different additives on P content of Ni–P alloy coating
A1B2C1D3、A3B2C1D2、A3B3C3D3均未在正交試驗中出現(xiàn),因此應補充各組合的對比試驗[10],并與表1中鍍速、光澤度和磷含量均最高的一組(試驗8)進行對比,結(jié)果列于表2。由表2 可知,鍍速基本恒定在10.90 μm/h,所得Ni–P 合金鍍層光澤度都在200 Gs 以上,鍍層P 含量均在12%以上,為高磷鍍層。
表2 不同組合添加劑的對比試驗結(jié)果Table 2 Test results of different compositions of additives
圖4為采用不同組合添加劑時所得Ni–P合金鍍層的SEM 照片。從圖4a和圖4b 可知,組合A1B2C1D3和A3B2C1D2的鍍層表面有少量胞狀結(jié)構(gòu);組合A3B3C3D3試樣(圖4c)為層狀結(jié)構(gòu),存在晶界間隙缺陷;A3B2C1D3鍍層(圖4d)也為層狀結(jié)構(gòu),表面均勻、致密、平整,無晶界間隙。
綜上可知,添加劑的最優(yōu)組合為A3B2C1D3,即苯駢三氮唑1.0 mg/L、苯并咪唑10 mg/L、氨三乙酸0.5 g/L和Ce(SO4)2·4H2O 6 mg/L。
圖4 鍍液中添加劑組合不同時Ni–P 合金鍍層的SEM 照片F(xiàn)igure 4 SEM images of Ni–P alloy coatings prepared from plating baths with different compositions of additives
(1)苯駢三氮唑?qū)﹀兯俸湾儗恿缀康挠绊懽畲?,主要起穩(wěn)定劑的作用;苯并咪唑?qū)﹀儗庸鉂啥鹊挠绊懽畲?,主要起光亮劑的作用;氨三乙酸主要起輔助穩(wěn)定劑的作用;硫酸高鈰則起光亮劑的作用。
(2)4種添加劑的最優(yōu)組合為:苯駢三氮唑1.0 mg/L,苯并咪唑10 mg/L,氨三乙酸0.5 g/L,Ce(SO4)2·4H2O 6 mg/L。采用該添加劑體系進行化學鍍Ni–P 合金時,鍍速為10.92 μm/h,鍍層光澤度為225 Gs,磷質(zhì)量分數(shù)為12.96%,具有層狀結(jié)構(gòu),表面均勻、致密、平整。
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