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基于非球面的紋影系統(tǒng)設(shè)計(jì)

2014-06-10 08:54:21孟慶華
關(guān)鍵詞:有限元分析

孟慶華

摘 要:在大口徑紋影系統(tǒng)中,主反射鏡通常采用球面反射鏡,球面反射鏡雖然加工成本低但像質(zhì)差一些。我們?cè)O(shè)計(jì)的紋影系統(tǒng)主反射鏡采用拋物面反射鏡,對(duì)由兩個(gè)拋物面反射鏡組成的紋影系統(tǒng)和兩個(gè)球面反射鏡組成的紋影系統(tǒng)的像質(zhì)和像面照度均勻性進(jìn)行了對(duì)比,對(duì)環(huán)境如氣壓和溫度對(duì)窗口的影響進(jìn)行了有限元分析。設(shè)計(jì)結(jié)果表明:主反射鏡采用拋物面反射鏡像面上的光斑均勻性優(yōu)于主反射鏡采用球面反射鏡的紋影系統(tǒng)。

關(guān)鍵詞:紋影系統(tǒng) 大口徑反射鏡 有限元分析

中圖分類號(hào):TH741.4 文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:A 文章編號(hào):1674-098X(2014)03(a)-0074-01

紋影技術(shù)是光學(xué)流動(dòng)顯示技術(shù),測(cè)量方法是利用光在所在流場(chǎng)中的折射率梯度和流場(chǎng)的氣流密度之間的正比關(guān)系進(jìn)行測(cè)量,在燃燒、激波、風(fēng)洞流場(chǎng)和水洞流場(chǎng)中有著廣泛的應(yīng)用[1-2]。傳統(tǒng)紋影系統(tǒng)的光學(xué)系統(tǒng)主反射鏡都采用球面,雖然加工成本較低、加工周期較短,但由于離軸使用的球面反射鏡存在球差和像散,像面照度均勻性略差。本文介紹了主反射鏡采用拋物面反射鏡的大口徑紋影系統(tǒng),對(duì)氣壓和溫度對(duì)窗口的影響進(jìn)行了有限元分析,并對(duì)主反射鏡采用球面反射鏡和拋物面反射鏡的紋影系統(tǒng)進(jìn)行了對(duì)比。

1 紋影系統(tǒng)設(shè)計(jì)

紋影系統(tǒng)采用“Z”字型光路布局,布局圖見圖1。主要由鹵素?zé)艄庠聪到y(tǒng)、聚光鏡組件、狹縫、馬蹄反射鏡、主球面(或非球面)反射鏡、刀口、CCD成像系統(tǒng)、鏡筒、各種調(diào)整機(jī)構(gòu)和紋影系統(tǒng)配套的窗口及相關(guān)配件等組成。狹縫和刀口分別位于兩個(gè)主反射鏡的焦面上,鹵素?zé)艚?jīng)聚光鏡會(huì)聚在狹縫上,照明光源大小由狹縫限制,經(jīng)過馬蹄反射鏡和主反射鏡反射后得到平行光,通過窗口照明風(fēng)洞流場(chǎng)區(qū)域,通過主球面(或非球面)反射鏡和馬蹄反射鏡把狹縫成像在焦面的刀口上,流場(chǎng)經(jīng)主反射鏡和成像物鏡把像在CCD相機(jī)的靶面上。

球面反射鏡用于準(zhǔn)直系統(tǒng),必然會(huì)有球差的影響;球面反射鏡離軸使用,還會(huì)有比較嚴(yán)重的像散。為了在像差校正上有所改進(jìn),可以把球面反射鏡離軸使用改成使用離軸拋物面反射鏡,理論設(shè)計(jì)上離軸拋物面反射鏡在與母鏡光軸夾角較小的范圍內(nèi)像差很小。把兩個(gè)離軸反射鏡對(duì)接,形成“Z”型光路,在本系統(tǒng)中就是狹縫成像到刀口的光路,由球面反射鏡組成的系統(tǒng)與由拋物面反射鏡組成的系統(tǒng)成像質(zhì)量有一定差別。由兩個(gè)離軸球面反射鏡組成系統(tǒng)像散嚴(yán)重,約為單鏡的2倍。波像差達(dá)到PV=14.767,RMS=3.164(@632.8nm)。“Z”型布置的光路使其像差得到一定控制,對(duì)稱性也加強(qiáng)。由兩個(gè)離軸拋物面反射鏡組成系統(tǒng)的像差校正良好,只是軸外有少量像散,波像差達(dá)到PV=0.023,RMS=0.005(@632.8nm)。

