山東藍(lán)景膜技術(shù)工程有限公司 張衛(wèi)峰
真空鍍膜機(jī)是太陽能真空管生產(chǎn)的關(guān)鍵設(shè)備,隨著自動化技術(shù)的發(fā)展,其工藝要求及自動化程度也越來越高。最初的真空鍍膜機(jī)控制系統(tǒng)采用繼電器控制,由模擬線路板及單片機(jī)等電路組成實(shí)現(xiàn)控制功能,因線路繁雜以及電子元器件的不穩(wěn)定造成設(shè)備性能的不穩(wěn)定,并且給維修工作帶來很大困難,另外操作界面不直觀,誤操作現(xiàn)象時有發(fā)生。目前,真空鍍膜機(jī)已廣泛采用PLC可編程器設(shè)計控制系統(tǒng),該技術(shù)已相當(dāng)成熟,基本取代了單片機(jī),并采用先進(jìn)的人機(jī)界面——觸摸屏進(jìn)行更加直觀的人機(jī)對話,可方便地設(shè)定參數(shù),由控制系統(tǒng)按工藝流程分步或自動運(yùn)行,具有各種系統(tǒng)保護(hù)以及故障提示、報警信息等功能,并且通過利用PLC通訊功能,與上位機(jī)通訊,實(shí)現(xiàn)對真空鍍膜機(jī)工藝流程的全程監(jiān)控,以便工程師及時發(fā)現(xiàn)并處理故障信息以及遠(yuǎn)程修改工藝參數(shù)等,極大地方便了生產(chǎn)過程質(zhì)量控制和管理。
真空太陽集熱管鋁-氮/鋁吸熱膜層是在正離子機(jī)真空環(huán)境下,利用真空稀薄氣體輝光放電產(chǎn)生的正離子轟擊金屬或其合金表面,濺射出金屬粒子沉積到工件表面,從而獲得的物理膜層。其裝置一般由濺射電源、真空機(jī)組、工作氣體控制器、真空室和真空測量儀表等組成。
真空室內(nèi)工件裝填完畢后,真空機(jī)組抽出真空室氣體,建立鍍膜必須的真空環(huán)境。抽真空分為粗抽、精抽以及維持?jǐn)U散泵真空度的過程,真空度由熱偶規(guī)管、電離規(guī)管及真空測量儀表獲得。當(dāng)真空度達(dá)到鍍膜要求數(shù)值后,關(guān)閉光攔閥,真空室內(nèi)充入稀薄的氬氣,打開濺射電源,在金屬靶上施加400V左右的直流電壓,真空稀薄氣體輝光放電產(chǎn)生的正離子轟擊金屬靶表面,濺射出金屬粒子沉積到工件表面,并且按照預(yù)先設(shè)定的工藝參數(shù)分層改變充入氮?dú)饬髁俊㈦娏?、電壓等,進(jìn)行磁控反應(yīng)濺射從而形成集熱管的太陽選擇性吸收膜層;鍍膜過程結(jié)束后關(guān)閉高閥以隔離真空室與擴(kuò)散泵室,維持?jǐn)U散泵真空,真空室此時可充氣開門取出工件,重新裝填工件后進(jìn)入下一個操作循環(huán)。
磁控濺射鍍膜機(jī)核心控制部分采用PLC控制,由于PLC采用現(xiàn)代大規(guī)模集成電路技術(shù)、嚴(yán)格的生產(chǎn)工藝制造,內(nèi)部電路采取先進(jìn)的抗干擾技術(shù),具有很高的可靠性。PLC根據(jù)預(yù)設(shè)程序?qū)崿F(xiàn)對電磁閥、真空泵、旋轉(zhuǎn)電機(jī)等進(jìn)行邏輯過程控制,通過模擬量輸入輸出模塊對電流、電壓、溫度、流量等進(jìn)行模擬量信號采集處理,運(yùn)行工藝參數(shù)。此外,PLC帶有硬件故障自我檢測功能,出現(xiàn)故障時可及時發(fā)出警報信息,并可編入外圍器件的故障自診斷程序,使系統(tǒng)中除PLC以外的電路及設(shè)備也獲得故障自診斷保護(hù)。
人機(jī)界面采用大屏幕觸摸屏,通過程序編寫和畫面編輯,把整個系統(tǒng)做成逼真的畫面顯示在屏幕上,輔以動畫演示,可形象直觀表現(xiàn)出設(shè)備運(yùn)行狀態(tài)和各種參數(shù)。由于界面更形象直觀,各種操作觸控按鈕及數(shù)據(jù)可顯示在模擬畫面的相應(yīng)位置,使操作人員更能理解和掌握設(shè)備運(yùn)行系統(tǒng)原理,從而減少誤操作,設(shè)備故障時也能更快捷發(fā)現(xiàn)和排除故障,并且觸摸屏還能生成各種數(shù)據(jù)的歷史記錄,方便質(zhì)量控制和管理。
利用PLC的通訊功能,可將一臺或多臺鍍膜機(jī)生產(chǎn)的現(xiàn)場數(shù)據(jù)傳送到上位機(jī),實(shí)現(xiàn)現(xiàn)場數(shù)據(jù)集中監(jiān)控。上位機(jī)組態(tài)軟件豐富的功能可方便監(jiān)控工藝過程,分析研究工藝參數(shù),及時調(diào)整工藝參數(shù)以獲得更好的鍍膜效果。
(1)實(shí)時數(shù)據(jù)顯示。實(shí)時顯示磁控靶電源電壓、電流、各真空計數(shù)值、氣體流量等現(xiàn)場參數(shù)數(shù)值;可根據(jù)需要定時記錄設(shè)備運(yùn)行情況及重要工藝參數(shù),并形成報表文件和歷史曲線。
