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碳化硅粉體化學(xué)鍍鎳前無鈀活化工藝

2014-11-25 09:19:56鄒忠利耿桂宏
電鍍與涂飾 2014年11期
關(guān)鍵詞:硼氫化鈉化學(xué)鍍鍍鎳

鄒忠利*,耿桂宏

(北方民族大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院,寧夏 銀川 750021)

SiC 粉體具有耐磨、耐熱、高強(qiáng)度、價(jià)格低廉等優(yōu)點(diǎn),可作為顆粒增強(qiáng)相,被廣泛用于制備金屬基復(fù)合材料。盡管SiC 粉體的化學(xué)性質(zhì)非常穩(wěn)定,但制備復(fù)合材料的過程中,若直接將SiC 粉體加入金屬基體中,則SiC 與金屬界面之間極易發(fā)生化學(xué)反應(yīng)[1],造成復(fù)合材料的界面相容性差,影響其性能。為改善復(fù)合材料的潤濕性,降低界面反應(yīng)活性,需對(duì)SiC 粉體進(jìn)行摻雜前改性,如在粉體表面包覆一層金屬。粉體的包覆方法有化學(xué)氣相沉積法、真空濺射法、電沉積法和化學(xué)鍍法[2-3],其中化學(xué)鍍法因工藝設(shè)備簡單、操作方便、包覆效果好等優(yōu)點(diǎn),是界面改性的首選方法[4],適于推廣應(yīng)用。

SiC 粉體化學(xué)鍍的難點(diǎn)有兩方面。一方面由于粉體的比表面積大,導(dǎo)致化學(xué)鍍液不穩(wěn)定[5],所以在實(shí)際處理過程中要選取合適的裝載量,防止鍍液分解;另一方面,SiC 粉體是一種非金屬基體,不具有催化活性,化學(xué)鍍前需進(jìn)行活化。鈀活化法應(yīng)用較早,工藝成熟,但成本較高[6]。無鈀活化工藝較傳統(tǒng)鈀活化成本低、污染小,近年來已取得一定進(jìn)展[7-9]。但無鈀活化仍存在許多問題,如:部分活化效果不如鈀活化,不能滿足工業(yè)需要;活化工藝過于復(fù)雜,工業(yè)生產(chǎn)可行性不高,還處于實(shí)驗(yàn)室階段。因此,工藝簡單、效果顯著是實(shí)現(xiàn)無鈀活化工藝取代傳統(tǒng)鈀活化工藝的研究重點(diǎn)[10]。本文以硼氫化鈉為還原劑,采用有機(jī)鎳的醇溶液,在SiC 粉體表面制得活性金屬鎳,實(shí)現(xiàn)SiC 粉體的無鈀活化。采用乙醇代替甲醇[8],并大幅度降低了活化液的濃度,環(huán)保綠色,具有一定的實(shí)際意義。

1 實(shí)驗(yàn)

1.1 預(yù)處理

采用240 目(平均粒徑61 μm)的SiC 為原料粉體。SiC 粉體表面存在的油污和灰塵會(huì)影響后續(xù)工序,污染鍍液,因此需要進(jìn)行除油、除污處理。具體為:無水乙醇超聲清洗(5 min)─5% NaOH 超聲清洗(5 min)─過濾─10%(體積分?jǐn)?shù))鹽酸清洗─過濾─蒸餾水沖洗─80°C 烘干。

1.2 無鈀活化

分別配制不同含量乙酸鎳(C4H6O4Ni·4H2O)和硼氫化鈉(NaBH4)的無水乙醇溶液。先將預(yù)處理好的SiC粉體均勻分散在乙酸鎳醇溶液中,邊攪拌邊依次添加適量穩(wěn)定劑(10% NaOH)和硼氫化鈉醇溶液,添加完畢后開始活化,時(shí)間為1 min,然后抽濾,洗凈,真空干燥。

1.3 化學(xué)鍍鎳

施鍍后試樣先水洗,再用無水乙醇沖洗,常溫下干燥備用。

1.4 表征方法

1.4.1 包覆率

考慮到SiC 粉體在實(shí)驗(yàn)過程中因過濾等操作損失較大,采用SiC 砂紙進(jìn)行活化試驗(yàn),活化效果用粉體的包覆率表征。先用掃描儀獲取化學(xué)鍍后粉體的數(shù)字圖像,如圖1 所示,根據(jù)施鍍前后粉體顏色的變化,用Image J 軟件精確測量粉體表面的覆蓋率。需要指出的是,該法結(jié)果與粉體在鍍液中的真實(shí)包覆情況有一定差異,本文僅以此優(yōu)化活化參數(shù)。