紋影系統(tǒng)是通過探測(cè)測(cè)試區(qū)流體對(duì)透射波前的擾動(dòng)而產(chǎn)生的光亮度明暗變化來得到流場(chǎng)特性,在測(cè)試區(qū)沒有對(duì)透射光波前產(chǎn)生擾動(dòng)的時(shí)候,希望在接收器中接收到的測(cè)試區(qū)視場(chǎng)范圍內(nèi)的圖像光亮度是均勻的。紋影系統(tǒng)中采用的狹縫和刀口是呈正方形排列,希望每一條邊的狹縫和刀口組合在接收器像面上的照度基本一致。四個(gè)方向的狹縫及其對(duì)應(yīng)刀口分別在球面反射鏡系統(tǒng)造成的像面照度分布,有兩個(gè)方向(狹縫和刀口平行于光軸方向),像面照度比較均勻,可以滿足邊緣效應(yīng)不小于0.7,光斑均勻性大于85%的要求;而另外兩個(gè)方向(狹縫和刀口垂直于光軸方向),像面處的光斑呈明顯的失對(duì)稱形狀,無法滿足邊緣效應(yīng)和光斑均勻性的要求。四個(gè)方向的狹縫及其對(duì)應(yīng)刀口分別在拋物面反射鏡系統(tǒng)造成的像面照度分布,四種情況下,像面上的光斑都很均勻,而且比較一致,可以滿足邊緣效應(yīng)和光斑均勻性的要求。由于在成像系統(tǒng)中刀口為孔徑光闌,并且相對(duì)光學(xué)系統(tǒng)來說很小,所以紋影反射鏡采用球面和非球面對(duì)成像質(zhì)量影響并不大。

窗口隔離了測(cè)試區(qū)內(nèi)外的環(huán)境,同時(shí)又被光線穿過,窗口的變形需要定量分析。工作時(shí),測(cè)試區(qū)為負(fù)壓,而風(fēng)洞外為近似一個(gè)大氣壓。我們?nèi)「鱾€(gè)大氣壓的壓差,用有限元分析了K9材料玻璃窗口的變形。外表面向里凹,內(nèi)表面向外凸,變形量基本一致,最大變形量約為4 μm,窗口的這種變形對(duì)光學(xué)系統(tǒng)沒有影響。測(cè)試區(qū)與外界溫差主要還是體現(xiàn)在對(duì)窗口的影響上,取測(cè)試區(qū)高溫,100 °溫差,用有限元分析了K9材料玻璃窗口的變形。外表面向里凹,內(nèi)表面向外凸,變形量基本一致,最大變形量約為0.4 μm。窗口的這種變形對(duì)光學(xué)系統(tǒng)基本沒有影響。為了確保Φ500 mm口徑的測(cè)試區(qū),可以考慮把窗口適當(dāng)做大,去除邊緣的影響。紋影系統(tǒng)的工作環(huán)境溫度為最高溫度45℃,最低溫度-10 ℃,系統(tǒng)最大溫差為55 ℃。

度變化后子午方向呈現(xiàn)出了一定的照度不均勻性,趨勢(shì)與球面反射鏡系統(tǒng)相同,溫度變化產(chǎn)生的這種影響主要是溫度變化使光學(xué)系統(tǒng)(主要是主反射鏡)產(chǎn)生了焦面位置和離軸量的變化引起的,可以通過調(diào)節(jié)光學(xué)系統(tǒng)或控制環(huán)境溫度來解決。

2 結(jié)語

該文介紹了主反射鏡基于非球面反射鏡大口徑紋影系統(tǒng)設(shè)計(jì),對(duì)氣壓和溫度對(duì)窗口的影響進(jìn)行了有限元分析,氣壓和溫度對(duì)窗口的影響可忽略不計(jì)。對(duì)主反射鏡采用球面反射鏡和拋物面反射鏡的紋影系統(tǒng)進(jìn)行了對(duì)比,采用非球面可提高像面上的光斑均勻性。

參考文獻(xiàn)

[1] Settles G SSchlieren and Shadowgraph Techniques: Visualizing Phenomena in Transparent Media[M].Springer Press,2001:1-4.

