Pulse Plating Editors：Wolfgang E．G．Hansal ＆Sudipta Roy．Published：Leuze Verlag，Bad Saulgau；www．leuze－verlag．de （2012）；ISBN 978－3－87480－265－9，pp．385；Price：210，－Euro （include tax and shipping costs in Germany）．

英文本Pulse Plating由該領(lǐng)域內(nèi)的兩家權(quán)威單位編著，本書介紹了脈沖電鍍工藝和設(shè)備的最新知識。該書編寫于上世紀(jì)90年代，迄今仍被認(rèn)為是“脈沖電鍍”這個主題的一本標(biāo)準(zhǔn)著作。因為在這本400頁的英文著作中包括了當(dāng)前人們對本主題基本原理及其應(yīng)用范圍的認(rèn)識。該書介紹了脈沖電鍍領(lǐng)域內(nèi)的重大發(fā)展，無論是水溶液還是離子液體體系，包括了沉積二元和三元合金、復(fù)合鍍層、成分梯度膜和多層膜。同時還介紹了納米晶鍍層和選擇性電鍍技術(shù)，這些技術(shù)已被廣泛應(yīng)用于電子產(chǎn)品制造和鍍層半導(dǎo)體（如電子、太陽能電池等）的高速沉積過程。該技術(shù)同時還被用于陽極過程（如氧化、電化學(xué)加工、電化學(xué)拋光等）。該書的第一部分介紹了在金屬－電解質(zhì)界面沉積金屬的一種熱力學(xué)和反應(yīng)動力學(xué)深度處理；第二部分介紹了脈沖電鍍應(yīng)用于工業(yè)的各個方面及其要求；第四和最后部分則介紹了一些特殊的系統(tǒng)，其中包括使用脈沖電鍍對鋁和鋁合金進行陽極氧化、電化學(xué)加工及電化學(xué)拋光。此外，還包括納米鍍層的應(yīng)用以及納米復(fù)合鍍層的潛在應(yīng)用。本書整體布局頗具系統(tǒng)性、分類清晰，必將成為脈沖電鍍領(lǐng)域內(nèi)的重要參考書。不僅提供給致力于開發(fā)新技術(shù)的人們，也可提供給在工業(yè)環(huán)境中工作和力求精通本學(xué)科的人們。