(2)故障報警記錄。在設(shè)備出現(xiàn)故障時監(jiān)控系統(tǒng)自動彈出報警畫面和文字提示,同時報警燈閃爍。根據(jù)故障的輕重緩急,可對報警信息進(jìn)行分類并記錄所有報警信息,以備檢修時查詢。
(3)自動診斷保護(hù)。當(dāng)設(shè)備出現(xiàn)嚴(yán)重故障時,監(jiān)控系統(tǒng)可自動啟動保護(hù)措施減少因故障對設(shè)備造成的損害;可自行檢測上、下位機(jī)通信是否正常。
(4)其他功能。該計算機(jī)監(jiān)控系統(tǒng)還設(shè)置了系統(tǒng)時鐘、設(shè)備輸入輸出點(diǎn)監(jiān)控界面、設(shè)備操作說明界面等,方便用戶查詢、使用。
依據(jù)磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的工藝要求,鍍膜生產(chǎn)控制可設(shè)計成四個分時動作過程。
第一個過程是真空獲得,為保證鍍膜的質(zhì)量,系統(tǒng)要求必須具備一定的本底真空;第二個過程是可供選用的離子轟擊,為了提高膜層的附著力,采用高能離子轟擊清洗工件表面,以去除表面雜物;第三個過程是磁控濺射鍍膜,空間、電離與從陰極發(fā)出來的電子,在磁場和電場中受到洛侖茲力的作用,沿著磁場的方向作擺線動力前進(jìn),大大增加了電子的運(yùn)動路徑,電子轟擊氬原子,氬原子電離成氬離子和電子,氬離子在電場作用下轟擊陰極(靶材),而靶材“溢出”金屬粒子與二次電子,形成自持的輝光放電,金屬粒子沉積到工件表面行成金屬薄膜為非反應(yīng)濺射,再加入氮、氧等活性氣體,形成金屬與介質(zhì)的復(fù)合薄膜(吸收層)為反應(yīng)濺射,當(dāng)活性氣體成分多時,形成介質(zhì)薄膜;第四個過程是系統(tǒng)開關(guān)機(jī),這是鍍膜前后對整個設(shè)備的處理操作。
磁控鍍膜生產(chǎn)線真空系統(tǒng)采用滑閥真空泵、羅茨真空泵、高真空油擴(kuò)散泵機(jī)組獲取低真空和高真空。采用微機(jī)型數(shù)顯真空計檢測真空度,該過程的自動化控制包括:機(jī)械泵、擴(kuò)散泵、真空計、水泵的啟??刂疲桓髡婵沼嫷母?、低真空值輸出控制;各真空閥門、翻板閥的開閉控制。
整套設(shè)備采用循環(huán)水處理冷卻,所以系統(tǒng)在沒有接收到水壓指示前不能開啟真空機(jī)組。翻板閥用來實(shí)現(xiàn)大氣與低真空室以及低真空室與高真空室之間的隔離;真空閥門用來控制真空抽氣通路的通斷。系統(tǒng)通過控制氣動裝置來實(shí)現(xiàn)對閥門的打開與關(guān)閉。
對于某些機(jī)型(如亞克力鍍膜生產(chǎn)線),為了提高薄膜的附著力,本系統(tǒng)采用高能離子轟擊作為鍍前處理工藝。在轟擊清洗過程中,控制指標(biāo)是氬氣質(zhì)量流量、轟擊電壓、轟擊電流、轟擊時間和傳動速度等;為了滿足鍍膜工藝的要求,可選擇工件緩慢地通過轟擊室,一邊行進(jìn)一邊轟擊;也可選擇工件停留在轟擊室,轟擊一段時間后再進(jìn)入緩沖室,這就實(shí)現(xiàn)了對工件的高能離子清洗。
為了滿足鍍膜工藝的要求,鍍膜過程中需要控制氬氣質(zhì)量流量、反應(yīng)氣體質(zhì)量流量、各靶濺射電壓、濺射電流和鍍膜傳動速度等指標(biāo)。當(dāng)工件行進(jìn)至磁控靶前,靶電流由維持狀態(tài)自動轉(zhuǎn)至工作狀態(tài),對工件進(jìn)行鍍膜,直至工件離開該靶后,回復(fù)至維持狀態(tài),最大限度地節(jié)省靶材。為有效保護(hù)磁控靶及靶電源,系統(tǒng)設(shè)計了水壓、真空度控制和過流、過熱故障報警功能,以及靶電源電壓、電流的緩升降功能。
自動開機(jī),是從擴(kuò)散泵預(yù)熱開始,真空抽氣系統(tǒng)自動工作直至鍍膜室真空度達(dá)到后,磁控靶自動啟動,這一段過程的所有操作均由設(shè)備自動完成。
自動關(guān)機(jī),是生產(chǎn)線鍍膜工作完成后,自動關(guān)閉磁控靶,并逐步關(guān)閉真空抽氣系統(tǒng),這一段過程的所有操作均由設(shè)備自動完成。
通過以上自動化功能的實(shí)現(xiàn),可極大地方便太陽能生產(chǎn)企業(yè)實(shí)時監(jiān)督和控制生產(chǎn)過程,加強(qiáng)質(zhì)量管理和控制,使企業(yè)更加規(guī)范,更能適應(yīng)現(xiàn)代企業(yè)發(fā)展的要求。作為一套成功的鍍膜生產(chǎn)線計算機(jī)監(jiān)控自動化控制系統(tǒng),具有極大的推廣價值和應(yīng)用前景,從而促進(jìn)我國真空鍍膜設(shè)備計算機(jī)監(jiān)控技術(shù)的發(fā)展。