[2] FENG Tian-zhi,LIN Cheng-min, ZHAO Run-xiang,etal. Schlieren method:a review of techniques[J].Journal of Ballistics,1994(2):89-96.endprint

摘 要:在大口徑紋影系統(tǒng)中,主反射鏡通常采用球面反射鏡,球面反射鏡雖然加工成本低但像質(zhì)差一些。我們?cè)O(shè)計(jì)的紋影系統(tǒng)主反射鏡采用拋物面反射鏡,對(duì)由兩個(gè)拋物面反射鏡組成的紋影系統(tǒng)和兩個(gè)球面反射鏡組成的紋影系統(tǒng)的像質(zhì)和像面照度均勻性進(jìn)行了對(duì)比,對(duì)環(huán)境如氣壓和溫度對(duì)窗口的影響進(jìn)行了有限元分析。設(shè)計(jì)結(jié)果表明:主反射鏡采用拋物面反射鏡像面上的光斑均勻性優(yōu)于主反射鏡采用球面反射鏡的紋影系統(tǒng)。

關(guān)鍵詞:紋影系統(tǒng) 大口徑反射鏡 有限元分析

中圖分類號(hào):TH741.4 文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:A 文章編號(hào):1674-098X(2014)03(a)-0074-01

紋影技術(shù)是光學(xué)流動(dòng)顯示技術(shù),測(cè)量方法是利用光在所在流場(chǎng)中的折射率梯度和流場(chǎng)的氣流密度之間的正比關(guān)系進(jìn)行測(cè)量,在燃燒、激波、風(fēng)洞流場(chǎng)和水洞流場(chǎng)中有著廣泛的應(yīng)用[1-2]。傳統(tǒng)紋影系統(tǒng)的光學(xué)系統(tǒng)主反射鏡都采用球面,雖然加工成本較低、加工周期較短,但由于離軸使用的球面反射鏡存在球差和像散,像面照度均勻性略差。本文介紹了主反射鏡采用拋物面反射鏡的大口徑紋影系統(tǒng),對(duì)氣壓和溫度對(duì)窗口的影響進(jìn)行了有限元分析,并對(duì)主反射鏡采用球面反射鏡和拋物面反射鏡的紋影系統(tǒng)進(jìn)行了對(duì)比。

1 紋影系統(tǒng)設(shè)計(jì)

紋影系統(tǒng)采用“Z”字型光路布局,布局圖見圖1。主要由鹵素?zé)艄庠聪到y(tǒng)、聚光鏡組件、狹縫、馬蹄反射鏡、主球面(或非球面)反射鏡、刀口、CCD成像系統(tǒng)、鏡筒、各種調(diào)整機(jī)構(gòu)和紋影系統(tǒng)配套的窗口及相關(guān)配件等組成。狹縫和刀口分別位于兩個(gè)主反射鏡的焦面上,鹵素?zé)艚?jīng)聚光鏡會(huì)聚在狹縫上,照明光源大小由狹縫限制,經(jīng)過馬蹄反射鏡和主反射鏡反射后得到平行光,通過窗口照明風(fēng)洞流場(chǎng)區(qū)域,通過主球面(或非球面)反射鏡和馬蹄反射鏡把狹縫成像在焦面的刀口上,流場(chǎng)經(jīng)主反射鏡和成像物鏡把像在CCD相機(jī)的靶面上。

球面反射鏡用于準(zhǔn)直系統(tǒng),必然會(huì)有球差的影響;球面反射鏡離軸使用,還會(huì)有比較嚴(yán)重的像散。為了在像差校正上有所改進(jìn),可以把球面反射鏡離軸使用改成使用離軸拋物面反射鏡,理論設(shè)計(jì)上離軸拋物面反射鏡在與母鏡光軸夾角較小的范圍內(nèi)像差很小。把兩個(gè)離軸反射鏡對(duì)接,形成“Z”型光路,在本系統(tǒng)中就是狹縫成像到刀口的光路,由球面反射鏡組成的系統(tǒng)與由拋物面反射鏡組成的系統(tǒng)成像質(zhì)量有一定差別。由兩個(gè)離軸球面反射鏡組成系統(tǒng)像散嚴(yán)重,約為單鏡的2倍。波像差達(dá)到PV=14.767,RMS=3.164(@632.8nm)?!癦”型布置的光路使其像差得到一定控制,對(duì)稱性也加強(qiáng)。由兩個(gè)離軸拋物面反射鏡組成系統(tǒng)的像差校正良好,只是軸外有少量像散,波像差達(dá)到PV=0.023,RMS=0.005(@632.8nm)。

