楊 俊,鞠智芹,童創(chuàng)明
(空軍工程大學(xué)導(dǎo)彈學(xué)院,陜西三原 713800)
由于各種新型探測(cè)系統(tǒng)和精確制導(dǎo)武器的相繼問世,隱身兵器的重要性與日俱增。與此同時(shí),反隱身技術(shù)也在深入發(fā)展。雷達(dá)隱身的實(shí)質(zhì)在于通過對(duì)目標(biāo)的雷達(dá)特征進(jìn)行控制,因此,隱身與反隱身探索必須從目標(biāo)電磁散射特性研究入手。
減小目標(biāo)的RCS,除了對(duì)目標(biāo)進(jìn)行幾何造型處理外,還需要在目標(biāo)上涂覆RA M,所以研究涂覆RA M的雷達(dá)目標(biāo)的電磁散射特性對(duì)于預(yù)估隱身目標(biāo)的RCS有重要意義。在這個(gè)過程中,通常在物體表面施加合適的阻抗邊界條件,通過參照無限大平面情況的散射問題,確定出與材料散射特性相關(guān)的反射系數(shù),從而求得介質(zhì)表面的散射場(chǎng)[1]。文中研究了反射系數(shù)與涂覆厚度、入射波頻率的關(guān)系,并比較了平板涂覆前后的RCS。
如圖1所示,從自由空間到金屬體共N層,編號(hào)
垂直極化反射系數(shù):
圖1 多層介質(zhì)反射模型
平行極化反射系數(shù):
在此式中:
1)垂直入射由金屬層和一層吸波材料組成的涂敷目標(biāo)表面[3]
介質(zhì)參數(shù)為εr=2.5-j 0.16,金屬層參數(shù)為ε=1.8×107,μ=470,入射頻率f=10GHz。
由圖2看出,當(dāng)涂層厚度增加時(shí)反射系數(shù)的絕對(duì)值逐漸減小,且在厚度達(dá)到7c m前震蕩得比較明顯。之后震蕩趨于穩(wěn)定,當(dāng)厚度達(dá)到比較大時(shí),反射系數(shù)絕對(duì)值就等于0.226。
2)金屬平板上涂有5層不同介質(zhì)[4]
為研究多層介質(zhì)反射特性,將目前所能獲得的雷達(dá)吸波材料的典型特性概括為16種,這是現(xiàn)在比較流行也是被廣泛接受的方法。下面分別計(jì)算了入射波垂直入射與以40°角入射時(shí),反射系數(shù)與頻率之間的關(guān)系變化。介質(zhì)參數(shù)見表1。
圖3顯示,不管是垂直入射還是斜入射,在頻率達(dá)到2GHz前反射系數(shù)隨著頻率的增大而減小,之后斜入射的反射系數(shù)增大,而垂直入射反射系數(shù)繼續(xù)減小。
圖2 垂直入射涂有一層介質(zhì)目標(biāo)的反射系數(shù)
圖3 垂直入射與斜入射時(shí)反射系數(shù)比較
表1 介質(zhì)參數(shù)
3)平板在涂吸波材料前后RCS比較[5]
平板尺寸為0.3 m×0.3 m,入射波頻率為8.6GHz,吸波涂層介質(zhì)參數(shù)分別為ε′r=16.05,ε′i=-1.64,μ′r=1.75,μ′i=-1.72。
由平板涂覆介質(zhì)前后的RCS比較,充分說明吸波材料對(duì)減小RCS起到明顯作用(見圖4)。
圖4 平板涂覆介質(zhì)前后的RCS比較
在隱身武器的設(shè)計(jì)中,除對(duì)目標(biāo)進(jìn)行幾何造型處理以減小其RCS外,還需要在目標(biāo)的局部或全部涂敷雷達(dá)吸波材料(RA M),以減小某些較強(qiáng)的散射面或棱邊在一定的空域內(nèi)較強(qiáng)的散射貢獻(xiàn)[6]。因此通過單層或多層、局部或全部的涂敷RA M的復(fù)雜目標(biāo)進(jìn)行RCS分析對(duì)武器的設(shè)計(jì)、隱身與反隱身的研究尤為重要。文中研究了涂敷平板的反射系數(shù)的某些性質(zhì),并通過一平板在涂敷RA M前后的RCS比較,更進(jìn)一步證明了RA M對(duì)減小目標(biāo)的RCS的作用,顯示了RA M對(duì)隱身技術(shù)的貢獻(xiàn)。下一步工作是引入優(yōu)化算法,探討RA M的層數(shù)、各層厚度和介電常數(shù)、磁導(dǎo)率設(shè)置為多少使得散射截面最小的問題。
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