圖1 活化前后SiC 粉體的照片F(xiàn)igure 1 Images of SiC powder before and after activation

1.4.2 形貌和結(jié)構(gòu)

用JSM7500F 型場發(fā)射掃描電子顯微鏡及其附帶的能譜儀(EDS)分析SiC 粉體的表面形貌和成分。采用島津6000 X 射線衍射儀(XRD)分析SiC 粉體的組成和結(jié)構(gòu),Cu 靶,掃描速率為2°/min。

2 結(jié)果與討論

2.1 無鈀活化液組成和工藝條件對(duì)活化效果的影響

2.1.1 乙酸鎳含量

活化液中的鎳鹽為后續(xù)化學(xué)鍍工藝提供具有催化活性的鎳微粒。鎳的硫酸鹽和氯化物在醇溶劑中的溶解度很小,鎳的硝酸鹽溶解度很大但氧化性很強(qiáng),鎳的乙酸鹽易溶于醇,可滿足試驗(yàn)要求[8]。在硼氫化鈉為1 g/L、溫度為15°C、活化時(shí)間為1 min 的條件下,考察乙酸鎳含量對(duì)SiC 粉體表面鎳包覆率的影響,結(jié)果如圖2 所示。

圖2 活化液中乙酸鎳含量對(duì)SiC 粉體鎳包覆率的影響Figure 2 Effect of nickel acetate content in activating solution on nickel cladding ratio of SiC powder

由圖2 可知,隨活化液中乙酸鎳含量增大,SiC 粉體的鎳包覆率先增大后趨于穩(wěn)定。0.0~0.6 g/L 時(shí),隨乙酸鎳含量增大,SiC 粉體的鎳包覆率急劇增大;大于0.6 g/L 時(shí),SiC 粉體可實(shí)現(xiàn)100%包覆;當(dāng)然乙酸鎳在醇溶液中的含量并非愈大愈好,高于30 g/L 時(shí),活化液的配制過程中反應(yīng)劇烈,有大量氣泡逸出,同時(shí)出現(xiàn)黑色絮狀沉淀,說明活化液的穩(wěn)定性減弱,活化液開始失效。因此,試驗(yàn)確定活化液中乙酸鎳的質(zhì)量濃度范圍為0.6~30 g/L。

2.1.2 硼氫化鈉含量

選用硼氫化鈉作活化液的還原劑,分別固定乙酸鎳為1 g/L、溫度為15°C、活化時(shí)間為1 min 不變,考察硼氫化鈉含量對(duì)SiC 粉體表面鎳包覆率的影響,結(jié)果如圖3 所示。

圖3 活化液中硼氫化鈉含量對(duì)SiC 粉體鎳包覆率的影響Figure 3 Effect of sodium borohydride content in activating solution on nickel cladding ratio of SiC powder

由圖3 可以看出,隨硼氫化鈉含量升高,SiC 粉體的包覆率同樣呈先增大后平穩(wěn)的變化趨勢。硼氫化鈉的質(zhì)量濃度小于0.4 g/L 時(shí),粉體的包覆率迅速增大;大于0.4 g/L 時(shí),粉體的包覆率保持在100%。由于硼氫化鈉微溶于醇溶劑,20°C 下其在無水乙醇中的溶解度僅為4.0 g/L,所以活化液中硼氫化鈉的適宜質(zhì)量濃度范圍為0.4~4.0 g/L。

2.1.3 活化溫度

根據(jù)化學(xué)動(dòng)力學(xué)中Arrhenius 反應(yīng)速率經(jīng)驗(yàn)公式,溫度顯著影響著化學(xué)反應(yīng)速率。其余工藝參數(shù)同上,考察了不同溫度下SiC 粉體的包覆率,結(jié)果如圖4 所示。由圖4 可知,低于30°C 時(shí),SiC 粉體的包覆率都能夠達(dá)100%,實(shí)現(xiàn)完全包覆;30~50°C 時(shí),SiC 粉體的包覆率急劇下降;高于50°C 時(shí),SiC 粉體的包覆率逐漸降為0%,活化溶液失效。因此,活化液的適宜操作溫度為10~30°C。

圖4 活化溫度對(duì)SiC 粉體鎳包覆率的影響Figure 4 Effect of activation temperature on nickel cladding ratio of SiC powder

2.1.4 活化時(shí)間

通過活化時(shí)間對(duì)鎳包覆率的影響來討論活化液的穩(wěn)定性。分別考察了20、25 和30°C 溫度條件下,活化液活化時(shí)間對(duì)SiC 粉體的包覆率的影響,考慮到試驗(yàn)的可操作性,活化時(shí)間最短為1 min,每測試一批試樣就換新的活化液,結(jié)果如圖5 所示。