紋影系統(tǒng)是通過探測(cè)測(cè)試區(qū)流體對(duì)透射波前的擾動(dòng)而產(chǎn)生的光亮度明暗變化來得到流場(chǎng)特性,在測(cè)試區(qū)沒有對(duì)透射光波前產(chǎn)生擾動(dòng)的時(shí)候,希望在接收器中接收到的測(cè)試區(qū)視場(chǎng)范圍內(nèi)的圖像光亮度是均勻的。紋影系統(tǒng)中采用的狹縫和刀口是呈正方形排列,希望每一條邊的狹縫和刀口組合在接收器像面上的照度基本一致。四個(gè)方向的狹縫及其對(duì)應(yīng)刀口分別在球面反射鏡系統(tǒng)造成的像面照度分布,有兩個(gè)方向(狹縫和刀口平行于光軸方向),像面照度比較均勻,可以滿足邊緣效應(yīng)不小于0.7,光斑均勻性大于85%的要求;而另外兩個(gè)方向(狹縫和刀口垂直于光軸方向),像面處的光斑呈明顯的失對(duì)稱形狀,無法滿足邊緣效應(yīng)和光斑均勻性的要求。四個(gè)方向的狹縫及其對(duì)應(yīng)刀口分別在拋物面反射鏡系統(tǒng)造成的像面照度分布,四種情況下,像面上的光斑都很均勻,而且比較一致,可以滿足邊緣效應(yīng)和光斑均勻性的要求。由于在成像系統(tǒng)中刀口為孔徑光闌,并且相對(duì)光學(xué)系統(tǒng)來說很小,所以紋影反射鏡采用球面和非球面對(duì)成像質(zhì)量影響并不大。

窗口隔離了測(cè)試區(qū)內(nèi)外的環(huán)境,同時(shí)又被光線穿過,窗口的變形需要定量分析。工作時(shí),測(cè)試區(qū)為負(fù)壓,而風(fēng)洞外為近似一個(gè)大氣壓。我們?nèi)「鱾€(gè)大氣壓的壓差,用有限元分析了K9材料玻璃窗口的變形。外表面向里凹,內(nèi)表面向外凸,變形量基本一致,最大變形量約為4 μm,窗口的這種變形對(duì)光學(xué)系統(tǒng)沒有影響。測(cè)試區(qū)與外界溫差主要還是體現(xiàn)在對(duì)窗口的影響上,取測(cè)試區(qū)高溫,100 °溫差,用有限元分析了K9材料玻璃窗口的變形。外表面向里凹,內(nèi)表面向外凸,變形量基本一致,最大變形量約為0.4 μm。窗口的這種變形對(duì)光學(xué)系統(tǒng)基本沒有影響。為了確保Φ500 mm口徑的測(cè)試區(qū),可以考慮把窗口適當(dāng)做大,去除邊緣的影響。紋影系統(tǒng)的工作環(huán)境溫度為最高溫度45℃,最低溫度-10 ℃,系統(tǒng)最大溫差為55 ℃。

度變化后子午方向呈現(xiàn)出了一定的照度不均勻性,趨勢(shì)與球面反射鏡系統(tǒng)相同,溫度變化產(chǎn)生的這種影響主要是溫度變化使光學(xué)系統(tǒng)(主要是主反射鏡)產(chǎn)生了焦面位置和離軸量的變化引起的,可以通過調(diào)節(jié)光學(xué)系統(tǒng)或控制環(huán)境溫度來解決。

2 結(jié)語

該文介紹了主反射鏡基于非球面反射鏡大口徑紋影系統(tǒng)設(shè)計(jì),對(duì)氣壓和溫度對(duì)窗口的影響進(jìn)行了有限元分析,氣壓和溫度對(duì)窗口的影響可忽略不計(jì)。對(duì)主反射鏡采用球面反射鏡和拋物面反射鏡的紋影系統(tǒng)進(jìn)行了對(duì)比,采用非球面可提高像面上的光斑均勻性。

參考文獻(xiàn)

[1] Settles G SSchlieren and Shadowgraph Techniques: Visualizing Phenomena in Transparent Media[M].Springer Press,2001:1-4.

[2] FENG Tian-zhi,LIN Cheng-min, ZHAO Run-xiang,etal. Schlieren method:a review of techniques[J].Journal of Ballistics,1994(2):89-96.endprint

摘 要:在大口徑紋影系統(tǒng)中,主反射鏡通常采用球面反射鏡,球面反射鏡雖然加工成本低但像質(zhì)差一些。我們?cè)O(shè)計(jì)的紋影系統(tǒng)主反射鏡采用拋物面反射鏡,對(duì)由兩個(gè)拋物面反射鏡組成的紋影系統(tǒng)和兩個(gè)球面反射鏡組成的紋影系統(tǒng)的像質(zhì)和像面照度均勻性進(jìn)行了對(duì)比,對(duì)環(huán)境如氣壓和溫度對(duì)窗口的影響進(jìn)行了有限元分析。設(shè)計(jì)結(jié)果表明:主反射鏡采用拋物面反射鏡像面上的光斑均勻性優(yōu)于主反射鏡采用球面反射鏡的紋影系統(tǒng)。

關(guān)鍵詞:紋影系統(tǒng) 大口徑反射鏡 有限元分析

中圖分類號(hào):TH741.4 文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:A 文章編號(hào):1674-098X(2014)03(a)-0074-01

紋影技術(shù)是光學(xué)流動(dòng)顯示技術(shù),測(cè)量方法是利用光在所在流場(chǎng)中的折射率梯度和流場(chǎng)的氣流密度之間的正比關(guān)系進(jìn)行測(cè)量,在燃燒、激波、風(fēng)洞流場(chǎng)和水洞流場(chǎng)中有著廣泛的應(yīng)用[1-2]。傳統(tǒng)紋影系統(tǒng)的光學(xué)系統(tǒng)主反射鏡都采用球面,雖然加工成本較低、加工周期較短,但由于離軸使用的球面反射鏡存在球差和像散,像面照度均勻性略差。本文介紹了主反射鏡采用拋物面反射鏡的大口徑紋影系統(tǒng),對(duì)氣壓和溫度對(duì)窗口的影響進(jìn)行了有限元分析,并對(duì)主反射鏡采用球面反射鏡和拋物面反射鏡的紋影系統(tǒng)進(jìn)行了對(duì)比。

1 紋影系統(tǒng)設(shè)計(jì)

紋影系統(tǒng)采用“Z”字型光路布局,布局圖見圖1。主要由鹵素?zé)艄庠聪到y(tǒng)、聚光鏡組件、狹縫、馬蹄反射鏡、主球面(或非球面)反射鏡、刀口、CCD成像系統(tǒng)、鏡筒、各種調(diào)整機(jī)構(gòu)和紋影系統(tǒng)配套的窗口及相關(guān)配件等組成。狹縫和刀口分別位于兩個(gè)主反射鏡的焦面上,鹵素?zé)艚?jīng)聚光鏡會(huì)聚在狹縫上,照明光源大小由狹縫限制,經(jīng)過馬蹄反射鏡和主反射鏡反射后得到平行光,通過窗口照明風(fēng)洞流場(chǎng)區(qū)域,通過主球面(或非球面)反射鏡和馬蹄反射鏡把狹縫成像在焦面的刀口上,流場(chǎng)經(jīng)主反射鏡和成像物鏡把像在CCD相機(jī)的靶面上。

球面反射鏡用于準(zhǔn)直系統(tǒng),必然會(huì)有球差的影響;球面反射鏡離軸使用,還會(huì)有比較嚴(yán)重的像散。為了在像差校正上有所改進(jìn),可以把球面反射鏡離軸使用改成使用離軸拋物面反射鏡,理論設(shè)計(jì)上離軸拋物面反射鏡在與母鏡光軸夾角較小的范圍內(nèi)像差很小。把兩個(gè)離軸反射鏡對(duì)接,形成“Z”型光路,在本系統(tǒng)中就是狹縫成像到刀口的光路,由球面反射鏡組成的系統(tǒng)與由拋物面反射鏡組成的系統(tǒng)成像質(zhì)量有一定差別。由兩個(gè)離軸球面反射鏡組成系統(tǒng)像散嚴(yán)重,約為單鏡的2倍。波像差達(dá)到PV=14.767,RMS=3.164(@632.8nm)?!癦”型布置的光路使其像差得到一定控制,對(duì)稱性也加強(qiáng)。由兩個(gè)離軸拋物面反射鏡組成系統(tǒng)的像差校正良好,只是軸外有少量像散,波像差達(dá)到PV=0.023,RMS=0.005(@632.8nm)。