圖5 活化時(shí)間對(duì)SiC 粉體鎳包覆率的影響Figure 5 Effect of activation time on nickel cladding ratio of SiC powder

由圖5 可知,不同溫度下,SiC 粉體表面的鎳包覆率隨活化時(shí)間的變化趨勢一致,都有一個(gè)活化失效的過程。推測其原因?yàn)?,活化液在活化初期的化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)物,即金屬鎳微粒的粒度很小,在布朗運(yùn)動(dòng)和自身重力作用下處于動(dòng)態(tài)平衡,隨時(shí)間延長,微粒之間相互碰撞,團(tuán)聚現(xiàn)象越來越明顯,金屬鎳微粒不斷變大,重力作用逐漸成為主導(dǎo),使鎳微粒發(fā)生沉降,活化溶液失效。由圖5 還可知,隨溫度升高,活化液的活化時(shí)間減小。這是因?yàn)闇囟鹊纳吣苡行Т龠M(jìn)化學(xué)反應(yīng)進(jìn)行,加快金屬鎳微粒的布朗運(yùn)動(dòng),團(tuán)聚現(xiàn)象逐漸明顯,宏觀表現(xiàn)為活化液的活化時(shí)間縮短。因此,適宜的活化時(shí)間為1~40 min。

2.2 性能表征

將SiC 粉體預(yù)處理后,采用由10 g/L 乙酸鎳和2 g/L 硼氫化鈉組成的無水乙醇活化液,在20°C 下活化10 min,最后進(jìn)行化學(xué)鍍鎳和相關(guān)性能表征。

2.2.1 表面形貌

圖6 所示為預(yù)處理后SiC 原粉體和化學(xué)鍍鎳SiC粉體的表面形貌。從低倍圖可知,粉體的平均粒徑在60 μm 左右;從高倍圖可明顯看出,化學(xué)鍍鎳后粉體的表面形貌發(fā)生明顯改變,顆粒表面均勻包覆了一層典型的鎳磷合金層。

圖6 預(yù)處理和化學(xué)鍍鎳后SiC 粉體的表面形貌Figure 6 Surface morphologies of pretreated and electroless nickel plated SiC powder

2.2.2 相結(jié)構(gòu)

利用X 射線衍射儀對(duì)SiC 粉體的組成進(jìn)行分析,結(jié)果如圖7 所示。從圖7 可知,SiC 原粉體主要由α-SiC和β-SiC 組成;活化后,SiC 粉體表面包覆了一層金屬鎳;化學(xué)鍍鎳后,SiC 粉體在2θ 為45°處有一個(gè)較強(qiáng)的、明顯寬化的饅頭峰,該峰對(duì)應(yīng)Ni(111)晶面,說明SiC 粉體表面包覆的鎳鍍層為非晶結(jié)構(gòu)。EDS 分析表明,鍍層P 含量為14.15%(質(zhì)量分?jǐn)?shù)),大于12%,為非晶態(tài)結(jié)構(gòu)[11],與XRD 結(jié)果一致。

圖7 不同工序處理后SiC 粉體的XRD 譜Figure 7 XRD pattern for SiC powder treated by different processes

根據(jù)試驗(yàn)現(xiàn)象,對(duì)無鈀活化工藝的化學(xué)過程進(jìn)行推測,其中可能存在的化學(xué)反應(yīng)如下:

在活化過程中能明顯觀察到有黑色物質(zhì)生成,其原因?yàn)榕饸浠c具有很強(qiáng)的還原性,在乙醇溶液中可將乙酸鎳還原,生成活性金屬鎳。另外還可觀察到有大量氣泡產(chǎn)生,證明反應(yīng)產(chǎn)生了氫氣。反應(yīng)過程有水參與反應(yīng),這是因?yàn)橐宜徭噹в? 個(gè)結(jié)晶水,引起有機(jī)鹽的水解反應(yīng)。

3 結(jié)論

采用有機(jī)鎳鹽還原法對(duì)SiC 粉體進(jìn)行活化處理,在顆粒表面成功包覆了一層具有催化活性的鎳金屬微粒,進(jìn)而可進(jìn)行化學(xué)鍍鎳。具體活化工藝為:乙酸鎳0.6~30.0 g/L,硼氫化鈉0.4~4.0 g/L,溫度10~30°C,活化時(shí)間1~40 min。該無鈀活化工藝綠色環(huán)保,操作簡便,活化效果十分明顯,具有一定的實(shí)際應(yīng)用價(jià)值。

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