紋影系統(tǒng)是通過探測(cè)測(cè)試區(qū)流體對(duì)透射波前的擾動(dòng)而產(chǎn)生的光亮度明暗變化來得到流場(chǎng)特性,在測(cè)試區(qū)沒有對(duì)透射光波前產(chǎn)生擾動(dòng)的時(shí)候,希望在接收器中接收到的測(cè)試區(qū)視場(chǎng)范圍內(nèi)的圖像光亮度是均勻的。紋影系統(tǒng)中采用的狹縫和刀口是呈正方形排列,希望每一條邊的狹縫和刀口組合在接收器像面上的照度基本一致。四個(gè)方向的狹縫及其對(duì)應(yīng)刀口分別在球面反射鏡系統(tǒng)造成的像面照度分布,有兩個(gè)方向(狹縫和刀口平行于光軸方向),像面照度比較均勻,可以滿足邊緣效應(yīng)不小于0.7,光斑均勻性大于85%的要求;而另外兩個(gè)方向(狹縫和刀口垂直于光軸方向),像面處的光斑呈明顯的失對(duì)稱形狀,無法滿足邊緣效應(yīng)和光斑均勻性的要求。四個(gè)方向的狹縫及其對(duì)應(yīng)刀口分別在拋物面反射鏡系統(tǒng)造成的像面照度分布,四種情況下,像面上的光斑都很均勻,而且比較一致,可以滿足邊緣效應(yīng)和光斑均勻性的要求。由于在成像系統(tǒng)中刀口為孔徑光闌,并且相對(duì)光學(xué)系統(tǒng)來說很小,所以紋影反射鏡采用球面和非球面對(duì)成像質(zhì)量影響并不大。

窗口隔離了測(cè)試區(qū)內(nèi)外的環(huán)境,同時(shí)又被光線穿過,窗口的變形需要定量分析。工作時(shí),測(cè)試區(qū)為負(fù)壓,而風(fēng)洞外為近似一個(gè)大氣壓。我們?nèi)「鱾€(gè)大氣壓的壓差,用有限元分析了K9材料玻璃窗口的變形。外表面向里凹,內(nèi)表面向外凸,變形量基本一致,最大變形量約為4 μm,窗口的這種變形對(duì)光學(xué)系統(tǒng)沒有影響。測(cè)試區(qū)與外界溫差主要還是體現(xiàn)在對(duì)窗口的影響上,取測(cè)試區(qū)高溫,100 °溫差,用有限元分析了K9材料玻璃窗口的變形。外表面向里凹,內(nèi)表面向外凸,變形量基本一致,最大變形量約為0.4 μm。窗口的這種變形對(duì)光學(xué)系統(tǒng)基本沒有影響。為了確保Φ500 mm口徑的測(cè)試區(qū),可以考慮把窗口適當(dāng)做大,去除邊緣的影響。紋影系統(tǒng)的工作環(huán)境溫度為最高溫度45℃,最低溫度-10 ℃,系統(tǒng)最大溫差為55 ℃。

度變化后子午方向呈現(xiàn)出了一定的照度不均勻性,趨勢(shì)與球面反射鏡系統(tǒng)相同,溫度變化產(chǎn)生的這種影響主要是溫度變化使光學(xué)系統(tǒng)(主要是主反射鏡)產(chǎn)生了焦面位置和離軸量的變化引起的,可以通過調(diào)節(jié)光學(xué)系統(tǒng)或控制環(huán)境溫度來解決。

2 結(jié)語

該文介紹了主反射鏡基于非球面反射鏡大口徑紋影系統(tǒng)設(shè)計(jì),對(duì)氣壓和溫度對(duì)窗口的影響進(jìn)行了有限元分析,氣壓和溫度對(duì)窗口的影響可忽略不計(jì)。對(duì)主反射鏡采用球面反射鏡和拋物面反射鏡的紋影系統(tǒng)進(jìn)行了對(duì)比,采用非球面可提高像面上的光斑均勻性。

參考文獻(xiàn)

[1] Settles G SSchlieren and Shadowgraph Techniques: Visualizing Phenomena in Transparent Media[M].Springer Press,2001:1-4.

[2] FENG Tian-zhi,LIN Cheng-min, ZHAO Run-xiang,etal. Schlieren method:a review of techniques[J].Journal of Ballistics,1994(2):89-96.endprint

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